本發(fā)明涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種鍍膜裝置。

背景技術(shù)：

在現(xiàn)有技術(shù)中，對(duì)于柔性顯示基板，例如：oled(organiclightemittingdiode，有機(jī)發(fā)光二極管)顯示屏，制備工藝分為兩類(lèi)：一類(lèi)為，在玻璃基板上涂覆柔性薄膜，待封裝工序完成后將柔性薄膜和玻璃基板分離；另一類(lèi)為，在柔性基板上直接通過(guò)鍍膜工藝等制備顯示器件。

現(xiàn)有鍍膜設(shè)備中，以磁控濺射設(shè)備為例，其是通過(guò)離子轟擊靶材，在基板表面上進(jìn)行薄膜沉積。但是，在現(xiàn)有技術(shù)中，對(duì)于平面玻璃基板來(lái)說(shuō)，進(jìn)行磁控濺射時(shí)，通過(guò)掩膜版可以直接在平面玻璃基板上沉積圖形化的薄膜；而對(duì)于柔性基板來(lái)說(shuō)，柔性基板在進(jìn)行鍍膜時(shí)是卷曲纏繞濺射成膜輥上，再通過(guò)離子轟擊靶材，在柔性基板表面上進(jìn)行薄膜沉積，由于柔性基板的曲面有一定弧度，柔性基板上的對(duì)位標(biāo)記難以在攝像機(jī)(ccd)中聚焦清楚，導(dǎo)致鍍膜裝置中掩膜版難以使用，磁控濺射設(shè)備只能對(duì)柔性基板進(jìn)行整面薄膜沉積，無(wú)法使用掩膜版進(jìn)行薄膜的圖形化，后續(xù)圖形化還需要使用光刻、刻蝕等制程。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種鍍膜裝置，其能夠?qū)崿F(xiàn)柔性基板與掩膜版的對(duì)位，從而解決柔性基板在鍍膜時(shí)只能整面薄膜沉積，無(wú)法直接使用掩膜版進(jìn)行薄膜的圖形化的問(wèn)題。

本發(fā)明所提供的技術(shù)方案如下：

一種鍍膜裝置，用于在柔性基板上鍍膜，所述柔性基板上設(shè)有第一對(duì)位標(biāo)記；所述鍍膜裝置包括：

成膜輥，所述成膜輥的外周面上包括一預(yù)定區(qū)域，所述柔性基板的當(dāng)前待鍍膜部位能夠卷繞在所述預(yù)定區(qū)域處；

靶材，所述靶材設(shè)置在所述成膜輥一側(cè)，并與所述成膜輥的預(yù)定區(qū)域位置對(duì)應(yīng)；

掩膜版，設(shè)置在所述靶材與所述成膜輥之間，所述掩膜版為曲面掩膜版，其曲面曲度與所述成膜輥的預(yù)定區(qū)域處的曲面曲度相同，所述掩膜版上設(shè)有第二對(duì)位標(biāo)記；

復(fù)眼攝像機(jī)，用以獲取所述掩模版的第二對(duì)位標(biāo)記及所述柔性基板的第一對(duì)位標(biāo)記的位置信息；

以及，控制機(jī)構(gòu)，用于根據(jù)所述復(fù)眼攝像機(jī)獲取的所述位置信息，控制所述掩膜版移動(dòng)，以將所述掩膜版與所述柔性基板進(jìn)行對(duì)位。

進(jìn)一步的，所述復(fù)眼攝像機(jī)設(shè)置在所述成膜輥內(nèi)，在所述成膜輥的預(yù)定區(qū)域處設(shè)置有能夠與所述第一對(duì)位標(biāo)記對(duì)位的第三對(duì)位標(biāo)記，所述復(fù)眼攝像機(jī)與所述第三對(duì)位標(biāo)記的位置正對(duì)，以使所述第一對(duì)位標(biāo)記能夠落入所述復(fù)眼攝像機(jī)的視場(chǎng)角范圍內(nèi)；并且所述成膜輥至少在所述復(fù)眼攝像機(jī)的視場(chǎng)角范圍內(nèi)呈透明狀態(tài)。

