本技術涉及坩堝表面處理,具體來說,涉及一種陶瓷坩堝表面處理裝置。
背景技術:
1、陶瓷坩堝是陶瓷質(zhì)坩堝的一種,其中包括碳化硅石墨坩堝,碳化硅石墨坩堝為一陶瓷深底的碗狀容器,具有體積密度大、耐高溫、傳熱快、耐酸堿侵蝕、高溫強度大、抗氧化性能高等特點,陶瓷坩堝在生產(chǎn)時需要對其表面進行噴砂處理。
2、經(jīng)過檢索后發(fā)現(xiàn),公開號為cn219380392u,名稱為一種碳化硅坩堝用表面處理裝置,該申請?zhí)岢隽爽F(xiàn)有技術中在對坩堝表面進行噴砂作業(yè)時,常會配用單獨的夾持設備固定坩堝,保證坩堝在噴砂作業(yè)過程中的穩(wěn)固性,但從實際出發(fā)現(xiàn)有技術中的夾具多直接通過兩夾板從坩堝的外表面進行夾持作業(yè),進而夾板與坩堝外表面接觸,容易遮擋較多的噴涂面,導致實際坩堝外表面噴涂不夠均勻,降低噴涂效果的問題,通過內(nèi)緊固機構(gòu)的設置,可坩堝內(nèi)部實施固定效果,在確保坩堝在噴砂作業(yè)時穩(wěn)固性的前提下,代替了傳統(tǒng)技術中夾持設備從坩堝外表面夾持,遮擋坩堝外表面的弊端,保證坩堝噴砂作業(yè)時的均勻程度,增強實用性,但是,該申請雖然通過對坩堝內(nèi)壁進行夾持方便了外壁的處理,在處理坩堝內(nèi)表面時,該申請難以對外表面進行高效穩(wěn)定的夾持,使用存在較大的局限性,同時,坩堝的頂口處于倒置狀態(tài),頂口部位無法進行表面處理,工作效率不高,結(jié)構(gòu)也較為復雜,還可以進一步做出改進。
3、針對相關技術中的問題,目前尚未提出有效的解決方案。
技術實現(xiàn)思路
1、(一)解決的技術問題
2、針對現(xiàn)有技術的不足,本實用新型提供了一種陶瓷坩堝表面處理裝置,具備結(jié)構(gòu)簡單、工作效率高的優(yōu)點,進而解決上述背景技術中的問題。
3、(二)技術方案
4、為實現(xiàn)上述結(jié)構(gòu)簡單、工作效率高的優(yōu)點,本實用新型采用的具體技術方案如下:
5、一種陶瓷坩堝表面處理裝置,包括中空臺和底筒,所述中空臺底面固定安裝有底筒,且底筒內(nèi)部固定安裝有抽氣泵,并且抽氣泵進氣端貫通連接有抽氣管,所述抽氣管延伸至中空臺內(nèi)部,且中空臺頂面固定安裝有外部硅膠圈,并且外部硅膠圈內(nèi)側(cè)位于中空臺頂面固定安裝有內(nèi)部硅膠墊,所述外部硅膠圈頂面開設有凹槽,所述內(nèi)部硅膠墊表面貫穿開設有抽氣孔,且抽氣孔貫穿中空臺頂面,并且抽氣孔頂面位于內(nèi)部硅膠墊頂面開設有下沉槽。
6、進一步的,所述外部硅膠圈和內(nèi)部硅膠墊頂面處于同一平面內(nèi),且外部硅膠圈和內(nèi)部硅膠墊與中空臺同軸布置。
7、進一步的,所述抽氣孔均勻開設有多個,且抽氣孔分布面積小于陶瓷坩堝底面面積。
8、進一步的,所述凹槽為環(huán)形槽,且凹槽與外部硅膠圈同軸布置。
9、進一步的,所述抽氣管表面安裝有單向閥,且單向閥安裝方向豎直向下。
10、進一步的,所述中空臺表面貫通連接有進氣管,且進氣管表面安裝有閥門。
11、進一步的,所述底筒與中空臺同軸布置,且底筒表面開設有透氣孔。
12、(三)有益效果
