本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種掩膜板模組、有機電致發(fā)光顯示面板及其制作方法。

背景技術(shù)：

常規(guī)的有機電致發(fā)光顯示面板(oled)屏幕的顯示區(qū)(aa)通常是諸如矩形的規(guī)則圖形。為應(yīng)對特殊需求，oled屏幕的顯示區(qū)也被要求能做成特殊的不規(guī)則的圖形，比如特定的logo顯示，再比如無邊框屏幕要將攝像頭、聽筒等放置在顯示區(qū)也需要異形顯示。

通常，在oled制作過程中，發(fā)光功能層(el)有機材料的蒸鍍是采用開放式掩膜板(openmask)，如圖1所示，開放式掩膜板在與各顯示基板的顯示區(qū)設(shè)置開口a即鏤空區(qū)域，在該開口a處無金屬遮擋用于蒸鍍有機材料。當(dāng)顯示區(qū)域需要制作孤島圖形時，如圖2所示，開放式掩膜板需要在開口a內(nèi)設(shè)置對應(yīng)遮擋孤島圖形的金屬遮擋圖案b，因此，會產(chǎn)生連接金屬遮擋圖案b和開口a邊緣的連通結(jié)構(gòu)c，連通結(jié)構(gòu)c會遮擋部分顯示區(qū)，故常規(guī)的openmask無法對應(yīng)異形顯示的制作。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

有鑒于此，本發(fā)明實施例提供了一種掩膜板模組、有機電致發(fā)光顯示面板及其制作方法，用以解決現(xiàn)有的開放式掩膜板對于孤島圖形的連接問題。

因此，本發(fā)明實施例提供了一種掩膜板模組，包括：至少兩塊開放式掩膜板；各所述開放式掩膜板具有與至少一個顯示基板的顯示區(qū)一一對應(yīng)的開口區(qū)；在各所述顯示區(qū)內(nèi)具有至少一個孤島圖形；

與同一所述顯示區(qū)對應(yīng)的各所述開放式掩膜板的開口區(qū)之間互不重疊，且各開口區(qū)拼接后構(gòu)成包圍所述孤島圖形的顯示區(qū)的圖形。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，與同一所述顯示區(qū)對應(yīng)的各所述開放式掩膜板的開口區(qū)構(gòu)成互補圖形。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，與同一所述顯示區(qū)對應(yīng)的各所述開放式掩膜板的開口區(qū)之間的拼接邊緣對應(yīng)于所述顯示區(qū)內(nèi)的各像素發(fā)光區(qū)之間的間隙處。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，與同一所述顯示區(qū)對應(yīng)的各所述開放式掩膜板的開口區(qū)之間的拼接邊緣為曲線或折線。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，與同一所述顯示區(qū)對應(yīng)的各所述開放式掩膜板的開口區(qū)之間的拼接邊緣具有光柵互補結(jié)構(gòu)。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，與同一所述顯示區(qū)對應(yīng)的各所述開放式掩膜板的開口區(qū)之間的拼接邊緣具有條狀結(jié)構(gòu)，且兩個拼接邊緣之間的條狀結(jié)構(gòu)構(gòu)成插指結(jié)構(gòu)。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，與同一所述顯示區(qū)對應(yīng)的各所述開放式掩膜板的開口區(qū)之間的拼接邊緣具有半蒸鍍結(jié)構(gòu)。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，與同一所述顯示區(qū)對應(yīng)的各所述開放式掩膜板的開口區(qū)之間的拼接邊緣區(qū)域處的掩膜板厚度小于其他區(qū)域處的厚度，且所述拼接邊緣區(qū)域處在面向待蒸鍍顯示基板的一側(cè)厚度減薄。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，所述拼接邊緣區(qū)域處的厚度減薄比例為20％-50％。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，所述開放式掩膜板的數(shù)量為兩個。

另一方面，本發(fā)明實施例還提供了一種膜層的制作方法，包括：

依次采用本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中的各開放式掩膜板作為遮擋圖形，對同一母板進行相同材料的蒸鍍，以在所述母板中對應(yīng)于各顯示基板的顯示區(qū)處形成包圍孤島圖形的蒸鍍膜層。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述制作方法中，所述蒸鍍膜層為有機發(fā)光功能膜層、陰極層或薄膜封裝功能層。

