仿形拋光磨具的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種用于拋釉磚生產(chǎn)的拋光磨具，特別涉及一種仿形拋光磨具。
【背景技術(shù)】
[0002]目前行業(yè)內(nèi)拋釉產(chǎn)品拋光階段大都均已采用排列規(guī)整的樹脂基金剛石磨具(如圖1所示)，采用排列規(guī)整的樹脂金剛石磨具進(jìn)行拋光，由于金剛石磨塊31排列整齊，而磨盤拋光的過程中按一定的軌跡行走，得到的拋釉面會(huì)有規(guī)律性的波浪紋，無法消除，特別是應(yīng)用在亞光拋光上尤為明顯；也有一小部分采用海綿狀磨具(如圖2所示)，使用海綿狀磨具31’對(duì)釉面進(jìn)行拋光，得到的拋釉面比較平整，但是磨具耗損非常大，成本高，且后期的拋光廢渣不易回收利用;此外，目前的拋光磨具基座I底部兩頭一樣大小(如圖3所示)，拋光的過程中拋光磨具有被甩出的可能，存在安全隱患。由于拋光過程中拋光磨頭和工件摩擦?xí)a(chǎn)生熱和拋光廢渣，如果處理不當(dāng)，產(chǎn)生的熱量會(huì)灼傷工件，表現(xiàn)為磚面上出現(xiàn)黑點(diǎn)。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的是克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足而提供一種在拋光的過程中，上一排金剛石磨頭拋光所留下的磨痕由下一排非規(guī)則排列的金剛石磨頭磨拋掉，如此層層消磨淡化磨痕，使拋光后波浪紋變淺或甚沒有波浪紋的拋光磨具。本實(shí)用新型所提供的磨具將磨塊邊角設(shè)計(jì)為圓弧狀，以減少拋光過程中磨頭對(duì)水流通的阻力，保證拋光過程中每個(gè)角落水流的暢通性和均勻性，避免工件灼傷，從而提高拋釉磚的品質(zhì)。本實(shí)用新型所提供的磨具將磨具基座底部設(shè)計(jì)成一端尺寸大于另一端，當(dāng)磨具進(jìn)行拋光時(shí)，由于受到向外的離心力，使拋光機(jī)磨槽和磨具會(huì)越卡越實(shí)。
[0004]本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案是所述仿形拋光磨具，包括固設(shè)為一體的基座、橡膠層和磨塊層，其特殊之處在于，所述磨塊層由多行不同形狀的磨塊間隔排列組成。
[0005]作為優(yōu)選:所述磨塊的排列方式為:橫排上下兩行為間隔排列的大小正方棱柱磨塊，中間行頭尾各設(shè)置一塊小正方棱柱磨塊，中間夾設(shè)的復(fù)合磨塊、長方棱柱磨塊依次排列，且復(fù)合磨塊數(shù)量比長方棱柱磨塊數(shù)量多I，排列規(guī)則為:每一排各磨塊之間所形成的間隔由下一排的其中一塊磨塊封堵。
[0006]作為優(yōu)選:所述復(fù)合磨塊由兩塊對(duì)置間隔排列的條狀磨塊、所述條狀磨塊邊角為倒圓角。
[0007]作為優(yōu)選:所述各磨塊的倒圓角為45°。
[0008]作為優(yōu)選:所述基座底部的結(jié)構(gòu)為一端尺寸小于另一端尺寸的梯形塊結(jié)構(gòu)。
[0009]作為優(yōu)選:所述基座底部側(cè)邊與底座縱邊的夾角為4°，所述橡膠層頂部凸設(shè)與所述磨塊層楔合的隆起，其水平夾角為9°。
[0010]本實(shí)用新型的另一技術(shù)解決方案是所述仿形拋光磨具，包括固設(shè)為一體的基座、橡膠層和磨塊層，其特殊之處在于，所述磨塊層由多行不同形狀的磨塊間隔排列組成;所述磨塊的排列方式為:橫排上下兩行為間隔排列的大小正方棱柱磨塊，中間行頭尾各設(shè)置一塊小正方棱柱磨塊，中間夾設(shè)的復(fù)合磨塊、長方棱柱磨塊依次排列，且復(fù)合磨塊數(shù)量比長方棱柱磨塊數(shù)量多I，排列規(guī)則為:每一排各磨塊之間所形成的間隔由下一排的其中一塊磨塊封堵，所述各磨塊的倒圓角為45°;所述基座底部由一端尺寸小于另一端尺寸的梯形塊構(gòu)成;所述基座底部側(cè)邊與底座縱邊的夾角為4°;所述橡膠層頂部凸設(shè)與所述磨塊層楔合的隆起，其水平夾角為9°。