進(jìn)一步的，所述第三對(duì)位標(biāo)記至少有兩個(gè)，所述第一對(duì)位標(biāo)記和所述第二對(duì)位標(biāo)記的位置、數(shù)量均與所述第三對(duì)位標(biāo)記相匹配；每一所述第三對(duì)位標(biāo)記處對(duì)應(yīng)設(shè)置有一個(gè)所述復(fù)眼攝像機(jī)。

進(jìn)一步的，每一所述復(fù)眼攝像機(jī)均設(shè)置在一與所述成膜輥的外周面的中心軸相垂直的直線上，所述直線通過(guò)與該復(fù)眼攝像機(jī)所對(duì)應(yīng)的第三對(duì)位標(biāo)記，且所述復(fù)眼攝像機(jī)以預(yù)設(shè)角度放置，以使每一所述第一對(duì)位標(biāo)記位于所述復(fù)眼攝像機(jī)的視場(chǎng)角0°的位置上。

進(jìn)一步的，所述控制機(jī)構(gòu)包括用于移動(dòng)所述掩膜版的移動(dòng)機(jī)構(gòu)。

進(jìn)一步的，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括第一移動(dòng)單元，其中所述掩膜版能夠在所述第一移動(dòng)單元的帶動(dòng)下進(jìn)行往復(fù)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，且旋轉(zhuǎn)中心軸與所述成膜輥的中心軸重合。

進(jìn)一步的，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括第二移動(dòng)單元，所述掩膜版能夠在所述第二移動(dòng)單元的帶動(dòng)下，在與所述成膜輥的中心軸方向平行的方向上進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動(dòng)。

進(jìn)一步的，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括第三移動(dòng)單元，所述掩膜版能夠在所述第三移動(dòng)單元的帶動(dòng)下進(jìn)行往復(fù)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，且旋轉(zhuǎn)中心軸與所述成膜輥的中心軸垂直。

進(jìn)一步的，所述鍍膜裝置還包括分別設(shè)置在所述成膜輥兩側(cè)的柔性基板輸送輥和柔性基板回收輥；其中所述柔性基板未進(jìn)行鍍膜的一端收卷在所述柔性基板輸送輥上，所述柔性基板的另一端經(jīng)過(guò)所述成膜輥的預(yù)定區(qū)域，并收卷在所述柔性基板回收輥上。

進(jìn)一步的，所述鍍膜裝置還包括設(shè)置在所述靶材的遠(yuǎn)離所述成膜輥的一側(cè)的磁控板。

本發(fā)明的有益效果如下：

本發(fā)明所提供的鍍膜裝置，通過(guò)設(shè)置復(fù)眼攝像機(jī)，可以利用復(fù)眼攝像機(jī)的高景深能力來(lái)識(shí)別柔性基板上的第一對(duì)位標(biāo)記與掩膜版上的第二對(duì)位標(biāo)記，并根據(jù)復(fù)眼攝像機(jī)所獲取的信息來(lái)控制掩膜版移動(dòng)，完成掩膜版與柔性基板的對(duì)位，且由于掩膜版為與柔性基板的曲面曲度相同的曲面掩膜版，則完成掩膜版與柔性基板的對(duì)位之后，可直接利用曲面掩膜版在柔性基板上沉積圖形化的薄膜的目的，解決現(xiàn)有技術(shù)中柔性基板在鍍膜時(shí)只能整面薄膜沉積，無(wú)法直接使用掩膜版進(jìn)行薄膜的圖形化的問(wèn)題。

附圖說(shuō)明

圖1表示本發(fā)明實(shí)施例中提供的鍍膜裝置的局部俯視圖；

圖2表示本發(fā)明實(shí)施例中提供的鍍膜裝置在掩膜版與柔性基板未對(duì)位前的結(jié)構(gòu)主視圖；

圖3表示本發(fā)明實(shí)施例中提供的鍍膜裝置在掩膜版與柔性基板對(duì)位之后的結(jié)構(gòu)主視圖；

圖4表示本發(fā)明實(shí)施例中提供的鍍膜裝置在掩膜版在第一移動(dòng)單元帶動(dòng)下的移動(dòng)方向示意圖；

圖5表示本發(fā)明實(shí)施例中提供的鍍膜裝置在掩膜版在第二移動(dòng)單元帶動(dòng)下的移動(dòng)方向示意圖；

圖6表示本發(fā)明實(shí)施例中提供的鍍膜裝置在掩膜版在第三移動(dòng)單元帶動(dòng)下的移動(dòng)方向示意圖。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于所描述的本發(fā)明的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中鍍膜設(shè)備無(wú)法利用掩膜版來(lái)對(duì)柔性基板進(jìn)行薄膜的圖形化的問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種鍍膜裝置，能夠現(xiàn)柔性基板與掩膜版的對(duì)位，直接利用掩膜版在柔性基板上沉積圖形化的薄膜。

