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一種圖案蓋板的制作方法與流程

文檔序號(hào):12340162閱讀:337來(lái)源:國(guó)知局

本發(fā)明涉及玻璃蓋板外形加工技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種圖案蓋板的制作方法。



背景技術(shù):

隨著人們生活水平的不斷提高,手機(jī)、平板電腦、攝像頭、筆記本電腦等電子產(chǎn)品已經(jīng)逐漸普及。一般電子產(chǎn)品大多采用玻璃蓋板,且為了避免外觀上的單調(diào),常常在玻璃蓋板上布置一些圖案。目前,較常見(jiàn)的是玻璃蓋板上設(shè)計(jì)有花紋,一般玻璃蓋板上布置花紋為平面效果,大多采用貼膜等類似手段得到,然而貼膜的產(chǎn)品一般不耐高溫,溫度高一點(diǎn)膜可能進(jìn)空氣導(dǎo)致凸起等現(xiàn)象?,F(xiàn)有獲得花紋的另一種方式是采用曝光OC,但該方式得到的產(chǎn)品,一般OC圖層很薄(大概2-3個(gè)um),因此圖案凹凸不明顯,立體感較差。

綜上所述,如何解決玻璃蓋板上的圖案的立體感較差的問(wèn)題,已成為本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)難題。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是提供一種圖案玻璃蓋板的制作方法,以增強(qiáng)玻璃蓋板上的圖案的立體感。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了圖案玻璃蓋板的制作方法,所述圖案玻璃蓋板上的圖案通過(guò)化學(xué)蝕刻的方式得到,具體步驟包括:

遮光處理,對(duì)獲取的玻璃蓋板對(duì)應(yīng)非蝕刻的一面整體涂制遮光層;

涂膠,在所述玻璃蓋板上下表面整體涂制光刻膠層;

曝光顯影,將與所述圖案對(duì)應(yīng)的鉻板放在所述玻璃蓋板上進(jìn)行曝光顯影處理,在所述玻璃蓋板上得到被去除光刻膠層的蝕刻區(qū)和未被去除光刻膠層的非蝕刻區(qū);

固化處理,對(duì)經(jīng)曝光顯影后的玻璃蓋板上的光刻膠層進(jìn)行固化處理;

化學(xué)蝕刻,對(duì)經(jīng)固化處理后的玻璃蓋板進(jìn)行化學(xué)蝕刻,所述化學(xué)蝕刻的深度通過(guò)管控蝕刻速率和蝕刻時(shí)間來(lái)控制,且所述化學(xué)蝕刻使用的玻璃蝕刻液只對(duì)蝕刻區(qū)進(jìn)行蝕刻,非蝕刻區(qū)受光刻膠層的保護(hù)不被蝕刻;

脫膜,利用脫膜劑去除所述玻璃蓋板上非蝕刻區(qū)的光刻膠層。

優(yōu)選地,在完成所述化學(xué)蝕刻后,還包括切割工序,所述切割工序?yàn)閷⑺霾Aw板對(duì)應(yīng)所述蝕刻區(qū)的分布情況,切割成多個(gè)。

優(yōu)選地,所述切割工序采用激光進(jìn)行切割或玻璃刀輪進(jìn)行切割。

優(yōu)選地,在完成所述脫膜工序后,還包括鍍膜工序,所述鍍膜工序?yàn)樵谒霾Aw板上涂鍍一層或多層金屬薄膜。

優(yōu)選地,在完成所述鍍膜工序后,還包括絲印工序,所述絲印工序?yàn)樵谒霾Aw板的表面絲印保護(hù)膠。

優(yōu)選地,在所述遮光處理之前,還包括制作定位標(biāo)記,所述定位標(biāo)記包括供曝光機(jī)定位用的曝光定位標(biāo)記和供切割設(shè)備定位用的切割定位標(biāo)記。