[0011 ]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果:
[0012](I)本實(shí)用新型的磨塊層由于采用非規(guī)則排列的磨塊，使原規(guī)則排列結(jié)構(gòu)遺漏或者磨削不到的瓷磚表面均被磨削且不留磨痕，提高了產(chǎn)品的品質(zhì)。
[0013](2)本實(shí)用新型的磨頭邊角設(shè)計(jì)為圓弧狀，減少了磨頭對(duì)水流通的阻力，便于拋光過程中每個(gè)角落水流的暢通性和均勻性，進(jìn)而避免了工件灼傷。
[0014](3)本實(shí)用新型的磨具基座底部設(shè)計(jì)成梯形塊，則在磨具進(jìn)行拋光的時(shí)候，受到向外的離心力，拋光機(jī)磨槽和磨具會(huì)越卡越結(jié)實(shí)。
【附圖說明】
[0015]圖1至圖3是現(xiàn)有技術(shù)的拋光磨具及磨塊的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖4是本實(shí)用新型磨塊層的正面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]圖5是本實(shí)用新型磨塊邊角局部示意圖。
[0018]圖6是本實(shí)用新型磨具基座底部結(jié)構(gòu)示意圖。
[0019]圖7是本實(shí)用新型仿形拋光磨具的主視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0020]圖8是本實(shí)用新型仿形拋光磨具的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0021]本實(shí)用新型下面將結(jié)合附圖作進(jìn)一步詳述:
[0022]請(qǐng)參閱圖7、圖8所示，該仿形拋光磨具，包括固設(shè)為一體的基座1、橡膠層2和磨塊層3，所述磨塊層3由多行不同形狀的磨塊31間隔排列組成。
[0023]請(qǐng)參閱圖4、圖5所示，所述磨塊31的排列方式為:橫排上下兩行為間隔排列的大正方棱柱磨塊311、小正方棱柱磨塊312，中間行頭尾各設(shè)置一塊小正方棱柱磨塊312，中間夾設(shè)的復(fù)合磨塊313、長方棱柱磨塊314依次排列，且復(fù)合磨塊313數(shù)量比長方棱柱磨塊數(shù)量多I;排列規(guī)則為:排列規(guī)則為:每一排各大正方棱柱磨塊311與小正方棱柱磨塊312之間所形成的間隔由下一排的其中一塊復(fù)合磨塊313封堵。
[0024]請(qǐng)參閱圖4、圖5所示，所述復(fù)合磨塊313由兩塊對(duì)置間隔排列的條狀磨塊構(gòu)成、所述條狀磨塊外角為倒圓角。所述各磨塊31的倒圓角為45°。
[0025]請(qǐng)參閱圖6所示，所述基座I底部的結(jié)構(gòu)為一端尺寸小于另一端尺寸的梯形塊結(jié)構(gòu)
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[0026]請(qǐng)參閱圖6所示，所述基座I底部側(cè)邊與底座縱邊的夾角為4°，所述橡膠層2頂部凸設(shè)與所述磨塊層3楔合的隆起，其水平夾角為9°。