另一方面，本發(fā)明實施例還提供了一種有機電致發(fā)光顯示面板的制作方法，包括本發(fā)明實施例提供的上述膜層的制作方法。

另一方面，本發(fā)明實施例還提供了一種采用上述制作方法制作的有機電致發(fā)光顯示面板，包括：在顯示區(qū)形成的各膜層，各所述膜層具有相互重疊的鏤空區(qū)域以在所述顯示區(qū)形成孤島圖形。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述有機電致發(fā)光顯示面板中，在所述孤島圖形處設(shè)置有攝像頭或聽筒；或所述孤島圖形為設(shè)定的標(biāo)識圖形。

本發(fā)明實施例的有益效果包括：

本發(fā)明實施例提供的一種掩膜板模組、有機電致發(fā)光顯示面板及其制作方法，采用多塊開放式掩膜板代替現(xiàn)有的一塊開放式掩膜板制作在顯示區(qū)具有孤島圖形的膜層，各開放式掩膜板的開口區(qū)之間互不重疊且各開口區(qū)拼接后構(gòu)成包圍該孤島圖形的顯示區(qū)的圖形，這樣可以保證各開放式掩膜板的開口區(qū)內(nèi)不會包含需要通過連通結(jié)構(gòu)與邊緣連接的遮擋圖案。依次采用上述各開放式掩膜板作為遮擋圖形，對同一母板進行相同材料的蒸鍍，可以在母板中對應(yīng)于各顯示基板的顯示區(qū)處形成包圍孤島圖形的蒸鍍膜層，使得制作出的遮擋膜層的圖案不受連通結(jié)構(gòu)的影響，因此，可以根據(jù)需求制作出包含至少一個孤島圖形的有機發(fā)光顯示面板。

附圖說明

圖1和圖2為現(xiàn)有技術(shù)中的掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實施例提供的掩膜板模組的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4a和圖4b分別為本發(fā)明實施例提供的掩膜板模組中開口區(qū)對應(yīng)的顯示區(qū)的示意圖；

圖5為本發(fā)明實施例提供的掩膜板模組的局部結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明實施例提供的掩膜板模組中一個掩膜板的掩膜示意圖。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖，對本發(fā)明實施例提供的掩膜板模組、有機電致發(fā)光顯示面板及其制作方法的具體實施方式進行詳細(xì)地說明。

附圖中各區(qū)域的形狀和大小不反映掩膜模組的真實比例，目的只是示意說明本發(fā)明內(nèi)容。

本發(fā)明實施例提供了一種掩膜板模組，如圖3所示，包括：至少兩塊開放式掩膜板100和200；各開放式掩膜板100和200具有與至少一個顯示基板的顯示區(qū)一一對應(yīng)的開口區(qū)101和201；在各顯示區(qū)a內(nèi)具有至少一個孤島圖形b；

與同一顯示區(qū)對應(yīng)的各開放式掩膜板100和200的開口區(qū)101和201之間互不重疊，且各開口區(qū)101和201拼接后構(gòu)成包圍孤島圖形b的顯示區(qū)a的圖形。

具體地，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，采用多塊開放式掩膜板100和200構(gòu)成的掩膜板模組代替現(xiàn)有的一塊開放式掩膜板制作在顯示區(qū)a具有孤島圖形b的膜層，各開放式掩膜板100和200的開口區(qū)101和201之間互不重疊且各開口區(qū)101和201拼接后構(gòu)成包圍該孤島圖形b的顯示區(qū)a的圖形，這樣可以保證各開放式掩膜板100和200的開口區(qū)101和201內(nèi)不會包含需要通過連通結(jié)構(gòu)與邊緣連接的遮擋圖案。這樣，依次采用上述各開放式掩膜板100和200作為遮擋圖形，對同一母板進行相同材料的蒸鍍，可以在母板中對應(yīng)于各顯示基板的顯示區(qū)a處形成包圍孤島圖形b的蒸鍍膜層，使得制作出的遮擋膜層的圖案不受連通結(jié)構(gòu)的影響，因此，可以根據(jù)需求制作出包含至少一個孤島圖形b的有機發(fā)光顯示面板。

值得注意的是，有機發(fā)光顯示面板在孤島圖形b處無膜層圖案，即孤島圖形處不作為顯示，可以設(shè)置攝像頭或聽筒，還可以將孤島圖形制作成具體的標(biāo)志圖形(logo)以實現(xiàn)異形顯示。