優(yōu)選地,在所述涂膠之前還包括對(duì)所述玻璃蓋板的清洗工序。

優(yōu)選地,涂制所述遮光層采用油墨絲印的方式涂制所述遮光層。

相比于背景技術(shù)中所介紹的內(nèi)容,上述圖案玻璃蓋板的制作方法,采用化學(xué)蝕刻的方式得到對(duì)應(yīng)的圖案,利用玻璃蝕刻液對(duì)玻璃蓋板的蝕刻區(qū)進(jìn)行蝕刻,非蝕刻區(qū)受光刻膠層的保護(hù)不被蝕刻,通過(guò)管控蝕刻速率和蝕刻時(shí)間來(lái)控制化學(xué)蝕刻的深度。上述方法加工的圖案的花紋為實(shí)體結(jié)構(gòu),圖案的立體感更強(qiáng),且該方法可根據(jù)設(shè)計(jì)需求,自定義玻璃蓋板上的圖案的花紋深淺,使得圖案的凹凸更加明顯。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見(jiàn)地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的應(yīng)用于指紋識(shí)別功能的玻璃盲孔的制作方法的流程圖。

上圖1中,遮光處理100、涂膠200、曝光顯影300、固化處理400、化學(xué)蝕刻500、脫膜600。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明的核心是提供一種圖案玻璃蓋板的制作方法,以增強(qiáng)玻璃蓋板上的圖案的立體感。

為了使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明提供的技術(shù)方案,下面將結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明。

如圖1所示,本發(fā)明實(shí)施例提供的圖案玻璃蓋板的制作方法,所述圖案玻璃蓋板上的圖案通過(guò)化學(xué)蝕刻的方式得到,具體步驟包括:

遮光處理100,對(duì)獲取的玻璃蓋板對(duì)應(yīng)非蝕刻的一面整體涂制遮光層;

涂膠200,在玻璃蓋板上下表面整體涂制光刻膠層;

曝光顯影300,將與圖案對(duì)應(yīng)的鉻板放在玻璃蓋板上進(jìn)行曝光顯影處理,在玻璃蓋板上得到被去除光刻膠層的蝕刻區(qū)和未被去除光刻膠層的非蝕刻區(qū);

固化處理400,對(duì)經(jīng)曝光顯影300后的玻璃蓋板上的光刻膠層進(jìn)行固化處理;

化學(xué)蝕刻500,對(duì)經(jīng)固化處理400后的玻璃蓋板進(jìn)行化學(xué)蝕刻,化學(xué)蝕刻的深度通過(guò)管控蝕刻速率和蝕刻時(shí)間來(lái)控制,且化學(xué)蝕刻使用的玻璃蝕刻液只對(duì)蝕刻區(qū)進(jìn)行蝕刻,非蝕刻區(qū)受光刻膠層的保護(hù)不被蝕刻;

脫膜600,利用脫膜劑去除玻璃蓋板上非蝕刻區(qū)的光刻膠層。

相比于背景技術(shù)中所介紹的內(nèi)容,上述圖案玻璃蓋板的制作方法,采用化學(xué)蝕刻的方式得到對(duì)應(yīng)的圖案,利用玻璃蝕刻液對(duì)玻璃蓋板的蝕刻區(qū)進(jìn)行蝕刻,非蝕刻區(qū)受光刻膠層的保護(hù)不被蝕刻,通過(guò)管控蝕刻速率和蝕刻時(shí)間來(lái)控制化學(xué)蝕刻的深度。上述方法加工的圖案的花紋為實(shí)體結(jié)構(gòu),圖案的立體感更強(qiáng),且該方法可根據(jù)設(shè)計(jì)需求,自定義玻璃蓋板上的圖案的花紋深淺,使得圖案的凹凸更加明顯。

需要說(shuō)明的是,由于玻璃蓋板一般為透明透光體,上述遮光處理中,當(dāng)需要對(duì)玻璃蓋板的上表面進(jìn)行蝕刻圖案時(shí),對(duì)玻璃蓋板的下表面整體涂制遮光層;當(dāng)需要對(duì)玻璃蓋板的下表面進(jìn)行蝕刻圖案時(shí),對(duì)玻璃蓋板的上表面整體涂制遮光層,使得在對(duì)玻璃蓋板上表面或下表面任一面曝光時(shí),另一面不受影響。且通過(guò)在非蝕刻的一面涂制遮光層,蝕刻的一面不涂制遮光層,使得蝕刻時(shí),被蝕刻的一面不受遮光層的影響,蝕刻效果不受影響。