[0027]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，凡依本實(shí)用新型權(quán)利要求范圍所做的均等變化與修飾，皆應(yīng)屬本實(shí)用新型權(quán)利要求的涵蓋范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種仿形拋光磨具，包括固設(shè)為一體的基座、橡膠層和磨塊層，其特征在于，所述磨塊層由多行不同形狀的磨塊間隔排列組成。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的仿形拋光磨具，其特征在于，所述磨塊的排列方式為:橫排上下兩行為間隔排列的大小正方棱柱磨塊，中間行頭尾各設(shè)置一塊小正方棱柱磨塊，中間夾設(shè)復(fù)合磨塊、長方棱柱磨塊依次排列，且復(fù)合磨塊數(shù)量比長方棱柱磨塊數(shù)量多I，排列規(guī)則為:每一排各磨塊之間所形成的間隔由下一排的其中一塊磨塊封堵。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的仿形拋光磨具，其特征在于，所述復(fù)合磨塊由兩塊對(duì)置間隔排列的條狀磨塊、所述條狀磨塊邊角為倒圓角。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的仿形拋光磨具，其特征在于，所述各磨塊的倒圓角為45°。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的仿形拋光磨具，其特征在于，所述基座底部的結(jié)構(gòu)為一端尺寸小于另一端尺寸的梯形塊結(jié)構(gòu)。6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任意項(xiàng)所述的仿形拋光磨具，其特征在于，所述基座底部側(cè)邊與底座縱邊的夾角為4°，所述橡膠層頂部凸設(shè)與所述磨塊層楔合的隆起，其水平夾角為9°。7.一種仿形拋光磨具，包括固設(shè)為一體的基座、橡膠層和磨塊層，其特征在于，所述磨塊層由多行不同形狀的磨塊間隔排列組成;所述磨塊的排列方式為:橫排上下兩行為間隔排列的大小正方棱柱磨塊，中間行頭尾各設(shè)置一塊小正方棱柱磨塊，中間夾設(shè)的復(fù)合磨塊、長方棱柱磨塊依次排列，且復(fù)合磨塊數(shù)量比長方棱柱磨塊數(shù)量多I;排列規(guī)則為:每一排各磨塊之間所形成的間隔由下一排的其中一塊磨塊封堵，所述各磨塊的倒圓角為45°;所述基座底部由一端尺寸小于另一端尺寸的梯形塊構(gòu)成;所述基座底部側(cè)邊與底座縱邊的夾角為4° ;所述橡膠層頂部凸設(shè)與所述磨塊層楔合的隆起，其水平夾角為9°。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種仿形拋光磨具。該仿形拋光磨具包括固設(shè)為一體的尼龍塑料基座、橡膠層和金剛石磨塊層。該磨塊層由多行不同形狀的磨塊間隔排列組成，每一磨塊各邊均設(shè)計(jì)為45°圓弧狀，各磨塊的排列方式為：橫排上下兩行為間隔排列的大小正方棱柱磨塊，中間行頭尾各設(shè)置一塊小正方棱柱磨塊，中間夾設(shè)復(fù)合磨塊、長方棱柱磨塊依次排列，且復(fù)合磨塊數(shù)量比長方棱柱磨塊數(shù)量多1，排列規(guī)則為：每一排各磨塊之間所形成的間隔由下一排的其中一塊磨塊封堵。該拋光磨具在拋光的過程中，上一排金剛石磨頭拋光所留下的磨痕由下一排金剛石磨頭磨拋掉，如此層層消磨淡化磨痕，使拋光后不留磨痕，提高了產(chǎn)品的品質(zhì)。
【IPC分類】B24D13/14
【公開號(hào)】CN205218874
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520888452
【發(fā)明人】古戰(zhàn)文, 劉學(xué)斌, 楊慶霞, 潘超憲, 鄧江文, 劉任松
【申請(qǐng)人】江西和美陶瓷有限公司, 東莞市唯美陶瓷工業(yè)園有限公司
【公開日】2016年5月11日
【申請(qǐng)日】2015年11月10日