可鋼化的高耐磨性金色雙銀low-e玻璃及其制備方法
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及可鋼化的高耐磨性金色雙銀L0W-E玻璃，本發(fā)明還涉及一種磁控濺射法制備可鋼化的高耐磨性金色雙銀L0W-E玻璃的方法。
【【背景技術(shù)】】
[0002]鍍膜玻璃具有節(jié)能減排及裝飾幕墻的雙重功效，而金色玻璃作為鍍膜玻璃的一個非常規(guī)品種，深受人們喜愛。隨著節(jié)能指標(biāo)要求越來越高，在很多城市現(xiàn)有的金色類雙銀L0W-E玻璃都已無法滿足客戶需求，再加上金色玻璃產(chǎn)品深受人們的熱寵，即可鋼化的高耐磨性金色雙銀L0W-E玻璃的市場需求寵大，但由于金色L0W-E玻璃本身材料特性，無法進(jìn)行鋼化，一直以來未出現(xiàn)可鋼化的高耐磨性金色雙銀L0W-E玻璃。
【
【發(fā)明內(nèi)容】
】
[0003]本發(fā)明目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種可鋼化，色澤鮮艷，輻射率低，節(jié)能效果顯著，并且可承受800°C以上的高溫，從而實(shí)現(xiàn)可生產(chǎn)可鋼化的高耐磨性金色雙銀L0W-E玻璃，本發(fā)明還提供一種磁控濺射法制備可鋼化的高耐磨性金色雙銀L0W-E玻璃的方法。
[0004]本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
[0005]—種可鋼化的高耐磨性金色雙銀L0W-E玻璃，包括有玻璃基片30，其特征在于:在玻璃基片的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合有十五個膜層，其中第一膜層即最內(nèi)層為Si3N4層1，第二層為SSTZrO J1 2，第三層為ΑΖ0層3，第四層為Si層4，第五層為ΑΖ0層5，第六層為Cu層6，第七層為CrNx0y層7，第八層為SnO 2層8，第九層為ΑΖ0層9，第十層為Si層10，第^ 層為ΑΖ0層11，第十二層為Ag層12，第十三層為CrNx0y層13，第十四層為Si3N4層14，最外層為C層15。
[0006]如上所述的可鋼化的高耐磨性金色雙銀L0W-E玻璃，其特征在于所述第一膜層Si3N4層1的厚度為20nm，第十四層Si 3N4層14的厚度為50nmo
[0007]如上所述的可鋼化的高耐磨性金色雙銀LOW-E玻璃，其特征在于所述第二層SSTZrOjl 2 的厚度為 30 ?40nm。
[0008]如上所述的可鋼化的高耐磨性金色雙銀L0W-E玻璃，其特征在于所述第三層ΑΖ0層3的厚度為10?15nm，第五層ΑΖ0層5的厚度為10?20nm，第九層ΑΖ0層9的厚度為10nm，第十一層ΑΖ0層11的厚度為10?20nm。
[0009]如上所述的可鋼化的高耐磨性金色雙銀L0W-E玻璃，其特征在于所述第四層Si層4的厚度為3?5nm，第十層Si層10的厚度為5?8nm。
[0010]如上所述的可鋼化的高耐磨性金色雙銀L0W-E玻璃，其特征在于所述第六層Cu層6的厚度為10?15nm。
[0011]如上所述的可鋼化的高耐磨性金色雙銀L0W-E玻璃，其特征在于所述第七層CrNx0y層7和第十三層CrN x0y層13的厚度均為3nm。
[0012]如上所述的可鋼化的高耐磨性金色雙銀L0W-E玻璃，其特征在于所述第八層Sn02層8的厚度為60nmo
[0013]如上所述的可鋼化的高耐磨性金色雙銀L0W-E玻璃，其特征在于所述第十二層Ag層12的厚度為10?15nm。
[0014]如上所述的可鋼化的高耐磨性金色雙銀L0W-E玻璃，其特征在于所述最外層C層15的厚度為lOOnmo
[0015]—種制備上述的可鋼化的高耐磨性金色雙銀L0W-E玻璃的方法，其特征在于包括如下步驟:
