一種晶圓氧化用高溫擴散爐管的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種晶圓氧化用高溫擴散爐管，包括爐管本體，爐管本體內(nèi)具有內(nèi)腔，在爐管本體的一端設(shè)有第一進氣口，第一進氣口上設(shè)有第一勻氣裝置，第一勻氣裝置連接外部的第一進氣管，在爐管本體的另一端設(shè)有第二進氣口，第二進氣口上設(shè)有第二勻氣裝置，第二勻氣裝置連接外部的第二進氣管，且第一進氣口設(shè)置在爐管本體一側(cè)的上端，第二進氣口設(shè)置在爐管本體另一側(cè)的下端，在爐管本體的下端設(shè)有尾氣排放口，尾氣排放口設(shè)有過濾裝置，過濾裝置連接外部的尾氣管道，本實用新型采用非對稱設(shè)置的兩個進氣口，且均在進氣口處安裝勻氣裝置，能夠進一步過濾進入內(nèi)腔的氣體，同時能夠保證氣體的均勻性，提高晶圓氧化的均勻性。
【專利說明】
一種晶圓氧化用高溫擴散爐管
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域，具體為一種晶圓氧化用高溫擴散爐管。
【背景技術(shù)】
[0002]擴散爐管是半導(dǎo)體器件制造過程中用于對硅片進行擴散、氧化及燒結(jié)等工藝的一種熱加工設(shè)備。主要反應(yīng)裝置一般分為水平式和直立式兩種，半導(dǎo)體材料在高純凈的反應(yīng)腔內(nèi)進行高溫反應(yīng)，此過程一般需要通入不同種類的氣體或?qū)η惑w進行抽真空處理。整個生產(chǎn)過程需要操作、生產(chǎn)設(shè)備需要純凈、輕便、耐高溫，現(xiàn)有的晶圓氧化爐一般為直通式進氣口，而且只設(shè)置一個，雖然設(shè)置氣體調(diào)節(jié)閥，但是氣體進入爐管后，呈不均勻性分布，容易造成晶圓表面氧化不均勻，影響晶圓質(zhì)量。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型的目的在于提供一種晶圓氧化用高溫擴散爐管，以解決上述【背景技術(shù)】中提出的問題。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案:一種晶圓氧化用高溫擴散爐管，包括爐管本體，所述爐管本體內(nèi)具有內(nèi)腔，在所述爐管本體的一端設(shè)有第一進氣口，所述第一進氣口上設(shè)有第一勻氣裝置，所述第一勻氣裝置連接外部的第一進氣管，在所述爐管本體的另一端設(shè)有第二進氣口，所述第二進氣口上設(shè)有第二勻氣裝置，所述第二勻氣裝置連接外部的第二進氣管，且所述第一進氣口設(shè)置在爐管本體一側(cè)的上端，所述第二進氣口設(shè)置在爐管本體另一側(cè)的下端，在所述爐管本體的下端設(shè)有尾氣排放口，所述尾氣排放口設(shè)有過濾裝置，所述過濾裝置連接外部的尾氣管道。
[0005]優(yōu)選的，所述第一勻氣裝置和第二勻氣裝置結(jié)構(gòu)完全一致，包括耐高溫框架，在所述耐高溫框架一端設(shè)有進氣口，所述耐高溫框架內(nèi)設(shè)有第一勻氣層、第二勻氣層、第三勻氣層，且所述第一勻氣層、第二勻氣層、第三勻氣層與耐高溫框架垂直交錯布置，在所述耐高溫框架的另一端設(shè)有微孔材料層，所述微孔材料層包括基材層、粘合層、聚四氟乙烯微孔膜層，所述基材層通過粘合層連接聚四氟乙烯微孔膜層，所述聚四氟乙烯微孔膜層的微孔孔徑為I微米-20微米。
[0006]優(yōu)選的，所述過濾裝置包括筒體，所述筒體為“T”字形結(jié)構(gòu)，所述筒體的底部設(shè)有密封層，在所述筒體的側(cè)壁上均勻設(shè)有若干個微孔，且呈環(huán)狀分布在筒體的側(cè)壁。
[0007]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是:本實用新型結(jié)構(gòu)設(shè)計新穎，采用非對稱設(shè)置的兩個進氣口，能夠保證進入的氣體分布在晶圓的上部和下部，且均在進氣口處安裝勻氣裝置，采用的勻氣裝置包括多個勻氣層和微孔材料層，多個勻氣層交錯設(shè)置，能夠保證氣體流通的均勻性，采用的微孔材料層能夠進一步對氣體進行均勻布氣，保證了進入內(nèi)腔氣體的均勻性，提高晶圓氧化的均勻性;另外本實用新型采用的過濾裝置，能夠提高氣體過濾速度，且過濾后的氣體從筒體側(cè)壁的微孔排出，能夠提高尾氣排出效率。
【附圖說明】
[0008]圖1為本實用新型的整體結(jié)構(gòu)不意圖；
[0009]圖2為本實用新型的勻氣裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0010]圖3為本實用新型的微孔材料層剖視圖；
[0011 ]圖4為本實用新型的過濾裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖中:1、爐管本體;2、內(nèi)腔;3、第一進氣口；4、第一勻氣裝置;5、第一進氣管;6、第二進氣口 ；7、第二勻氣裝置;8、第二進氣管;9、尾氣排放口；10、過濾裝置;11、尾氣管道;12、耐高溫框架；13、進氣口； 14、第一勻氣層；15、第二勻氣層；16、第三勻氣層;17、微孔材料層；18、基材層;19、粘合層;20、聚四氟乙烯微孔膜層;21、筒體;22、密封層;23、微孔。
【具體實施方式】