進(jìn)一步需要說(shuō)明的是,上述化學(xué)蝕刻的深度,可以通過(guò)蝕刻速率一定,通過(guò)蝕刻時(shí)間的長(zhǎng)短來(lái)控制化學(xué)蝕刻的深度,例如需要蝕刻一個(gè)10um深的圖案,蝕刻速率是2um/min,這時(shí)所需要的蝕刻時(shí)間是蝕刻深度除以蝕刻速率,也就是5min左右。當(dāng)然還可以通過(guò)蝕刻時(shí)間一定,通過(guò)蝕刻速率的快慢來(lái)控制化學(xué)蝕刻的深度。一般不同的玻璃蝕刻液對(duì)應(yīng)的蝕刻速率不同。

另外需要說(shuō)明的是,一般光刻膠分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠兩類,正性光刻膠被光照射的部分可以被顯影液去除掉,而未曝光的部分則不會(huì)被顯影液去除;負(fù)性光刻膠則相反,被光照射的部分不會(huì)被顯影液去除,而其余不被光所照射的區(qū)域?qū)?huì)被顯影液去除掉。因此可以理解的是,本發(fā)明實(shí)施例提供的上述鉻板,當(dāng)光刻膠層為正性光刻膠涂制時(shí),上述鉻板對(duì)應(yīng)上述圖案的部分透光,其余部分遮光;當(dāng)光刻膠層為負(fù)性光刻膠涂制時(shí),上述鉻板對(duì)應(yīng)上述圖案的部分遮光,其余部分透光。另外,本發(fā)明實(shí)施例提供的遮光層,當(dāng)上述光刻膠層為正性光刻膠涂制時(shí),上述遮光層為黑色遮光體,避免曝光時(shí),玻璃蓋板的不需要蝕刻的一面的光刻膠被光照射;當(dāng)上述光刻膠層為負(fù)性光刻膠涂制時(shí),上述遮光層為透光體,使得曝光時(shí)玻璃蓋板的不需要蝕刻的一面的光刻膠被光照射到,進(jìn)而顯影過(guò)程中光刻膠層不會(huì)被去除。

進(jìn)一步地技術(shù)方案中,本發(fā)明提供的實(shí)施例中,在完成化學(xué)蝕刻500后,還包括切割工序,該切割工序?yàn)閷⑺霾Aw板對(duì)應(yīng)所述蝕刻區(qū)的分布情況,切割成多個(gè)。通過(guò)蝕刻之前對(duì)玻璃蓋板切割成多個(gè),降低了單片玻璃蓋板的大小,因此降低了蝕刻容器的體積要求。

具體地,上述切割工序采用激光進(jìn)行切割或玻璃刀輪進(jìn)行切割。當(dāng)然可以理解的是,還可以使用本領(lǐng)域技術(shù)人員常用的其他切割玻璃蓋板的方式進(jìn)行切割,只不過(guò)本發(fā)明實(shí)施例優(yōu)選采用激光進(jìn)行切割或玻璃刀輪進(jìn)行切割而已。

進(jìn)一步地,在完成脫膜工序后,還包括鍍膜工序,該鍍膜工序?yàn)樵诓Aw板上涂鍍一層或多層金屬薄膜。通過(guò)鍍膜使得,玻璃蓋板的光學(xué)性能得到改善。比如在玻璃蓋板表面鍍一層或多層諸如鉻、鈦或不銹鋼等金屬或其化合物組成的薄膜,使產(chǎn)品呈豐富的色彩,對(duì)于可見(jiàn)光有適當(dāng)?shù)耐干渎?,?duì)紅外線有較高的反射率,對(duì)紫外線有較高吸收率。

