一種具有金屬質(zhì)感的殼體及其制作方法、電子產(chǎn)品的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種具有金屬質(zhì)感的殼體及其制作方法、電子產(chǎn)品。具有金屬質(zhì)感的殼體的制作方法，包括以下步驟：S1，制備基材；所述基材為可用于表面鍍膜的材料；S2，去除所述基材表面的污垢，對所述基材進(jìn)行活化或者敏化處理；S3，在真空環(huán)境下，通過等離子體撞擊金屬靶材產(chǎn)生金屬蒸汽，所述金屬蒸汽以納米層形式沉積在所述基材表面，在所述基材表面形成金屬鍍膜；S4，對表面形成有金屬鍍膜的基材進(jìn)行陽極氧化處理，在所述基材的金屬鍍膜層上形成陽極氧化膜層。本發(fā)明的制作方法，基材材料的選擇性大，可有效降低產(chǎn)品的材料成本；同時，工藝過程簡單，制作成本較低。
【專利說明】
一種具有金屬質(zhì)感的殼體及其制作方法、電子產(chǎn)品
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及電子產(chǎn)品加工領(lǐng)域，特別是涉及一種具有金屬質(zhì)感的殼體及其制作方法、電子產(chǎn)品。
【【背景技術(shù)】】
[0002]現(xiàn)有的電子產(chǎn)品的外殼多通過陽極氧化處理，使外觀美觀。而可以做陽極氧化的材料為金屬，如鋁合金陽極氧化，再例如鎂合金、鈦合金等，但是金屬材料價格高，導(dǎo)致成本較高。除此之外，金屬材質(zhì)的產(chǎn)品，需通過全CNC加工，或者沖壓后CNC加工，后續(xù)進(jìn)行陽極處理后表面才不會產(chǎn)生留痕、氣孔等不良外觀現(xiàn)象。但是此兩種工藝的工序復(fù)雜，CNC加工成本高。鋁合金壓鑄成型產(chǎn)品制作工藝簡單，但是都不能做陽極氧化處理，鋁合金壓鑄成型后的產(chǎn)品陽極處理后表面有留痕、氣孔等不良外觀現(xiàn)象，產(chǎn)品良品率低于10%。上述現(xiàn)有的制作電子產(chǎn)品的外殼的方法中，一方面，材料成本高。另一方面，加工成本高，導(dǎo)致一些低端的電子產(chǎn)品外觀想要擁有金屬質(zhì)感效果，在成本上就受到了局限。
【
【發(fā)明內(nèi)容】
】
[0003]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是:彌補上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提出一種具有金屬質(zhì)感的殼體及其制作方法、電子產(chǎn)品，低成本、且工藝簡單地制出具有金屬質(zhì)感的殼體產(chǎn)品。
[0004]本發(fā)明的技術(shù)問題通過以下的技術(shù)方案予以解決:
[0005]—種具有金屬質(zhì)感的殼體的制作方法，包括以下步驟:SI，制備基材;所述基材為可用于表面鍍膜的材料；S2，去除所述基材表面的污垢，對所述基材進(jìn)行活化或者敏化處理;S3，在真空環(huán)境下，通過等離子體撞擊金屬革E材產(chǎn)生金屬蒸汽，所述金屬蒸汽以納米層形式沉積在所述基材表面，在所述基材表面形成金屬鍍膜;S4，對表面形成有金屬鍍膜的基材進(jìn)行陽極氧化處理，在所述基材的金屬鍍膜層上形成陽極氧化膜層。
[0006]優(yōu)選的技術(shù)方案中，
[0007]步驟S3中，采用惰性氣體氬氣作為工作氣體，通過直流電壓使所述氬氣電離產(chǎn)生氬氣離子和中性離子作為所述等離子體轟擊所述金屬靶材。
[0008]步驟S3中還包括，通過20?60V的電壓和90A/cm2?107A/cm2的電流密度將所述金屬靶材離化為離子狀態(tài)。
[0009]步驟S4中進(jìn)行陽極氧化處理之前，還包括步驟S4’，對表面形成有金屬鍍膜的基材進(jìn)行等離子處理，使所述基材表面的金屬鍍膜表面形成微孔。
[0010]進(jìn)行等離子處理時，氣壓控制在0.03Mpa?3Mpa。