[0013]下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0014]請參閱圖1-4，本實用新型提供一種技術(shù)方案:一種晶圓氧化用高溫擴散爐管，包括爐管本體1，爐管本體I內(nèi)具有內(nèi)腔2，在爐管本體I的一端設(shè)有第一進氣口 3，第一進氣口 3上設(shè)有第一勻氣裝置4，第一勻氣裝置4連接外部的第一進氣管5，在爐管本體I的另一端設(shè)有第二進氣口 6，第二進氣口 6上設(shè)有第二勻氣裝置7，第二勻氣裝置7連接外部的第二進氣管8，且第一進氣口 3設(shè)置在爐管本體I 一側(cè)的上端，第二進氣口 6設(shè)置在爐管本體I另一側(cè)的下端，在爐管本體I的下端設(shè)有尾氣排放口 9，尾氣排放口 9設(shè)有過濾裝置10，過濾裝置10連接外部的尾氣管道11。本實用新型的勻氣層也采用微孔材料，且使用孔徑為10微米-500微米的微孔陶瓷。
[0015]本實施例中，第一勻氣裝置4和第二勻氣裝置7結(jié)構(gòu)完全一致，包括耐高溫框架12，在耐高溫框架12—端設(shè)有進氣口 13，耐高溫框架12內(nèi)設(shè)有第一勻氣層14、第二勻氣層15、第三勻氣層16，且第一勻氣層14、第二勻氣層15、第三勻氣層16與耐高溫框架12垂直交錯布置，在耐高溫框架12的另一端設(shè)有微孔材料層17，微孔材料層17包括基材層18、粘合層19、聚四氟乙烯微孔膜層20，基材層18通過粘合層19連接聚四氟乙烯微孔膜層20，聚四氟乙烯微孔膜層20的微孔孔徑為I微米-20微米，基材層材質(zhì)為滌綸、聚酰亞胺纖維、聚苯硫醚纖維、芳綸、聚四氟乙烯纖維、腈綸、聚丙烯纖維或聚甲基丙烯酸甲酯纖維中的一種或多種，本實用新型采用非對稱設(shè)置的兩個進氣口，能夠保證進入的氣體分布在晶圓的上部和下部，且均在進氣口處安裝勻氣裝置，采用的勻氣裝置包括多個勻氣層和微孔材料層，多個勻氣層交錯設(shè)置，能夠保證氣體流通的均勻性，采用的微孔材料層能夠進一步對氣體進行均勻布氣，保證了進入內(nèi)腔氣體的均勻性，提高晶圓氧化的均勻性。
[0016]本實施例中，過濾裝置10包括筒體21，筒體21為“T”字形結(jié)構(gòu)，筒體21的底部設(shè)有密封層22，在筒體21的側(cè)壁上均勻設(shè)有若干個微孔23，且呈環(huán)狀分布在筒體21的側(cè)壁，本實用新型采用微孔過濾技術(shù)，能夠提高氣體過濾速度，且過濾后的氣體從筒體側(cè)壁的微孔排出，能夠提高尾氣排出效率。
[0017]各位技術(shù)人員須知:雖然本實用新型已按照上述【具體實施方式】做了描述，但是本實用新型的發(fā)明思想并不僅限于此實用新型，任何運用本發(fā)明思想的改裝，都將納入本專利專利權(quán)保護范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種晶圓氧化用高溫擴散爐管，包括爐管本體(I)，其特征在于:所述爐管本體(I)內(nèi)具有內(nèi)腔(2)，在所述爐管本體(I)的一端設(shè)有第一進氣口(3)，所述第一進氣口(3)上設(shè)有第一勻氣裝置(4)，所述第一勻氣裝置(4)連接外部的第一進氣管(5)，在所述爐管本體(I)的另一端設(shè)有第二進氣口(6)，所述第二進氣口(6)上設(shè)有第二勻氣裝置(7)，所述第二勻氣裝置(7)連接外部的第二進氣管(8)，且所述第一進氣口(3)設(shè)置在爐管本體(I)一側(cè)的上端，所述第二進氣口(6)設(shè)置在爐管本體(I)另一側(cè)的下端，在所述爐管本體(I)的下端設(shè)有尾氣排放口(9)，所述尾氣排放口(9)設(shè)有過濾裝置(10)，所述過濾裝置(10)連接外部的尾氣管道(11)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓氧化用高溫擴散爐管，其特征在于:所述第一勻氣裝置(4)和第二勻氣裝置(7)結(jié)構(gòu)完全一致，包括耐高溫框架(12)，在所述耐高溫框架(12) —端設(shè)有進氣口(13)，所述耐高溫框架(12)內(nèi)設(shè)有第一勻氣層(14)、第二勻氣層(15)、第三勻氣層(16)，且所述第一勻氣層(14)、第二勻氣層(15)、第三勻氣層(16)與耐高溫框架(12)垂直交錯布置，在所述耐高溫框架(12)的另一端設(shè)有微孔材料層(17)，所述微孔材料層(17)包括基材層(18)、粘合層(19)、聚四氟乙烯微孔膜層(20)，所述基材層(18)通過粘合層(19)連接聚四氟乙烯微孔膜層(20)，所述聚四氟乙烯微孔膜層(20)的微孔孔徑為I微米-20微米。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓氧化用高溫擴散爐管，其特征在于:所述過濾裝置(1 )包括筒體(21)，所述筒體(21)為“T”字形結(jié)構(gòu)，所述筒體(21)的底部設(shè)有密封層(22 )，在所述筒體(21)的側(cè)壁上均勻設(shè)有若干個微孔(23)，且呈環(huán)狀分布在筒體(21)的側(cè)壁。
【文檔編號】C30B31/16GK205635862SQ201620336030
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年4月19日
【發(fā)明人】蔡倫
【申請人】溫州巨亮光伏科技有限公司