[0016](1)磁控濺射Si3N4層，用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射硅鋁靶，硅鋁質(zhì)量百分比 92:8，氬氮比為 400SCCM ?420SCCM:450SCCM ?500SCCM ；
[0017](2)磁控濺射SSTZrOjl，用交流中頻電源、氧氣作反應(yīng)氣體濺射摻鋯的不銹鋼靶Fe:Zr = 80:20，氬氧比為 400SCCM ?420SCCM:450SCCM ?500SCCM ；
[0018](3)磁控濺射氧ΑΖ0層，用中頻交流電源濺射陶瓷Zn靶，氧化鋅比為三氧化二鋁為:Ζη0:Α1203= 50:50，用氬氣作為濺射氣體，摻入少量02，氬氧比為:400SCCM?420SCCM:20?40SCCM，為S1、Cu層作鋪墊；
[0019](4)磁控濺射Si層，交流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量500?550SCCM ；
[0020](5)磁控濺射ΑΖ0層，用中頻交流電源濺射陶瓷Zn靶，氧化鋅比為三氧化二鋁為:Ζη0:Α1203= 50:50，用氬氣作為濺射氣體，摻入少量氧氣，氬氧比為400SCCM?420SCCM:20?40SCCM，為Cu層作鋪墊；
[0021](6)磁控濺射Cu層，直流電源濺射，用氬氣作為工藝氣體，體流量500?550SCCM ;
[0022](7)磁控濺射CrNx0y層，用直流電源濺射，用氮?dú)庾龇磻?yīng)氣體，滲少量氧氣；
[0023](8)磁控濺射SnOjl，用交流中頻電源、氧氣作反應(yīng)氣體濺射Sn靶，氬氧比為400SCCM ?420SCCM:450SCCM ?500SCCM ；
[0024](9)磁控濺射ΑΖ0層，用中頻交流電源濺射陶瓷Zn靶，氧化鋅比三氧化二鋁為:Ζη0:Α1203= 50:50，用氬氣作為濺射氣體，摻入少量氧氣，氬氧比為400SCCM?420SCCM:20?40SCCM，為S1、Ag層作鋪墊；
[0025](10)磁控濺射Si層，交流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量500?550SCCM ；
[0026](11)磁控濺射ΑΖ0層，用中頻交流電源濺射陶瓷Zn靶，氧化鋅比為三氧化二鋁為:Ζη0:Α1203= 50:50，用氬氣作為濺射氣體，摻入少量氧氣，氬氧比為400SCCM?420SCCM:20?40SCCM，為Ag層作鋪墊；
[0027](12)磁控濺射Ag層，直流電源濺射，氣體流量500?550SCCM ;
[0028](13)磁控濺射CrNx0y層，用直流電源濺射，用氮?dú)庾龇磻?yīng)氣體，滲少量氧氣；
[0029](14)磁控濺射Si3N4層，用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射硅鋁靶，硅鋁質(zhì)量百分比 92:8，氬氮比為 400SCCM ?420SCCM:450SCCM ?500SCCM ；
[0030](15)磁控濺射C層，用直流電源，氬氣作為反應(yīng)氣體濺射鋁石墨靶，鋁石墨質(zhì)量百分比95: 5，用氮?dú)庾龇磻?yīng)氣體，滲少量氧氣。
[0031]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明有如下優(yōu)點(diǎn):
[0032]1、本發(fā)明特殊膜系的金色類雙銀LOW-E玻璃，采用新型膜系架構(gòu)，提高了膜層硬度及致密性。
[0033]2、色澤鮮艷，而且透光率高，達(dá)到70%以上。
[0034]3、本發(fā)明采用最外層C層作為中轉(zhuǎn)保護(hù)層，防止轉(zhuǎn)運(yùn)中被擦傷，從而實(shí)現(xiàn)可異地加工。
【【附圖說明】】
