一種提高磁控濺射靶材利用率的結(jié)構(gòu)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種磁控濺射靶材，具體是一種提高磁控濺射靶材利用率的結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]大型連續(xù)性真空鍍膜設(shè)備，主要是在真空的環(huán)境下連續(xù)不斷的將靶材濺射沉積到玻璃基板上。靶材從更換到用完，其壽命直接影響了鍍膜產(chǎn)品的成本。尤其是ITO導(dǎo)電玻璃鍍膜行業(yè)，因氧化銦錫的價格極其昂貴，濺射用靶材的成本占產(chǎn)品成本的三分之一以上，故提高濺射靶材的利用率一直是鍍膜行業(yè)技術(shù)人員追求的方向。
[0003]所謂鍍膜，就是在固體表面上鍍上一層與基體材料不同的薄層材料，從而改變表面的基體性質(zhì)的技術(shù)。ITO導(dǎo)電玻璃鍍膜技術(shù)，即通過磁控濺射的方法將氧化銦錫(簡稱ΙΤ0)靶材，濺射沉積到玻璃表面，從而形成一層透明導(dǎo)電的氧化物薄膜。所謂“濺射”就是用荷能粒子(通常是氣體的正離子)轟擊物體，從而引起物理表面原子從母體中逸出的現(xiàn)象。1842年，Groue在實(shí)驗室發(fā)現(xiàn)的這種現(xiàn)象；1877年，美國貝爾實(shí)驗室及西屋電氣公司開始應(yīng)用濺射原理制備薄膜。1970年磁控濺射技術(shù)及其裝置開始出現(xiàn)。利用磁場的來束縛電子的運(yùn)動，使轟擊基片的高能電子減少，而轟擊靶的高能粒子增多，從而具備高速，低溫兩大特點(diǎn)，從而得到了大面積的工業(yè)應(yīng)用。
[0004]通過靶材下面的N-S-N三排固定在磁鐵板上的磁鐵所發(fā)散出的磁力線束縛靶材表面的電子運(yùn)動軌跡，電子在輝光放電時不斷促使氬氣電離出氬正離子，而ITO靶材上通了較高的負(fù)電壓，氬正離子就不斷的向靶材方向高速移動，從而不斷將靶材原子轟擊出來，沉積到基材表面形成ITO導(dǎo)電薄膜。靶材在刻蝕完成后，所形成的溝槽形狀，其正好與磁力線的分布對稱，因為中間區(qū)域平行于靶面方向的磁力線最多，其所束縛的電子就越多，導(dǎo)致濺射量就越大。
[0005]現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)主要是磁力線從固定在磁鐵板上的磁極上，垂直于磁鐵表面出來，從N到S。其靶材的中間及兩邊有較多的無效濺射區(qū)域，導(dǎo)致利用率比較低，基本在18%左右。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0006]本實(shí)用新型的目的在于提供一種提高磁控濺射靶材利用率的結(jié)構(gòu)，以解決上述【背景技術(shù)】中提出的問題。
[0007]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:
[0008]一種提高磁控濺射靶材利用率的結(jié)構(gòu)，包括伺服電機(jī)、絲杠、磁鐵板、絲杠螺母、磁鐵組和靶材，所述靶材的背面設(shè)置磁鐵組，磁鐵組固連在磁鐵板上，從而構(gòu)成磁控濺射靶材結(jié)構(gòu)，所述磁鐵板的背面固連絲杠螺母，絲杠螺母連接絲杠，絲杠的一端連接伺服電機(jī)。
[0009]作為本實(shí)用新型進(jìn)一步的方案:所述磁鐵組由極性交錯設(shè)置的條形磁鐵構(gòu)成。
[0010]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用主要是通過將磁鐵板的寬度變窄，同時配有伺服電機(jī)與絲杠，通過伺服電機(jī)的正反轉(zhuǎn)及適當(dāng)?shù)霓D(zhuǎn)速控制，使得磁鐵板帶著磁鐵組在靶材寬度范圍內(nèi)，進(jìn)行左右移動。通過周期性的左右運(yùn)動疊加，最終達(dá)到最大的靶材刻蝕效果，通過測試，靶材利用率可提高I倍以上。
【附圖說明】