本發(fā)明實(shí)施例中提供的鍍膜裝置可以是一種磁控濺射鍍膜設(shè)備，其應(yīng)用于在柔性基板上鍍膜，其中所述柔性基板上設(shè)有第一對(duì)位標(biāo)記。

如圖1至圖3所示，本發(fā)明實(shí)施例中提供的鍍膜裝置包括：

成膜輥100，所述成膜輥100的外周面上包括一預(yù)定區(qū)域，所述柔性基板10的當(dāng)前待鍍膜部位能夠卷繞在所述預(yù)定區(qū)域處；

靶材200，所述靶材200設(shè)置在與所述成膜輥100一側(cè)，并與所述成膜輥100的預(yù)定區(qū)域位置對(duì)應(yīng)；

掩模版300，設(shè)置在所述靶材200與所述成膜輥100之間，所述掩膜版300為曲面掩膜版300，其曲面曲度與所述成膜輥100的預(yù)定區(qū)域處的曲面曲度相同，所述掩膜版300上設(shè)有第二對(duì)位標(biāo)記301；

復(fù)眼攝像機(jī)400，所述復(fù)眼攝像機(jī)400用以利用其高景深性能，獲取所述靶材200的第二對(duì)位標(biāo)記301及所述柔性基板10的第一對(duì)位標(biāo)記101的位置信息；

以及，控制機(jī)構(gòu)(圖中未示意出)，用于根據(jù)所述復(fù)眼攝像機(jī)400獲取的所述位置信息，控制所述掩膜版300移動(dòng)，以將所述掩膜版300與所述柔性基板10進(jìn)行對(duì)位。

在上述方案中，柔性基板10的當(dāng)前待鍍膜部位卷繞在成膜輥100的預(yù)定區(qū)域上，成膜輥100上的預(yù)定區(qū)域即為成膜輥100與靶材200所正對(duì)的區(qū)域，在離子轟擊靶材200時(shí)，靶材200的材料可沉積在卷繞于成膜輥100的預(yù)定區(qū)域處的柔性基板10上，在本發(fā)明實(shí)施例所提供的鍍膜裝置中，通過(guò)設(shè)置復(fù)眼攝像機(jī)400，復(fù)眼攝像機(jī)400能夠同時(shí)聚焦物體的不同深度，因此，可以利用復(fù)眼攝像機(jī)400的高景深能力來(lái)識(shí)別柔性基板10上的第一對(duì)位標(biāo)記101與掩膜版300上的第二對(duì)位標(biāo)記301，并根據(jù)復(fù)眼攝像機(jī)400所識(shí)別的信息來(lái)控制掩膜版300移動(dòng)，完成掩膜版300與柔性基板10的對(duì)位，由于掩膜版300為與柔性基板10的曲面曲度相同的曲面掩膜版300，且在掩膜版300具有鍍膜圖形310，則在完成掩膜版300與柔性基板10的對(duì)位之后，可直接利用曲面掩膜版300在柔性基板10上沉積圖形化的薄膜的目的，從而解決現(xiàn)有技術(shù)中柔性基板10在鍍膜時(shí)只能整面薄膜沉積，無(wú)法直接使用掩膜版300進(jìn)行薄膜的圖形化的問(wèn)題。

本發(fā)明實(shí)施例提供的鍍膜裝置中，如圖1至圖3所示，所述鍍膜裝置還包括分別設(shè)置在所述成膜輥100兩側(cè)的柔性基板輸送輥401和柔性基板回收輥402；其中所述柔性基板10未進(jìn)行鍍膜的一端收卷在所述柔性基板輸送輥401上，所述柔性基板10的另一端經(jīng)過(guò)所述成膜輥100的預(yù)定區(qū)域，并收卷在所述柔性基板回收輥402上。