更進(jìn)一步地,在完成上述鍍膜工序后,還包括絲印工序,該絲印工序?yàn)樵诓Aw板的表面絲印油墨,油墨的顏色可以有多種,白色,黑色,金色,銀色等等,通過(guò)對(duì)鍍膜后的玻璃蓋板絲印油墨,增加了產(chǎn)品的色彩和立體感。

進(jìn)一步地,在上述技術(shù)方案中,在遮光處理100之前,還包括制作定位標(biāo)記,定位標(biāo)記包括供曝光機(jī)定位用的曝光定位標(biāo)記和供切割設(shè)備定位用的切割定位標(biāo)記。當(dāng)然還可以是本領(lǐng)域技術(shù)人員常需要用到的其他定位標(biāo)記。具體的,本方案中的定位標(biāo)記(也常稱為MARK標(biāo))一般是采用黃光工藝在玻璃蓋板表面制作一層高精度的油墨標(biāo)記,當(dāng)然,本領(lǐng)域還可以利用其它現(xiàn)有方法制作定位標(biāo)記,本方案不再贅述。其中,定位標(biāo)記的形狀可以為矩形、折線型、十字交叉形或其他形狀等,在曝光機(jī)或切割設(shè)備工作時(shí),其定位部件會(huì)自動(dòng)捕捉并參考玻璃板材上的定位標(biāo)記進(jìn)行定位,從而可以使曝光顯影以及切割的尺寸更加精確。

進(jìn)一步地,在上述涂膠200之前,還可以包括對(duì)玻璃蓋板的清洗工序,清洗的主要目的是清除玻璃蓋板表層的雜物及污漬,使得涂制的光刻膠層更加勻稱,曝光顯影后的效果更好。

更進(jìn)一步地,上述涂制遮光層采用的是油墨絲印的方式涂制遮光層。該遮光層可以選為不可曝光的油墨,但需要說(shuō)明的是,使用不可曝光的油墨時(shí),對(duì)應(yīng)涂制光刻膠層時(shí),使用的光刻膠為正性光刻膠;當(dāng)然還可以使用可曝光的油墨,且涂制光刻膠層為負(fù)性光刻膠。當(dāng)然涂布方法也可是本領(lǐng)域技術(shù)人員常用的其他涂制方法,比如使用輥涂方法將油墨涂制成遮光層等等。

可以理解的是,上述方法制作的圖案玻璃蓋板,可以應(yīng)用到許多帶有玻璃板材的電子產(chǎn)品,比如手機(jī)的前后蓋板、攝像頭蓋板、筆記本觸摸板等等。

以上對(duì)本發(fā)明所提供的圖案玻璃蓋板的制作方法進(jìn)行了詳細(xì)介紹。需要說(shuō)明的是,本說(shuō)明書(shū)中的各個(gè)實(shí)施例均采用遞進(jìn)的方式描述,每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說(shuō)明的都是與其他實(shí)施例的不同之處,各個(gè)實(shí)施例之間相同相似的部分互相參見(jiàn)即可。

還需要說(shuō)明的是,在本文中,諸如第一和第二等之類的關(guān)系術(shù)語(yǔ)僅僅用來(lái)將一個(gè)實(shí)體或者操作與另一個(gè)實(shí)體或操作區(qū)分開(kāi)來(lái),而不一定要求或者暗示這些實(shí)體或操作之間存在任何這種實(shí)際的關(guān)系或者順序。而且,術(shù)語(yǔ)“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含,從而使得包括一系列要素的物品或者設(shè)備不僅包括那些要素,而且還包括沒(méi)有明確列出的其他要素,或者是還包括為這種物品或者設(shè)備所固有的要素。在沒(méi)有更多限制的情況下,由語(yǔ)句“包括一個(gè)……”限定的要素,并不排除在包括上述要素的物品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。

本文中應(yīng)用了具體個(gè)例對(duì)本發(fā)明的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述,以上實(shí)施例的說(shuō)明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想。應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),在不脫離本發(fā)明原理的前提下,還可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行若干改進(jìn)和修飾,這些改進(jìn)和修飾也落入本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)。

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