[0011]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0012]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0013]請參閱圖1，本實(shí)用新型實(shí)施例中，一種提高磁控濺射靶材利用率的結(jié)構(gòu)，包括伺服電機(jī)1、絲杠2、磁鐵板3、絲杠螺母4、磁鐵組5、靶材6和已刻蝕區(qū)域7，所述靶材6的背面設(shè)置磁鐵組5，磁鐵組5固連在磁鐵板3上，從而構(gòu)成磁控濺射靶材結(jié)構(gòu)，所述磁鐵板3的背面固連絲杠螺母4，絲杠螺母4連接絲杠2，絲杠2的一端連接伺服電機(jī)1，通過伺服電機(jī)I帶動絲杠2轉(zhuǎn)動，而通過螺紋進(jìn)給的原理，使得絲杠螺母4和磁控濺射靶材結(jié)構(gòu)相對于絲杠2左右移動，使得靶材6正面的已刻蝕區(qū)域7增大。
[0014]所述磁鐵組5由極性交錯設(shè)置的條形磁鐵構(gòu)成。
[0015]本實(shí)用主要是通過將磁鐵板3的寬度變窄，同時配有伺服電機(jī)I與絲杠2，通過伺服電機(jī)I的正反轉(zhuǎn)及適當(dāng)?shù)霓D(zhuǎn)速控制，使得磁鐵板3帶著磁鐵組5在靶材寬度范圍內(nèi)，進(jìn)行左右移動。通過周期性的左右運(yùn)動疊加，最終達(dá)到最大的靶材刻蝕效果，通過測試，靶材利用率可提高I倍以上。
[0016]對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯然本實(shí)用新型不限于上述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié)，而且在不背離本實(shí)用新型的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型。因此，無論從哪一點(diǎn)來看，均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說明限定，因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本實(shí)用新型內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。
[0017]此外，應(yīng)當(dāng)理解，雖然本說明書按照實(shí)施方式加以描述，但并非每個實(shí)施方式僅包含一個獨(dú)立的技術(shù)方案，說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說明書作為一個整體，各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式。
【主權(quán)項】
1.一種提高磁控濺射靶材利用率的結(jié)構(gòu)，包括伺服電機(jī)、絲杠、磁鐵板、絲杠螺母、磁鐵組和靶材，所述靶材的背面設(shè)置磁鐵組，磁鐵組固連在磁鐵板上，從而構(gòu)成磁控濺射靶材結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述磁鐵板的背面固連絲杠螺母，絲杠螺母連接絲杠，絲杠的一端連接伺服電機(jī)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提高磁控濺射靶材利用率的結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述磁鐵組由極性交錯設(shè)置的條形磁鐵構(gòu)成。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種提高磁控濺射靶材利用率的結(jié)構(gòu)，包括伺服電機(jī)、絲杠、磁鐵板、絲杠螺母、磁鐵組和靶材，所述靶材的背面設(shè)置磁鐵組，磁鐵組固連在磁鐵板上，從而構(gòu)成磁控濺射靶材結(jié)構(gòu)，所述磁鐵板的背面固連絲杠螺母，絲杠螺母連接絲杠，絲杠的一端連接伺服電機(jī)。本實(shí)用主要是通過將磁鐵板的寬度變窄，同時配有伺服電機(jī)與絲杠，通過伺服電機(jī)的正反轉(zhuǎn)及適當(dāng)?shù)霓D(zhuǎn)速控制，使得磁鐵板帶著磁鐵組在靶材寬度范圍內(nèi)，進(jìn)行左右移動。通過周期性的左右運(yùn)動疊加，最終達(dá)到最大的靶材刻蝕效果，通過測試，靶材利用率可提高1倍以上。
【IPC分類】C23C14/35
【公開號】CN204803398
【申請?zhí)枴緾N201520489264
【發(fā)明人】閆都倫, 王克斌, 吳細(xì)標(biāo), 唐貴民
【申請人】深圳新南亞技術(shù)開發(fā)有限公司
【公開日】2015年11月25日
【申請日】2015年7月9日