[0011]步驟S4中，陽極氧化處理時，采用電解的方法在所述基材上形成所述陽極氧化膜層。
[0012]步驟SI中，所述基材的材質(zhì)為塑膠、玻璃、陶瓷、硅橡膠、金屬或粉末冶金。
[0013]步驟S2中，通過除油、噴砂、清洗、烘烤的步驟去除所述基材表面的污垢。
[0014]本發(fā)明的技術(shù)問題通過以下進(jìn)一步的技術(shù)方案予以解決:
[0015]—種根據(jù)如上所述制作方法制備的具有金屬質(zhì)感的殼體。
[0016]—種電子產(chǎn)品，所述電子產(chǎn)品的外殼為如上所述的殼體。
[0017]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)對比的有益效果是:
[0018]本發(fā)明的具有金屬質(zhì)感的殼體的制作方法，通過活化、敏化處理使基材表面形成多個微孔，后續(xù)通過離子體撞擊金屬靶材產(chǎn)生金屬蒸汽，使蒸汽以納米層形式沉積在基材表面的微孔里面，從而金屬鍍膜對基材附著強(qiáng)，耐刮花、耐磨損，使得基材表面具有金屬質(zhì)感。后續(xù)陽極氧化處理后陽極氧化層附著在金屬鍍膜層上，而不是直接附著在基材的表面。這樣，一方面對基材的材料選擇性加大，無需基材是金屬就可以使得基材表面具有金屬質(zhì)感。由于基材表面鍍有金屬膜，從而不僅金屬基材可以作為陽極氧化基材，塑膠、玻璃、陶瓷、硅橡膠等材質(zhì)基材都可以做陽極氧化工藝?；牟牧系倪x擇性大，可有效降低產(chǎn)品的材料成本。另一方面，本發(fā)明的制作方法對基材的加工工藝無限制，通過注塑、鋁擠、壓鑄等工藝所加工的基材均可應(yīng)用于方法中，制作過程工藝簡單，有效降低制作成本。除此之外，本發(fā)明的制作方法對基材表面的外觀無要求，加工過程中可以遮蓋基材產(chǎn)品外觀的缺陷，大大提尚了廣品的表面質(zhì)量。
【【附圖說明】】
[0019]圖1是本發(fā)明【具體實施方式】的具有金屬質(zhì)感的殼體的制作方法的流程圖。
【【具體實施方式】】
[0020]下面結(jié)合【具體實施方式】并對照附圖對本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0021]本發(fā)明的構(gòu)思是:通過一定的工藝，例如活化、敏化工藝，等離子撞擊金屬靶材在真空環(huán)境下鍍金屬鍍膜等，使得一些非金屬材料表面也有金屬質(zhì)感，不僅金屬可以作為陽極氧化基材，塑膠、玻璃、陶瓷、硅橡膠等都可以做陽極氧化工藝，陽極氧化層是附著在鍍膜層上，而不是直接附著在基材的表面。這樣，制作殼體產(chǎn)品時對基材的材料選擇性加大，從而可有效降低材料成本。
[0022]如圖1所示，為本【具體實施方式】的具有金屬質(zhì)感的殼體的制作方法的流程圖。制作方法包括以下步驟:
[0023]SI，制備基材;所述基材為可用于表面鍍膜的材料。
[0024]對于基材，不用必須選擇金屬材質(zhì)、粉末冶金材質(zhì)等，可選擇塑膠、玻璃、陶瓷硅橡膠等。通過注塑、鋁擠、壓鑄等工藝所加工的基材均可應(yīng)用于此，無需必須通過CNC加工制備。
[0025]S2，去除所述基材表面的污垢，對所述基材進(jìn)行活化或者敏化處理。
[0026]可通過除油、噴砂、清洗、烘烤等步驟去除基材表面的污垢，以備用。該步驟，對基材表面進(jìn)行活化或者敏化處理，使得基材表面形成多個微孔，則后續(xù)鍍膜時，便于金屬沉積到微孔中。
[0027]S3，在真空環(huán)境下，通過等離子體撞擊金屬靶材產(chǎn)生金屬蒸汽，所述金屬蒸汽以納米層形式沉積在所述基材表面，在所述基材表面形成金屬鍍膜。
[0028]該步驟中，金屬離子以打靶撞擊的形式，附著在基材的表面，使得基材表面具有金屬質(zhì)感。結(jié)合該步驟處理前進(jìn)行的活化處理，金屬表面有無數(shù)個微孔，金屬離子附著在金屬的微孔里面，這樣處理的基材，金屬膜層對基材的表面附著力強(qiáng)，耐刮花、耐磨損。相對于普通的金屬鍍膜工藝，金屬薄膜沉積在基材的表面時，是自由飄落在基材表面，沒有作用力。這樣金屬薄膜附著在基材表面，附著力弱，不易于與后續(xù)的陽極氧化工藝結(jié)合。
