本技術(shù)涉及蒸鍍設(shè)備，特別涉及一種真空鍍膜機(jī)。

背景技術(shù)：

1、真空蒸鍍機(jī)是一種在真空環(huán)境下對材料進(jìn)行蒸鍍的設(shè)備，其工作原理是通過加熱蒸發(fā)的方式，使鍍膜材料氣化，并在低壓環(huán)境下將粒子快速輸送至基片表面，凝結(jié)成薄膜。這種技術(shù)可以實現(xiàn)高純度和致密的膜層，且膜結(jié)構(gòu)和性能獨特，被廣泛應(yīng)用于光學(xué)元件、電子產(chǎn)品等領(lǐng)域。

2、目前真空蒸鍍機(jī)中的加熱裝置通常采用石英燈，由于鍍源蒸發(fā)時會覆蓋在石英燈燈管上而造成燈線路短路，或者覆蓋在燈罩上而影響石英燈的加熱效果，所以一般會使用玻璃片對石英燈進(jìn)行防護(hù)，當(dāng)石英燈的加熱效果下降時，只需更換新的玻璃片，以保證石英燈的正常使用。但是這種方式需要頻繁更換玻璃片，不僅使真空蒸鍍機(jī)的效率降低，而且提高了生產(chǎn)成本。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、基于此，本實用新型的目的是提供一種真空鍍膜機(jī)，旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中需頻繁更換玻璃片的技術(shù)問題。

2、本實用新型提供了一種真空鍍膜機(jī)，包括本體、鍍鍋、鍍源、加熱燈，本體內(nèi)形成一蒸鍍腔，鍍鍋設(shè)于蒸鍍腔內(nèi)，且沿蒸鍍腔周向間隔設(shè)置有多個，各個鍍鍋能夠自轉(zhuǎn)且公轉(zhuǎn)，鍍鍋用于安裝基片，鍍源設(shè)于蒸鍍腔內(nèi)且位于鍍鍋的下方，鍍源用于產(chǎn)生能夠上升至基片表面的鍍膜粒子；沿蒸鍍腔周向間隔設(shè)置有多個加熱燈，多個加熱燈圍繞鍍源，加熱燈用于照射鍍鍋上的基片，每一個加熱燈的出光區(qū)域邊緣處均設(shè)有擋板，鍍源位于出光區(qū)域的下方，出光區(qū)域的下側(cè)邊緣與鍍源之間形成第一連線平面，出光區(qū)域的上側(cè)邊緣與鍍源之間形成第二連線平面，出光區(qū)域的下側(cè)邊緣與相對當(dāng)前加熱燈公轉(zhuǎn)至最遠(yuǎn)處的鍍鍋的下側(cè)邊緣之間形成第三連線平面，相對當(dāng)前加熱燈公轉(zhuǎn)至最近處的鍍鍋的下側(cè)邊緣與鍍源之間形成第四連線平面，擋板位于第三連線平面上或位于第一連線平面與第三連線平面之間，擋板遠(yuǎn)離加熱燈的一端延伸至第二連線平面上，或延伸至第四連線平面上，或延伸至第二連線平面與第四連線平面之間。

3、本實用新型的有益效果至少包括：通過將鍍鍋圍繞一個固定的中心軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，同時自身也在旋轉(zhuǎn)，有助于提高基片上鍍膜的均勻性，同時通過合理設(shè)置擋板的位置和長度，保證擋板不會阻擋氣態(tài)的鍍膜粒子通向鍍鍋的通道，而是阻擋氣態(tài)的鍍膜粒子通向加熱燈的出光區(qū)域的通道，這樣可以不用頻繁更換玻璃片，或者不用設(shè)置玻璃片，減少了生產(chǎn)成本，提高了蒸鍍效率。

4、另外，根據(jù)本實用新型上述的真空鍍膜機(jī)，還可以具有如下附加的技術(shù)特征：

5、進(jìn)一步地，本體上設(shè)有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件和圓形的導(dǎo)軌，導(dǎo)軌沿其周向設(shè)有齒條，鍍鍋通過固定其上的齒輪嚙合于齒條上，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件與齒輪之間通過支架傳動連接。

6、進(jìn)一步地，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件固接于本體的頂部中部，鍍源位于多個鍍鍋的旋轉(zhuǎn)中心的正下方。

7、進(jìn)一步地，每一個加熱燈的中心與鍍源的中心距離相等。

8、進(jìn)一步地，多個鍍鍋沿蒸鍍腔周向均勻間隔設(shè)置。

9、進(jìn)一步地，多個加熱燈沿蒸鍍腔周向均勻間隔設(shè)置。

技術(shù)特征：

1.一種真空鍍膜機(jī)，其特征在于，所述真空鍍膜機(jī)包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜機(jī)，其特征在于，所述本體上設(shè)有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件和圓形的導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌沿其周向設(shè)有齒條，所述鍍鍋通過固定其上的齒輪嚙合于所述齒條上，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件與所述齒輪之間通過支架傳動連接，以在所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件驅(qū)動所述支架旋轉(zhuǎn)時使所述齒輪在所述齒條上滾動。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空鍍膜機(jī)，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件固接于所述本體的頂部中部，所述鍍源位于多個所述鍍鍋的旋轉(zhuǎn)中心的正下方。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空鍍膜機(jī)，其特征在于，每一個所述加熱燈的中心與所述鍍源的中心距離相等。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項所述的真空鍍膜機(jī)，其特征在于，多個所述鍍鍋沿所述蒸鍍腔周向均勻間隔設(shè)置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項所述的真空鍍膜機(jī)，其特征在于，多個所述加熱燈沿所述蒸鍍腔周向均勻間隔設(shè)置。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)提供了一種真空鍍膜機(jī)，包括本體、鍍鍋、鍍源、加熱燈，本體內(nèi)形成一蒸鍍腔，沿蒸鍍腔周向間隔設(shè)置有多個能夠自轉(zhuǎn)且公轉(zhuǎn)的鍍鍋，鍍源設(shè)于蒸鍍腔內(nèi)且位于鍍鍋的下方，沿蒸鍍腔周向間隔設(shè)置有多個加熱燈，多個加熱燈圍繞鍍源，加熱燈用于照射鍍鍋上的基片，每一個加熱燈的出光區(qū)域邊緣處均設(shè)有擋板，擋板用于阻擋氣態(tài)的鍍膜粒子通向加熱燈的出光區(qū)域。本技術(shù)可以不用頻繁更換玻璃片，或者不用設(shè)置玻璃片，減少了生產(chǎn)成本，提高了蒸鍍效率。

技術(shù)研發(fā)人員：李文浩,康龍,董國慶,文國昇,金從龍
受保護(hù)的技術(shù)使用者：江西兆馳半導(dǎo)體有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240507
技術(shù)公布日：2025/1/9