[0035]圖1是本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖。
【【具體實(shí)施方式】】
[0036]—種可鋼化的高耐磨性金色雙銀L0W-E玻璃，包括有玻璃基片30，在玻璃基片的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合有十五個膜層，其中第一膜層即最內(nèi)層為Si3N4層1，第二層為SSTZrOjl 2，第三層為ΑΖ0層3，第四層為Si層4，第五層為ΑΖ0層5，第六層為Cu層6，第七層為CrNx0y層7，第八層為SnO 2層8，第九層為ΑΖ0層9，第十層為Si層10，第^層為ΑΖ0層11，第十二層為Ag層12，第十三層為CrNx0y層13，第十四層為Si 3N4層14，最外層為C層15。
[0037]所述第一膜層為Si3N4層1，即氮化硅層，Si 3N4是一種非常堅(jiān)硬的材料，提高膜層的物理性能和抗氧化性能，它確保了整個鍍層具有良好的機(jī)械耐久性，用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射半導(dǎo)體材料S1: A1 = 92: 8，密度96%，提高膜層的物理性能和抗氧化性能。Si3N4層的厚度為 20nm。lm = 10 9nm。
[0038]所述第二層SSTZrOjl即摻鋯氧化不銹鋼層，通過在不銹鋼內(nèi)摻鋯，在反應(yīng)濺射時提高膜層的折射率，達(dá)到2.0左右，從而提升復(fù)合膜系的透過率。作調(diào)節(jié)金色顏色層，可得到較黃的金色效果。SSTZrOjl 2的厚度為30?40nm，優(yōu)選35nm。
[0039]所述第三層ΑΖ0層3，即鋁摻雜的氧化鋅層，平整層，平滑Si層，為S1、Cu層作鋪墊，降低輻射率。ΑΖ0層的厚度為10?15nm，優(yōu)選12nm。
[0040]所述第四層Si層4，即硅層，為功能層，用來作為金色提供層。Si層的厚度為3?5nm，優(yōu)選 4nm。
[0041]所述第五層ΑΖ0層5，即鋁摻雜的氧化鋅層，平整層，由于Si濺射后成簇狀結(jié)構(gòu)，通過用ΑΖ0層平滑Si層，為下層鍍Cu起打底作用，為Cu層作鋪墊，降低輻射率。ΑΖ0層的厚度為10?20nm，優(yōu)選15nm。
[0042]所述第六層Cu層6，即金屬銅層，為功能層，降低成本，色澤鮮艷。Cu層的厚度為10 ?15nm，優(yōu)選 12nm。
[0043]所述第七層CrNx0y層7，即氮氧化鉻層，提高膜層耐磨性、提可鋼化、提高鋼化時抗高溫氧化性。CrNx0y層7的厚度為3nm。
[0044]所述第八層SnOjl 8，即氧化鋅層，為中間介質(zhì)層，保護(hù)層。SnO 2層8的厚度為60nmo
[0045]所述第九層為ΑΖ0層9，即鋁摻雜的氧化鋅層，平整層，平滑Si層，為S1、Ag層作鋪墊，降低輻射率。ΑΖ0層9的厚度為10nm。
[0046]所述第十層為Si層10，即硅層，為功能層，用來作為金色提供層。Si層10的厚度為5?8nm，優(yōu)選7nm0
[0047]所述第十一層為ΑΖ0層11，即鋁摻雜的氧化鋅層，平整層，由于Si濺射后成簇狀結(jié)構(gòu)，通過用ΑΖ0層平滑Si層，為下層鍍Ag起打底作用，為Ag層作鋪墊，降低輻射率。ΑΖ0層11的厚度為10?20nm，優(yōu)選15nm。
[0048]所述第十二層為Ag層12，即金屬銀層，為功能層，金屬銀層提供了較低的輻射率，起環(huán)保節(jié)能的作用。
[0049]所述第十三層為CrNx0y層13，即氮氧化鉻層，提高膜層耐磨性、提可鋼化、提高鋼化時抗高溫氧化性。CrNx0y層13的厚度為3nm。
[0050]所述第十四膜層為Si3N4層14，即氮化硅層；Si 3N4是一種非常堅(jiān)硬的材料，提高膜層的物理性能和抗氧化性能，它確保了整個鍍層具有良好的機(jī)械耐久性，設(shè)置在次