在上述方案中，在所述柔性基板輸送輥401上卷繞著鍍膜之前的柔性基板10，柔性基板10的待鍍膜部位卷繞在成膜輥100上的預(yù)定區(qū)域上，在成膜輥100上卷繞的柔性基板10在鍍膜完成后，輸送并卷繞至柔性基板回收輥402上，由此完成鍍膜過(guò)程中柔性基板10的輸送過(guò)程。

此外，在本發(fā)明實(shí)施例所提供的鍍膜裝置中，如圖1至圖3所示，所述復(fù)眼攝像機(jī)400設(shè)置在所述成膜輥100內(nèi)，在所述成膜輥100的預(yù)定區(qū)域處設(shè)置有能夠與所述第一對(duì)位標(biāo)記101對(duì)位的第三對(duì)位標(biāo)記(圖中未示意出)，所述復(fù)眼攝像機(jī)400與所述第三對(duì)位標(biāo)記的位置正對(duì)，以使所述第一對(duì)位標(biāo)記101能夠落入所述復(fù)眼攝像機(jī)400的視場(chǎng)角范圍內(nèi)；并且所述成膜輥100至少在所述復(fù)眼攝像機(jī)400的視場(chǎng)角范圍內(nèi)呈透明狀態(tài)。

采用上述方案，在所述成膜輥100的預(yù)定區(qū)域處設(shè)置第三對(duì)位標(biāo)記，柔性基板10上的第一對(duì)位標(biāo)記101可以與第三對(duì)位標(biāo)記配合，來(lái)對(duì)柔性基板10和成膜輥100進(jìn)行對(duì)位，通過(guò)在第三對(duì)位標(biāo)記處設(shè)置復(fù)眼攝像機(jī)400，可以使得柔性基板10上的第一對(duì)位標(biāo)記101落入復(fù)眼攝像機(jī)400的視場(chǎng)角范圍內(nèi)，并且使得成膜輥100在復(fù)眼攝像機(jī)400的視場(chǎng)角范圍內(nèi)的部分呈透明狀態(tài)，可以使得復(fù)眼攝像機(jī)400能正常獲取第一對(duì)位標(biāo)記101、第二對(duì)位標(biāo)記301和第三對(duì)位標(biāo)記的位置信息。

在上述方案中，需要說(shuō)明的是，所述復(fù)眼攝像機(jī)400可以設(shè)置在所述成膜輥100的內(nèi)部，而所述成膜輥100的整個(gè)外周面或者所述成膜輥100的外周面上的預(yù)定區(qū)域處可以是直接采用透明材料制成。

此外，在本發(fā)明實(shí)施例中提供的鍍膜裝置中，如圖1至圖3所示，所述第三對(duì)位標(biāo)記至少有兩個(gè)，所述第一對(duì)位標(biāo)記101和所述第二對(duì)位標(biāo)記301的位置、數(shù)量均與所述第三對(duì)位標(biāo)記相匹配；每一所述第三對(duì)位標(biāo)記處對(duì)應(yīng)設(shè)置有一個(gè)所述復(fù)眼攝像機(jī)400。

采用上述方案，所述第一對(duì)位標(biāo)記101的數(shù)量至少有兩個(gè)，且優(yōu)選的分別在柔性基板10的待鍍膜區(qū)域的兩個(gè)對(duì)角位置設(shè)置有第一對(duì)位標(biāo)記101，這樣，可以保證對(duì)位精度。相應(yīng)地，所述第二對(duì)位標(biāo)記301及第三對(duì)位標(biāo)記的數(shù)量及位置均與第一對(duì)位標(biāo)記101匹配。并且，在上述方案中，一個(gè)第三對(duì)位標(biāo)記處設(shè)置一個(gè)復(fù)眼攝像機(jī)400，以保證各位置處的對(duì)位標(biāo)記均能夠準(zhǔn)確對(duì)位。