[0029]優(yōu)選地，在真空環(huán)境內(nèi)，用惰性氣體氬氣作為工作氣體，通過直流電壓使所述氬氣電離產(chǎn)生氬氣離子和中性離子作為所述等離子體轟擊所述金屬靶材。在鍍膜的真空環(huán)境中充入氬氣，利用直流電壓產(chǎn)生輝光放電，由此形成的氬氣離子和由它產(chǎn)生的快速中性離子(濺射粒子)以高速轟擊金屬靶材，靶材原子(濺射原子)被從金屬靶材表面濺射出來，冷凝在基材表面上，從而形成了金屬薄膜。氬氣可以被電離產(chǎn)生輝光放電，從而可以大大提高金屬的濺射速率。
[0030]進(jìn)一步優(yōu)選地，通過低電壓(20?60V)和高電流(90A/cm2?107A/cm2的電流密度)將靶材離化成離子狀態(tài)，從而完成金屬薄膜的沉積。可通過增強(qiáng)型磁控陰極弧技術(shù)將靶材離化為離子狀態(tài)，同時可將金屬靶材表面的電弧加以有效地控制，使材料的離化率更高，薄膜性能更加優(yōu)異。
[0031]鍍膜時，可將基材安裝在真空室內(nèi)旋轉(zhuǎn)的夾具上，通過旋轉(zhuǎn)夾具保證噴涂的金屬膜層均勻分布在基材表面?？刂棋兡囟葹?0?300°，鍍膜厚度為0.30?5.0Oym，最終制得的殼體產(chǎn)品外觀和穩(wěn)定性效果較好。
[0032]S4，對表面形成有金屬鍍膜的基材進(jìn)行陽極氧化處理，在所述基材的金屬鍍膜層上形成陽極氧化膜層。
[0033]該步驟中，可采用電解的方法使基材表面形成氧化物薄膜。將基材置于相應(yīng)電解液中作為陽極，在一定條件和外加電流作用下，進(jìn)行電解。基材陽極氧化后在表面上形成氧化膜層，厚度在5?200微米的范圍內(nèi)。
[0034]優(yōu)選地，在陽極氧化處理前，還包括步驟S4’，對表面形成有金屬鍍膜的基材進(jìn)行等離子處理，使所述基材表面的金屬鍍膜表面形成微孔。具體地，將鍍膜好的基材放入等離子處理器的作業(yè)線上，對基材的表面進(jìn)行等離子處理。等離子表面處理器是將氣體導(dǎo)入到真空倉內(nèi)，當(dāng)倉內(nèi)壓力達(dá)到一定水平時，氣體在電磁放電的作用下轉(zhuǎn)換成等離子。通過氣體放電或加熱的方法，從外界得到足夠的能量。當(dāng)?shù)入x子和基材表面接觸時，所輸入的能量被傳送到被接觸的基材表面，產(chǎn)生一系列的作用，使得基材表面的金屬鍍膜上形成微孔。將經(jīng)過等離子處理的金屬鍍膜再進(jìn)行陽極氧化處理，陽極氧化形成的陽極氧化膜層附著在微孔中，從而粘結(jié)力效果較好，可增加產(chǎn)品的良率?；谋砻孢M(jìn)行等離子表面處理器作業(yè)時控制氣壓在0.03Mpa?3Mpa。通過該等離子處理使得基材表面活化，對基材表面進(jìn)行化學(xué)改性，增加產(chǎn)品表面張力，為基材后續(xù)做陽極氧化做鋪墊，使陽極氧化膜層更好地附著在鍍膜層上，兩者之間的粘結(jié)力更強(qiáng)。
[0035]通過上述步驟制作的殼體產(chǎn)品，具有金屬質(zhì)感，且經(jīng)過陽極氧化處理后殼體具有一定外觀效果，可用作電子產(chǎn)品的外殼。
[0036]通過上述過程制備出的殼體產(chǎn)品，陽極氧化層是附著在金屬鍍膜層上，而不是直接附著在基材的表面。這樣的優(yōu)點對基材的材料選擇性加大，不僅金屬可以作為陽極氧化基材，塑膠、玻璃、陶瓷、粉末冶金、硅橡膠等都可以做陽極氧化工藝。非金屬材料的基材表面也具有金屬質(zhì)感，后續(xù)可經(jīng)陽極氧化處理在金屬鍍膜層上形成陽極氧化層。材料成本降低，工藝也較簡單，是一種既使產(chǎn)品表面有金屬質(zhì)感，成本又低的解決方案。本【具體實施方式】的制作方法對基材表面的外觀無要求，而且可以遮蓋基材產(chǎn)品本身的外觀的缺陷，大大提尚了廣品的表面質(zhì)量。
