本發(fā)明涉及成膜裝置及吸附方法。

背景技術(shù)：

1、近年來，有機el顯示裝置等的面板被廣泛使用，不僅在智能手機，在大型電視機等的大型面板中應(yīng)用領(lǐng)域也在擴大。隨著這樣的基板的大型化，在使蒸發(fā)材料附著于基板而制造面板的成膜裝置中，為了穩(wěn)定地支承基板，開始利用吸附基板的吸附構(gòu)件。

2、例如在專利文獻1中，作為用于降低伴隨基板的大型化的自重引起的撓曲的方法，公開了在基板的上部配置靜電卡盤，對靜電卡盤施加電壓，利用靜電引力吸附基板的上表面，從而降低基板的撓曲。

3、在先技術(shù)文獻

4、專利文獻

5、專利文獻1：日本特開2019-099910號公報

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的課題

2、在基板進一步大尺寸化的情況下，在將基板吸附于吸附構(gòu)件之前的、基板載置在支承部的階段基板的撓曲變大，吸附構(gòu)件對基板的穩(wěn)定吸附變得困難，或者即使能夠吸附基板，之后也會剝離。因此，要求能夠用吸附構(gòu)件穩(wěn)定地吸附大型的基板，之后不產(chǎn)生基板的剝離或落下。

3、本發(fā)明是鑒于上述課題而完成的，其目的在于提供一種用于利用吸附構(gòu)件以穩(wěn)定的狀態(tài)吸附基板并且穩(wěn)定地維持吸附的狀態(tài)的技術(shù)。

4、用于解決課題的方案

5、本發(fā)明采用以下的結(jié)構(gòu)。即，

6、一種成膜裝置，是使成膜材料附著在基板上進行成膜的成膜裝置，其特征在于，

7、所述成膜裝置具備：

8、多個支承構(gòu)件，支承所述基板中進行成膜的第一面的周緣部；

9、多個抵接構(gòu)件，分別與所述多個支承構(gòu)件相向，且同所述基板的與所述第一面相反的第二面抵接；

10、上推構(gòu)件，在所述基板的所述第一面被所述多個支承構(gòu)件支承且所述多個抵接構(gòu)件與所述第二面抵接的狀態(tài)下，將所述基板的所述第一面中的比所述周緣部靠內(nèi)側(cè)的區(qū)域上推；以及

11、吸附構(gòu)件，在所述基板的所述內(nèi)側(cè)的區(qū)域被上推的狀態(tài)下，吸附所述基板的所述第二面。

12、本發(fā)明還采用以下的結(jié)構(gòu)。即

13、一種吸附方法，是在使成膜材料附著在基板上進行成膜的成膜裝置中吸附并保持所述基板的吸附方法，其特征在于，

14、所述吸附方法具有以下的工序：

15、利用多個支承構(gòu)件支承所述基板中進行成膜的第一面的周緣部的工序；

16、使分別與所述多個支承構(gòu)件相向的多個抵接構(gòu)件同所述基板的與所述第一面相反的第二面抵接的工序；

17、利用上推構(gòu)件將所述基板的所述第一面中的比所述周緣部靠內(nèi)側(cè)的區(qū)域上推的工序；以及

18、利用吸附構(gòu)件吸附所述基板的所述第二面的工序。

19、發(fā)明的效果

20、根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種用于利用吸附構(gòu)件以穩(wěn)定的狀態(tài)吸附基板并且穩(wěn)定地維持吸附的狀態(tài)的技術(shù)。

技術(shù)特征：

1.一種成膜裝置，是使成膜材料附著在基板上進行成膜的成膜裝置，其特征在于，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的成膜裝置，其特征在于，

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項所述的成膜裝置，其特征在于，

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的成膜裝置，其特征在于，

7.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項所述的成膜裝置，其特征在于，

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的成膜裝置，其特征在于，

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的成膜裝置，其特征在于，

10.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項所述的成膜裝置，其特征在于，

11.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項所述的成膜裝置，其特征在于，

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的成膜裝置，其特征在于，

13.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項所述的成膜裝置，其特征在于，

14.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項所述的成膜裝置，其特征在于，

15.一種吸附方法，是在使成膜材料附著在基板上進行成膜的成膜裝置中吸附并保持所述基板的吸附方法，其特征在于，

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供用于通過吸附構(gòu)件以穩(wěn)定的狀態(tài)吸附基板并且穩(wěn)定地維持吸附的狀態(tài)的成膜裝置及吸附方法。使用成膜裝置，其是使成膜材料附著在基板上進行成膜的成膜裝置，其特征在于，所述成膜裝置具備：多個支承構(gòu)件，支承基板中進行成膜的第一面的周緣部；多個抵接構(gòu)件，分別與多個支承構(gòu)件相向，且同基板的與第一面相反的第二面抵接；上推構(gòu)件，在基板的第一面被多個支承構(gòu)件支承且多個抵接構(gòu)件與第二面抵接的狀態(tài)下，將基板的第一面中的比周緣部靠內(nèi)側(cè)的區(qū)域上推；以及吸附構(gòu)件，在基板的內(nèi)側(cè)的區(qū)域被上推的狀態(tài)下，吸附基板的第二面。

技術(shù)研發(fā)人員：石井博
受保護的技術(shù)使用者：佳能特機株式會社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/9