此外，在本發(fā)明實(shí)施例中提供的鍍膜裝置中，優(yōu)選的，如圖1所示，每一所述復(fù)眼攝像機(jī)400均設(shè)置一與所述成膜輥100的中心軸相垂直的直線上，且該直線通過(guò)該復(fù)眼攝像機(jī)400所對(duì)應(yīng)的第三對(duì)位標(biāo)記，所述復(fù)眼攝像機(jī)400以預(yù)設(shè)角度放置，以使每一所述第一對(duì)位標(biāo)記101位于所述復(fù)眼攝像機(jī)400的視場(chǎng)角0°的位置上。

采用上述方案，由于從不同的視角來(lái)看，第一對(duì)位標(biāo)記101和第二對(duì)位標(biāo)記301的對(duì)位位置會(huì)略有偏差，若要曲面的掩膜版300與曲面的柔性基板10正對(duì)，則需要從與柔性基板10的曲面曲度相同的成膜輥100的中心軸所在位置朝向第一對(duì)位標(biāo)記101看去的視角，觀察第一對(duì)位標(biāo)記101和第二對(duì)位標(biāo)記301重合時(shí)，則曲面的掩膜版300與曲面的柔性基板10的對(duì)位準(zhǔn)確度更高，因此，在上述方案中，將所述復(fù)眼攝像機(jī)400設(shè)置在所述成膜輥100的中心軸和與該復(fù)眼攝像機(jī)400所對(duì)應(yīng)的第三對(duì)位標(biāo)記的直線連線上，并以預(yù)設(shè)角度設(shè)置，該預(yù)設(shè)角度可以使得第三對(duì)位標(biāo)記正好位于所述復(fù)眼攝像機(jī)400能夠的視場(chǎng)角0°的位置上，也就是說(shuō)，使得柔性基板10的第一對(duì)位標(biāo)記101正好在復(fù)眼攝像機(jī)400的視場(chǎng)角0°的位置上，以保證對(duì)位準(zhǔn)確度。

此外，在本發(fā)明實(shí)施例所提供的鍍膜裝置中，優(yōu)選的，所述控制機(jī)構(gòu)包括用于移動(dòng)所述掩膜版300的移動(dòng)機(jī)構(gòu)。

其中，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括第一移動(dòng)單元，所述掩膜版300能夠在所述第一移動(dòng)單元的帶動(dòng)下進(jìn)行往復(fù)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，且旋轉(zhuǎn)中心軸與所述成膜輥100的中心軸重合。

采用上述方案，如圖4所示，所述第一移動(dòng)單元可以使得所述掩膜版300保持與柔性基板10相同的曲度，以繞成膜輥100旋轉(zhuǎn)的方式相對(duì)于柔性基板10平移，來(lái)實(shí)現(xiàn)所述掩膜版300與所述柔性基板10之間的對(duì)位。其中，對(duì)于所述第一移動(dòng)單元的具體實(shí)現(xiàn)方式并不進(jìn)行限定，可以有多種方式，例如：可以通過(guò)夾持機(jī)構(gòu)來(lái)夾持掩膜版300，再通過(guò)第一旋轉(zhuǎn)組件來(lái)帶動(dòng)夾持機(jī)構(gòu)繞成膜輥100的中心軸旋轉(zhuǎn)。

此外，優(yōu)選的，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括第二移動(dòng)單元，所述掩膜版300能夠在所述第二移動(dòng)單元的帶動(dòng)下，在與所述成膜輥100的中心軸方向平行的方向上進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動(dòng)。

采用上述方案，如圖5所示，所述第二移動(dòng)單元可以使得所述掩膜版300在與所述成膜輥100的中心軸平行的方向上相對(duì)于柔性基板10平移，來(lái)實(shí)現(xiàn)所述掩膜版300與所述柔性基板10之間的對(duì)位。其中，對(duì)于所述第二移動(dòng)單元的具體實(shí)現(xiàn)方式并不進(jìn)行限定，可以有多種方式，例如：可以通過(guò)夾持機(jī)構(gòu)來(lái)夾持掩膜版300，再通過(guò)平移組件來(lái)帶動(dòng)夾持機(jī)構(gòu)在與所述成膜輥100的中心軸平行的方向上移動(dòng)。

此外，優(yōu)選的，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括第三移動(dòng)單元，所述掩膜版300能夠在所述第三移動(dòng)單元的帶動(dòng)下進(jìn)行往復(fù)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，且旋轉(zhuǎn)中心軸與所述成膜輥100的中心軸垂直。