具體地，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中的圖3是以兩塊開放式掩膜板100和200構(gòu)成掩膜板模組，并且每塊開放式掩膜板100和200用于制作三個顯示基板，即具有三個開口區(qū)為例進行說明的，且圖3僅示出了在顯示區(qū)a內(nèi)僅具有一個孤島圖形b的情況。在具體實施時，可以根據(jù)實際需要設(shè)置掩膜板模組的尺寸以制作不同個數(shù)的顯示基板，且可以根據(jù)需要在顯示區(qū)a內(nèi)設(shè)置多個孤島圖形b，且并不限定孤島圖形b的形狀。并且，可以不受孤島圖形b的數(shù)量和形狀的限制，根據(jù)實際需要設(shè)置多塊開放式掩膜板100和200構(gòu)成掩膜板模組。但選用的構(gòu)成掩膜板模組的開放式掩膜板100和200數(shù)量越多，越不利于節(jié)省生產(chǎn)制作成本和生產(chǎn)效率。因此，較佳地，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，選用兩塊開放式掩膜板100和200為佳，即可滿足制作具有多個孤島圖形b的顯示區(qū)a的需求。因此，下面均是基于如圖3所示的采用兩塊開放式掩膜板100和200構(gòu)成掩膜板模組為例進行說明。

在具體實施時，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，如圖3所示，為了保證各開放式掩膜板100和200的開口區(qū)101和201為一完整鏤空圖形，內(nèi)部不會包含任何孤島圖形b，需要將顯示區(qū)a沿孤島圖形b進行分割，各開放式掩膜板100和200的開口區(qū)101和201遮擋一部分孤島圖形b，這樣，與同一顯示區(qū)a對應(yīng)的各開放式掩膜板100和200的開口區(qū)101和201就會構(gòu)成互補圖形。

在具體實施時，采用本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組制作膜層圖案時，由于依次采用上述各開放式掩膜板100和200作為遮擋圖形，對同一母板進行相同材料的蒸鍍，可以在母板中對應(yīng)于各顯示基板的顯示區(qū)a處形成包圍孤島圖形b的蒸鍍膜層，使得制作出的遮擋膜層的圖案不受連通結(jié)構(gòu)的影響。但是在與同一顯示區(qū)a對應(yīng)的各開放式掩膜板100和200的開口區(qū)101和201之間的拼接邊緣d處會蒸鍍多次材料，受到各開放式掩膜板100和200的對位精度和制作精度的影響，在拼接邊緣d處很容易出現(xiàn)制作出的膜層不均一而影響顯示的問題。

基于此，在具體實施時，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，可以采用下述三種方式改善上述問題。這三種方式可以同時采用，也可以擇一采用，在此不做限定。下面對這三種方式進行詳細(xì)介紹。

第一種方式：在具體實施時，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，如圖4a和圖4b所示，可以將與同一顯示區(qū)a對應(yīng)的各開放式掩膜板100和200的開口區(qū)101和201之間的拼接邊緣d，對應(yīng)設(shè)置于顯示區(qū)a內(nèi)的各像素發(fā)光區(qū)c之間的間隙處，這樣，即使在拼接邊緣d處制作出的膜層不均勻也不會影響到各像素發(fā)光區(qū)c的正常發(fā)光。

具體地，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，根據(jù)各像素發(fā)光區(qū)c的排列方式，與同一顯示區(qū)a對應(yīng)的各開放式掩膜板100和200的開口區(qū)101和201之間的拼接邊緣d可以為如圖4a所示的曲線，也可以為如圖4b所示的折線，還可以為直線，在此不做限定。

第二種方式：在具體實施時，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，如圖5所示，與同一顯示區(qū)a對應(yīng)的各開放式掩膜板100和200的開口區(qū)101和201之間的拼接邊緣d具有光柵互補結(jié)構(gòu)，可以對掩膜時透過的光產(chǎn)生類似于光柵衍射的作用，使拼接邊緣d處膜厚過渡更均勻。

具體地，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，如圖5所示，與同一顯示區(qū)a對應(yīng)的各開放式掩膜板100和200的開口區(qū)101和201之間的拼接邊緣d可以具有條狀結(jié)構(gòu)，使各開放式掩膜板100和200的開口區(qū)101和201之間的拼接邊緣d處的條狀結(jié)構(gòu)可以對掩膜時透過的光產(chǎn)生類似于光柵衍射的作用，而兩個拼接邊緣d之間的條狀結(jié)構(gòu)可以構(gòu)成插指結(jié)構(gòu)，以保證開口區(qū)101和201構(gòu)成互補圖形。

