一種去除三氯化硼中氯氣雜質(zhì)的反應裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型屬于化工設備【技術(shù)領(lǐng)域】，是一種去除三氯化硼中氯氣雜質(zhì)的反應裝置，由主反應和底板組成，主反應管上配有電加熱帶，主反應管的上端和下端分別設有出氣口和進氣口；底板設在主反應管的下部，與主反應管的圓柱形外壁直接燒結(jié)為一體，底板上設有均勻分布的篩孔，本實用新型的有益效果是：因為底板上設有均勻分布的篩孔，使原料能夠均勻分散，與高溫的碳化硼充分接觸反應，使三氯化硼中氯氣雜質(zhì)含量能降低到1ppm以下。
【專利說明】一種去除三氯化硼中氯氣雜質(zhì)的反應裝置
[0001]

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本實用新型屬于化工設備【技術(shù)領(lǐng)域】，涉及一種去除三氯化硼中氯氣雜質(zhì)的反應裝置。
[0003]

【背景技術(shù)】
[0004]目前，常用的氣體純化設備有精餾塔、吸附器等，但在反應溫度850°C，耐高溫的情況下，進行去除三氯化硼中氯氣雜質(zhì)的反應，就需要氣體分散性強的反應設備來進行。常規(guī)的設備和結(jié)構(gòu)很難達到去除三氯化硼中氯氣雜質(zhì)的反應的要求。
實用新型內(nèi)容
[0005]鑒于上述常規(guī)的純化設備和結(jié)構(gòu)上存在的缺陷，本實用新型的目的是提供一種去除三氯化硼中氯氣雜質(zhì)的反應裝置。
[0006]本實用新型的技術(shù)方案是，一種去除三氯化硼中氯氣雜質(zhì)的反應裝置，由主反應管和底板組成，主反應管的底端和上端分別為直管形狀，主反應管上配有電加熱帶，進氣口設在主反應管的下端，出氣口設在主反應管的上端；底板設在主反應管的下部，與主反應管的圓柱形外壁直接燒結(jié)為一體，底板上設有均勻分布的篩孔，可以有效地將進入反應管的三氯化硼氣體進行均勻分布，使其與管內(nèi)填充的碳化硼充分接觸，實現(xiàn)對三氯化硼中氯氣雜質(zhì)的深度反應，從而達到純化目的。
[0007]本實用新型的有益效果是:因為有篩孔底板結(jié)構(gòu)，使原料能夠均勻分散，與高溫的碳化硼充分接觸反應，使三氯化硼中氯氣雜質(zhì)含量能降低到Ippm以下。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0009]圖2為圖1中部橫截面示意圖
[0010]圖中:1、主反應管，2、電加熱帶，3、進氣口，4、出氣口，5、底板。

【具體實施方式】
[0011]下面結(jié)合附圖和實施例對本實用新型做進一步說明，參見圖1和圖2，本實用新型由主反應管I和底板5組成,主反應管I的底端和上端分別為直管形狀，主反應管I上纏繞電加熱帶2，可在0-?ΟΟΟ?進行加熱控制。進氣口 3設在主反應管I的下端，出氣口 4設在主反應管I的上端；底板5設在主反應管I的下部，與主反應管I的圓柱形外壁直接燒結(jié)為一體，底板5上設有均勻分布的篩孔，可以有效地將進入反應管的三氯化硼氣體進行均勻分布，使其與管內(nèi)填充的碳化硼充分接觸，實現(xiàn)對三氯化硼中氯氣雜質(zhì)的深度反應，從而達到純化目的。具體實施過程為:用耐高溫的石英作為裝置的材料，反應器I內(nèi)加入碳化硼顆粒，使用電加熱帶2加熱至850°C，從進氣口 3通入原料三氯化硼，經(jīng)過主反應管I內(nèi)的碳化硼與雜志氯氣充分反應，由出氣口 4輸出純化后的三氯化硼氣體。
【權(quán)利要求】
1.一種去除三氯化硼中氯氣雜質(zhì)的反應裝置，其特征在于，由主反應管(I)和底板(5)組成，主反應管(I)上設有電加熱帶(2)，主反應管(I)的下端和上端分別設有進氣口(3)和出氣口(4);底板(5)設在主反應管(I)的下部，與主反應管(I)的圓柱形外壁直接燒結(jié)為一體，底板(5)上設有均勻分布的篩孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種去除三氯化硼中氯氣雜質(zhì)的反應裝置，其特征在于，所述的主反應管(I)的底端和上端分別為直管形狀。
【文檔編號】C01B35/06GK203959838SQ201420412691
【公開日】2014年11月26日 申請日期:2014年7月25日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月25日
【發(fā)明者】趙毅, 計燕秋, 裴凱, 劉穎, 畢聰智 申請人:大連保稅區(qū)科利德化工科技開發(fā)有限公司