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一種利用率高的離子源濺射靶材裝置的制作方法

文檔序號:11206677閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種利用率高的離子源濺射靶材裝置,其特征在于,包括背板(1)及可拆卸地設于所述背板(1)上的第一靶材(21)、第二靶材(22)、第三靶材(23)及第四靶材(24);所述四個靶材均為矩形結(jié)構(gòu),且四個靶材呈田字形結(jié)構(gòu)拼接在一起。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用率高的離子源濺射靶材裝置,其特征在于,所述背板(1)為矩形結(jié)構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種利用率高的離子源濺射靶材裝置,其特征在于,四個靶材呈田字形結(jié)構(gòu)拼接在一起時的尺寸與背板(1)的尺寸相匹配。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種利用率高的離子源濺射靶材裝置,其特征在于,四個靶材及背板(1)均為正方形結(jié)構(gòu)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用率高的離子源濺射靶材裝置,其特征在于,背板(1)上設有用于對四個靶材進行定位的定位結(jié)構(gòu)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種利用率高的離子源濺射靶材裝置,其特征在于,所述定位結(jié)構(gòu)為設于背板(1)中心的十字形定位線。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種利用率高的離子源濺射靶材裝置,其特征在于,所述定位結(jié)構(gòu)為設于背板(1)上的邊框。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用率高的離子源濺射靶材裝置,其特征在于,四個靶材及背板(1)上均設有金屬結(jié)構(gòu),靶材與背板(1)通過金屬結(jié)構(gòu)焊接連接。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種利用率高的離子源濺射靶材裝置,其特征在于,所述背板(1)上設有水路冷卻系統(tǒng)。

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