[0037]本【具體實施方式】中還提供一種電子產(chǎn)品，其外殼為上述步驟制得的殼體產(chǎn)品。這樣，電子產(chǎn)品的材料成本較低，可解決一些低端的電子產(chǎn)品外觀想要擁有金屬質(zhì)感效果，但在成本上有限制的矛盾。
[0038]以上內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實施方式對本發(fā)明所作的進(jìn)一步詳細(xì)說明，不能認(rèn)定本發(fā)明的具體實施只局限于這些說明。對于本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下做出若干替代或明顯變型，而且性能或用途相同，都應(yīng)當(dāng)視為屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項】
1.一種具有金屬質(zhì)感的殼體的制作方法，其特征在于:包括以下步驟:S1，制備基材;所述基材為可用于表面鍍膜的材料;S2，去除所述基材表面的污垢，對所述基材進(jìn)行活化或者敏化處理;S3，在真空環(huán)境下，通過等離子體撞擊金屬靶材產(chǎn)生金屬蒸汽，所述金屬蒸汽以納米層形式沉積在所述基材表面，在所述基材表面形成金屬鍍膜;S4，對表面形成有金屬鍍膜的基材進(jìn)行陽極氧化處理，在所述基材的金屬鍍膜層上形成陽極氧化膜層。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有金屬質(zhì)感的殼體的制作方法，其特征在于:步驟S3中，采用惰性氣體氬氣作為工作氣體，通過直流電壓使所述氬氣電離產(chǎn)生氬氣離子和中性離子作為所述等離子體轟擊所述金屬靶材。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有金屬質(zhì)感的殼體的制作方法，其特征在于:步驟S3中還包括，通過20?60V的電壓和90A/cm2?107A/cm2的電流密度將所述金屬靶材離化為離子狀態(tài)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有金屬質(zhì)感的殼體的制作方法，其特征在于:步驟S4中進(jìn)行陽極氧化處理之前，還包括步驟S4’，對表面形成有金屬鍍膜的基材進(jìn)行等離子處理，使所述基材表面的金屬鍍膜表面形成微孔。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的具有金屬質(zhì)感的殼體的制作方法，其特征在于:進(jìn)行等離子處理時，氣壓控制在0.03Mpa?3Mpa。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有金屬質(zhì)感的殼體的制作方法，其特征在于:步驟S4中，陽極氧化處理時，采用電解的方法在所述基材上形成所述陽極氧化膜層。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有金屬質(zhì)感的殼體的制作方法，其特征在于:步驟SI中，所述基材的材質(zhì)為塑膠、玻璃、陶瓷、娃橡膠、金屬或粉末冶金。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有金屬質(zhì)感的殼體的制作方法，其特征在于:步驟S2中，通過除油、噴砂、清洗、烘烤的步驟去除所述基材表面的污垢。9.一種根據(jù)權(quán)利要求1?8任一所述制作方法制備的具有金屬質(zhì)感的殼體。10.—種電子產(chǎn)品，其特征在于:所述電子產(chǎn)品的外殼為如權(quán)利要求9所述的殼體。
【文檔編號】C25D11/02GK106048517SQ201610525962
【公開日】2016年10月26日
【申請日】2016年7月4日
【發(fā)明人】孫僥鮮, 唐臻, 王長明, 謝守德
【申請人】東莞勁勝精密組件股份有限公司