第三種方式：在具體實施時，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，如圖6所示，與同一顯示區(qū)a對應(yīng)的各開放式掩膜板100和200的開口區(qū)101和201之間的拼接邊緣d具有半蒸鍍結(jié)構(gòu)，使開放式掩模板100和200與待蒸鍍顯示基板300之間形成空隙，有一部分蒸鍍材料會沿著空隙沉積到半蒸鍍結(jié)構(gòu)下方，使拼接邊緣d處膜厚過渡更均勻。

具體地，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，拼接邊緣d的半蒸鍍結(jié)構(gòu)的具體實現(xiàn)方式有多種，例如可以如圖6所示，將與同一顯示區(qū)a對應(yīng)的各開放式掩膜板100和200的開口區(qū)101和201之間的拼接邊緣d處的掩膜板101厚度小于其他區(qū)域處的厚度，且拼接邊緣d區(qū)域處在面向待蒸鍍基板300的一側(cè)厚度減薄，使開放式掩模板100和200與待蒸鍍顯示基板300之間形成空隙，有一部分蒸鍍材料會沿著空隙沉積到半蒸鍍結(jié)構(gòu)下方。

具體地，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中，拼接邊緣d區(qū)域處的厚度減薄比例可以為20％-50％，減薄比例可視具體情況和工藝調(diào)整，確保拼接邊緣膜厚均勻過渡。

基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實施例還提供了一種膜層的制作方法，通過以下方式實現(xiàn)：

依次采用本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組中的各開放式掩膜板作為遮擋圖形，對同一母板進行相同材料的蒸鍍，以在母板中對應(yīng)于各顯示基板的顯示區(qū)處形成包圍孤島圖形的蒸鍍膜層。使得制作出的遮擋膜層的圖案不受連通結(jié)構(gòu)的影響，因此，可以根據(jù)需求制作出包含至少一個非顯示的孤島圖形的有機發(fā)光顯示面板。

在具體實施時，在本發(fā)明實施例提供的上述制作方法中，蒸鍍膜層可以為諸如白光發(fā)光層、空穴傳輸層、電子傳輸層等的有機發(fā)光功能膜層，也可以為陰極層，還可以為薄膜封裝功能層，在此不做限定。

基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實施例還提供了一種有機電致發(fā)光顯示面板的制作方法，包括本發(fā)明實施例提供的上述膜層的制作方法。由于依次采用上述各開放式掩膜板作為遮擋圖形，對同一母板進行相同材料的蒸鍍，可以在母板中對應(yīng)于各顯示基板的顯示區(qū)處形成包圍孤島圖形的蒸鍍膜層，使得制作出的遮擋膜層的圖案不受連通結(jié)構(gòu)的影響，因此，可以根據(jù)需求制作出包含至少一個孤島圖形的有機發(fā)光顯示面板。

基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實施例還提供了一種采用上述有機電致發(fā)光顯示面板的制作方法制作的有機電致發(fā)光顯示面板，包括：在顯示區(qū)形成的各膜層，各膜層具有相互重疊的鏤空區(qū)域以在顯示區(qū)形成孤島圖形。

具體地，采用上述制作方法制作出的有機電致發(fā)光顯示面板具有的孤島圖形處不具備任何膜層圖案，這樣可以在孤島圖形處設(shè)置攝像頭或聽筒，即將目前設(shè)置于顯示裝置的邊框處的一些功能器件設(shè)置在顯示區(qū)，以實現(xiàn)窄邊框或無邊框的顯示裝置設(shè)計。或者也可以將孤島圖形設(shè)定為標(biāo)識圖形，以實現(xiàn)所需的異形顯示。

本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板模組、有機電致發(fā)光顯示面板及其制作方法，采用多塊開放式掩膜板代替現(xiàn)有的一塊開放式掩膜板制作在顯示區(qū)具有孤島圖形的膜層，各開放式掩膜板的開口區(qū)之間互不重疊且各開口區(qū)拼接后構(gòu)成包圍該孤島圖形的顯示區(qū)的圖形，這樣可以保證各開放式掩膜板的開口區(qū)內(nèi)不會包含需要通過連通結(jié)構(gòu)與邊緣連接的遮擋圖案。依次采用上述各開放式掩膜板作為遮擋圖形，對同一母板進行相同材料的蒸鍍，可以在母板中對應(yīng)于各顯示基板的顯示區(qū)處形成包圍孤島圖形的蒸鍍膜層，使得制作出的遮擋膜層的圖案不受連通結(jié)構(gòu)的影響，因此，可以根據(jù)需求制作出包含至少一個孤島圖形的有機發(fā)光顯示面板。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。