一種鍍制有防藍(lán)光納米薄膜的玻璃的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及玻璃，尤其涉及一種鍍制有防藍(lán)光納米薄膜的玻璃。
【背景技術(shù)】
[0002]世衛(wèi)組織WHO愛眼協(xié)會(huì)公布:2006年至2008年因藍(lán)光、輻射每年導(dǎo)致全球超過30000人失明，并在2009年底發(fā)出橙色預(yù)警:“藍(lán)色光輻射對(duì)人類的潛在隱性威脅將遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過蘇丹紅、三聚氰胺、SAS1、HINI的破壞性，無形中吞噬人的雙眼”。藍(lán)光對(duì)人體危害較其他波長(zhǎng)的光線尤為嚴(yán)重。德國(guó)眼科專家李查德馮克教授的研究報(bào)告指出當(dāng)“不合適的光”持續(xù)照射我們的眼睛，會(huì)引起功能失調(diào)，尤其是手機(jī)，電腦屏幕等發(fā)出的含有大量不規(guī)則頻率的高能短波藍(lán)光，這些短波藍(lán)光具有極高能量，能夠穿透晶狀體直達(dá)視網(wǎng)膜，對(duì)視網(wǎng)膜造成光化學(xué)損害，直接或間接導(dǎo)致黃斑區(qū)細(xì)胞的損害。
[0003]目前市場(chǎng)上防藍(lán)光是屏幕保護(hù)膜即貼膜，以PET為原材，在PET材料表層經(jīng)涂布特別處理，采用與顯示器件貼合的方式消減藍(lán)光的透過。在顯示器上直接用真空磁控濺射鍍膜工藝在玻璃基板表面上鍍制一種防藍(lán)光光學(xué)納米薄膜還未應(yīng)用市場(chǎng)及相關(guān)顯示器件。目前防藍(lán)光屏幕保護(hù)膜以PET為載體，其本身材質(zhì)比較軟，表面硬度低，抗老化能力差，易產(chǎn)生靜電。在顯示器件面采用離型膜貼合方式，特別是與大尺寸顯示器件貼合時(shí)易包覆空氣而產(chǎn)生氣泡出現(xiàn)彩虹紋，在PET貼合界面涂布有硅膠，其厚薄不均將嚴(yán)重影響了防藍(lán)光性會(huì)K。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題在于，針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種鍍制有防藍(lán)光納米薄膜，進(jìn)而減輕藍(lán)光對(duì)眼睛的刺激、傷害，消除眼睛酸澀、發(fā)脹或者疼痛等不適癥狀，緩解眼睛疲勞，并達(dá)到防藍(lán)色光潤(rùn)眼效果的玻璃。
[0005]為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案。
[0006]—種鍍制有防藍(lán)光納米薄膜的玻璃，其包括有玻璃基板，所述玻璃基板上設(shè)有第一HO2O3層，所述第一 HO 203層上設(shè)有第一 S1 2層，所述第一 S1 2層上設(shè)有第二 HO 203層，所述第二 HO2O3層上設(shè)有第二 S1 2層，且由所述第一 HO 203層、第一 S1 2層、第二 HO 203層和第二S1Jl構(gòu)成防藍(lán)光納米薄膜。
[0007]優(yōu)選地，所述第一 HO2O3層的厚度為21nm-30nm，所述第一 S1 2層的厚度為20nm-30nm，所述第二 110203層的厚度為45nm_65nm，所述第二 S1 2層的厚度為40nm-60nm。
[0008]優(yōu)選地，所述第一 HO2O3層的厚度為25nm，所述第一 S1 2層的厚度為25nm，所述第二 HO2O3層的厚度為55nm，所述第二 S1 2層的厚度為50nmo
[0009]本實(shí)用新型公開的鍍制有防藍(lán)光納米薄膜的玻璃，采用真空磁控濺射鍍膜工藝在玻璃基板表面上鍍制一種防藍(lán)光光學(xué)納米薄膜，膜層具備兼顧可見光的透過率同時(shí)又阻隔一部分高能量藍(lán)光透過的光學(xué)特性，在保證屏幕色彩不失真的情況下達(dá)到高能量藍(lán)光消減的功能，主要應(yīng)用于高清的手機(jī)玻璃蓋板、電腦顯示屏玻璃面板、電視保護(hù)屏玻璃面板、醫(yī)療儀器顯示屏玻璃面板、液晶顯示屏等，本實(shí)用新型大大減輕藍(lán)光對(duì)眼睛的刺激、傷害，消除眼睛酸澀、發(fā)脹或者疼痛等不適癥狀，緩解眼睛疲勞，并達(dá)到防藍(lán)色光潤(rùn)眼的效果。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實(shí)用新型鍍制有防藍(lán)光納米薄膜的玻璃的側(cè)向剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0011]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作更加詳細(xì)的描述。