13、與現(xiàn)有技術相比,本實用新型提供了一種陶瓷坩堝表面處理裝置,具備以下有益效果:
14、(1)、本實用新型采用了中空臺和外部硅膠圈,在對陶瓷坩堝外表面進行處理時,可將陶瓷坩堝倒扣在外部硅膠圈頂面,將陶瓷坩堝的頂口插入到凹槽中,隨后,啟動抽氣泵抽出中空臺內(nèi)部的空氣,即可通過抽氣孔抽出陶瓷坩堝內(nèi)部的空氣,使陶瓷坩堝內(nèi)部形成負壓,使陶瓷坩堝的頂口與凹槽內(nèi)底面抵緊,從而固定陶瓷坩堝,在對陶瓷坩堝外表面進行處理時,可將陶瓷坩堝底面放置到內(nèi)部硅膠墊頂面,同樣啟動抽氣泵,抽氣泵抽出下沉槽內(nèi)部的空氣,同樣可通過負壓使陶瓷坩堝與內(nèi)部硅膠墊頂面固定,避免在噴砂以及噴涂處理時晃動,本裝置通過啟動抽氣泵即可迅速的固定陶瓷坩堝,結(jié)構(gòu)十分簡單,工作效率高,極大的方便了工作人員對陶瓷坩堝的內(nèi)外表面進行處理。
15、(2)、本實用新型在對陶瓷坩堝外表面進行固定時,僅陶瓷坩堝頂口部位受到遮擋,陶瓷坩堝底面和外表面可均勻的受到處理,當對陶瓷坩堝內(nèi)表面進行處理時,頂口此時同步受到處理,即可全方位對陶瓷坩堝進行處理,不存在處理死角,從而進一步提高了處理效率。
1.一種陶瓷坩堝表面處理裝置,其特征在于,包括中空臺(1)和底筒(8),所述中空臺(1)底面固定安裝有底筒(8),且底筒(8)內(nèi)部固定安裝有抽氣泵(11),并且抽氣泵(11)進氣端貫通連接有抽氣管(12),所述抽氣管(12)延伸至中空臺(1)內(nèi)部,且中空臺(1)頂面固定安裝有外部硅膠圈(2),并且外部硅膠圈(2)內(nèi)側(cè)位于中空臺(1)頂面固定安裝有內(nèi)部硅膠墊(4),所述外部硅膠圈(2)頂面開設有凹槽(3),所述內(nèi)部硅膠墊(4)表面貫穿開設有抽氣孔(10),且抽氣孔(10)貫穿中空臺(1)頂面,并且抽氣孔(10)頂面位于內(nèi)部硅膠墊(4)頂面開設有下沉槽(5)。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種陶瓷坩堝表面處理裝置,其特征在于,所述外部硅膠圈(2)和內(nèi)部硅膠墊(4)頂面處于同一平面內(nèi),且外部硅膠圈(2)和內(nèi)部硅膠墊(4)與中空臺(1)同軸布置。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種陶瓷坩堝表面處理裝置,其特征在于,所述抽氣孔(10)均勻開設有多個,且抽氣孔(10)分布面積小于陶瓷坩堝底面面積。
4.根據(jù)權利要求1所述的一種陶瓷坩堝表面處理裝置,其特征在于,所述凹槽(3)為環(huán)形槽,且凹槽(3)與外部硅膠圈(2)同軸布置。
5.根據(jù)權利要求1所述的一種陶瓷坩堝表面處理裝置,其特征在于,所述抽氣管(12)表面安裝有單向閥(13),且單向閥(13)安裝方向豎直向下。
6.根據(jù)權利要求1所述的一種陶瓷坩堝表面處理裝置,其特征在于,所述中空臺(1)表面貫通連接有進氣管(6),且進氣管(6)表面安裝有閥門(7)。
7.根據(jù)權利要求1所述的一種陶瓷坩堝表面處理裝置,其特征在于,所述底筒(8)與中空臺(1)同軸布置,且底筒(8)表面開設有透氣孔(9)。