采用上述方案，如圖6所示，所述第三移動(dòng)單元可以使得所述掩膜版300保持與柔性基板10相同的曲度，以繞成膜輥100旋轉(zhuǎn)的方式相對(duì)于柔性基板10旋轉(zhuǎn)，來(lái)實(shí)現(xiàn)所述掩膜版300與所述柔性基板10之間的對(duì)位。其中，對(duì)于所述第三移動(dòng)單元的具體實(shí)現(xiàn)方式并不進(jìn)行限定，可以有多種方式，例如：可以通過(guò)夾持機(jī)構(gòu)來(lái)夾持掩膜版300，再通過(guò)第二旋轉(zhuǎn)組件來(lái)帶動(dòng)夾持機(jī)構(gòu)繞成膜輥100的中心軸旋轉(zhuǎn)。

在上述方案中，現(xiàn)有技術(shù)中平面柔性基板10與平面掩膜版300的對(duì)位方式，通常包括：在x軸方向上平移掩膜版300、y軸方向上平移掩膜版300以及以掩膜版300所在平面為旋轉(zhuǎn)面將掩膜版300相對(duì)于柔性基板10旋轉(zhuǎn)，即，平面柔性基板10與平面掩膜版300的對(duì)位坐標(biāo)為x坐標(biāo)、y坐標(biāo)、θ坐標(biāo)；

而在本發(fā)明實(shí)施例中所提供的鍍膜裝置中，曲面柔性基板10與曲面掩膜版300的對(duì)位坐標(biāo)不同于現(xiàn)有技術(shù)中平面柔性基板10與平面掩膜版300的對(duì)位坐標(biāo)，而是提出新的對(duì)位坐標(biāo)，即對(duì)位坐標(biāo)為θ1坐標(biāo)、y坐標(biāo)、θ2坐標(biāo)，其中，

如圖4所示，在所述第一移動(dòng)單元帶動(dòng)下，掩膜版300沿著成膜輥100的曲面進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)動(dòng)的角度定義為θ1坐標(biāo)；如圖5所示，在所述第二移動(dòng)單元帶動(dòng)下，掩膜版300沿平行于成膜輥100的中心軸方向移動(dòng)，定義為y坐標(biāo)；如圖6所示，在所述第三移動(dòng)單元帶動(dòng)下，掩膜版300在垂直于成膜輥100中心軸的方向旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)的角度定義為θ2坐標(biāo)。通過(guò)θ1、θ2、y這三個(gè)坐標(biāo)下掩膜版300的移動(dòng)，最終實(shí)現(xiàn)掩膜版300和柔性基板10對(duì)位。

此外，在本發(fā)明實(shí)施例中所提供的鍍膜裝置中為了提高離子轟擊靶材200的效率，在所述靶材200的遠(yuǎn)離所述成膜輥100的一側(cè)還設(shè)置有磁控板600。

以下說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例中所提供的鍍膜裝置的工作過(guò)程：

首先，所述柔性基板輸送輥401上卷繞的需要進(jìn)行鍍膜的柔性基板10輸送至成膜輥100上的預(yù)定區(qū)域處，并利用柔性基板10上的第一對(duì)位機(jī)構(gòu)與成膜輥100上的第三對(duì)位機(jī)構(gòu)對(duì)位；

在進(jìn)行鍍膜之前，需要對(duì)柔性基板10與掩膜版300進(jìn)行對(duì)位，具體地，通過(guò)復(fù)眼攝像機(jī)400獲取到柔性基板10上的第一對(duì)位標(biāo)記101和掩膜版300上的第二對(duì)位標(biāo)記301的位置信息，控制機(jī)構(gòu)計(jì)算掩膜版300與柔性基板10的偏移距離，通過(guò)移動(dòng)機(jī)構(gòu)調(diào)整掩膜版300的位置，完成柔性基板10與掩膜版300之間的對(duì)位；

然后，在對(duì)位完成之后，開(kāi)始進(jìn)行磁控濺射，使得離子轟擊靶材200，將靶材200上的材料沉積到柔性基板10上，在柔性基板10上形成圖形化的薄膜；

最后，鍍膜完成后的柔性基板10輸送至柔性基板回收輥402內(nèi)。

以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和替換，這些改進(jìn)和替換也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。