[0012]本實(shí)用新型公開了一種鍍制有防藍(lán)光納米薄膜的玻璃，如圖1所示，其包括有玻璃基板1，所述玻璃基板I上設(shè)有第一 HO2O3層2，所述第一 HO 203層2上設(shè)有第一 S1 2層3，所述第一 S1Jl 3上設(shè)有第二 HO 203層4，所述第二 HO 203層4上設(shè)有第二 S1 2層5，且由所述第一 HO2O3層2、第一 S1 2層3、第二 HO 203層4和第二 S1 2層5構(gòu)成防藍(lán)光納米薄膜。
[0013]本實(shí)用新型是采用真空磁控濺射鍍膜工藝在玻璃基板表面上鍍制一種防藍(lán)光光學(xué)納米薄膜，膜層具備兼顧可見光的透過率同時(shí)又阻隔一部分高能量藍(lán)光透過的光學(xué)特性，在保證屏幕色彩不失真的情況下達(dá)到高能量藍(lán)光消減的功能，主要應(yīng)用于高清的手機(jī)玻璃蓋板、電腦顯不屏玻璃面板、電視保護(hù)屏玻璃面板、醫(yī)療儀器顯不屏玻璃面板、液晶顯示屏等，本實(shí)用新型大大減輕藍(lán)光對(duì)眼睛的刺激、傷害，消除眼睛酸澀、發(fā)脹或者疼痛等不適癥狀，緩解眼睛疲勞，并達(dá)到防藍(lán)色光潤(rùn)眼的效果。
[0014]進(jìn)一步地，所述第一 HO2O3層2的厚度為21nm-30nm，所述第一 S1 2層3的厚度為20nm-30nm，所述第二 HO2O3層4的厚度為45nm_65nm，所述第二 S1 2層5的厚度為40nm-60nm。本實(shí)用新型采用的膜層結(jié)構(gòu)可根據(jù)實(shí)際需求選擇性的阻隔高能藍(lán)光的透過多少。
[0015]進(jìn)一步地，所述第一 HO2O3層的厚度為25nm，所述第一 S12層的厚度為25nm，所述第二 HO2O3層的厚度為55nm，所述第二 S1 2層的厚度為50nmo
[0016]上述鍍制有防藍(lán)光納米薄膜的玻璃的制備方法中，該方法采用工件垂直移動(dòng)的直線式多箱體連續(xù)真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)線，根據(jù)第一 HO2O3層2、第一 S1 2層3、第二 HO 203層4和第二 S1Jl 5的物理厚度計(jì)算并配置孿生磁控陰極靶數(shù)量，組成連續(xù)的中頻反應(yīng)磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，玻璃基板逐一通過各靶位完成鍍膜成品工藝。
[0017]作為一種優(yōu)選方式，所述第一 HO2O3層2和第二 HO 203層2使用了稀土材料鈥靶，反應(yīng)濺射制備時(shí)，隨著反應(yīng)氣體O2分壓的不同，濺射靶材的表面存在兩種不同的穩(wěn)定狀態(tài)，分別是金屬態(tài)和氧化態(tài)，在氧分壓低時(shí)濺射靶面上是鈥，此時(shí)靶電壓隨著(V流量的增加而產(chǎn)生變化，此時(shí)稱為金屬態(tài)，當(dāng)氧分壓增加到一個(gè)臨界值時(shí)濺射靶面的電壓急劇降低，繼續(xù)增加(V流量，靶面電壓沒有太大變化，濺射速率和沉積速率降低，此時(shí)進(jìn)入氧化狀態(tài)，第一S1Jl 3和第二 S1 2層5采用多晶硅靶，濺射控制方法同反應(yīng)濺射制備第一 HO 203層2和第二 HO2O3層2相同，真空室的本地真空度達(dá)到3.6E10-4Pa，濺射時(shí)的氣壓為2_6E_lpa，濺射氣體采用惰性氣體氬氣，氬氣流量90-120SCCM，反應(yīng)氣體氧氣45SCCM，采用靶電壓監(jiān)控法系統(tǒng)控制。根據(jù)本實(shí)用新型所需的膜厚要求選用金屬態(tài)和氧化態(tài)之間的過渡態(tài)，既保證濺射過程中濺射出的鈥原子和原子團(tuán)與氧充分反映獲得H0203，同時(shí)又能保證工藝要求的沉積速率。
[0018]本實(shí)施例中，具有一定的吸光特性的高折射率稀土氧化物介質(zhì)膜層和低折射率的二氧化硅膜層高低搭配實(shí)現(xiàn)對(duì)高能量藍(lán)光的部分阻隔，采用這種膜系設(shè)計(jì)即可滿足對(duì)高能量藍(lán)光的一定阻隔又能達(dá)到顯示器元件在其它波長(zhǎng)上透光量的增透效果。本膜系選用材料折射率:Si02折射率1