一種合成銅盤(pán)研磨盤(pán)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種合成銅盤(pán)研磨盤(pán)，包括盤(pán)體，其中，盤(pán)體的表面設(shè)置有若干鋸齒結(jié)構(gòu)，盤(pán)體的中心區(qū)域設(shè)置有預(yù)留區(qū)，預(yù)留區(qū)的中心區(qū)域設(shè)置有安裝孔；即通過(guò)在合成銅盤(pán)研磨盤(pán)主體上設(shè)置了若干鋸齒結(jié)構(gòu)，并且在合成銅盤(pán)研磨盤(pán)的中心區(qū)域?yàn)槠渌考陌惭b預(yù)留出了預(yù)留區(qū)，從而提高了工件的磨削速率，同時(shí)方便了合成銅盤(pán)研磨盤(pán)的安裝，進(jìn)而避免由于反復(fù)的刻平刻槽而造成的加工時(shí)間的浪費(fèi)以及銅層的浪費(fèi)，同時(shí)提高了設(shè)備的稼動(dòng)率，最終達(dá)到了提高整個(gè)流程的生產(chǎn)效率，以及降低生產(chǎn)成本的目的。
【專利說(shuō)明】一種合成銅盤(pán)研磨盤(pán)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及研磨盤(pán)領(lǐng)域，特別涉及一種合成銅盤(pán)研磨盤(pán)。
【背景技術(shù)】
[0002]特殊工件對(duì)于其表面的平整度有要求，如LED芯片、LED襯底、LED顯示屏光學(xué)晶體、硅片、化合物晶體、液晶面板、寶石、陶瓷、鍺片、金屬工件等，通常這些工件表面的平整工藝需要研磨盤(pán)，再配以研磨液進(jìn)行拋光。
[0003]由于研磨盤(pán)需要與研磨液配合使用，需要定期對(duì)研磨盤(pán)進(jìn)行清洗，在對(duì)大量工件進(jìn)行磨削的過(guò)程中，會(huì)降低磨削速率，并且現(xiàn)有的研磨盤(pán)安裝不便，沒(méi)有專門(mén)的用于安裝的配件，造成工件平整的整個(gè)流程的生產(chǎn)效率降低，提高了生產(chǎn)成本。
[0004]人們已成功研發(fā)出應(yīng)用于研磨行業(yè)的高標(biāo)準(zhǔn)的合成銅盤(pán)，但是在客戶使用過(guò)程中仍需要反復(fù)的進(jìn)行刻平刻槽，并未解決如何降低對(duì)加工時(shí)間的浪費(fèi)和對(duì)銅層的浪費(fèi)，以及如何提高設(shè)備的稼動(dòng)率等問(wèn)題。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0005]為了解決上述問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種合成銅盤(pán)研磨盤(pán)，可以避免由于反復(fù)的刻平刻槽而造成的加工時(shí)間的浪費(fèi)，銅層的浪費(fèi)，同時(shí)提高了設(shè)備的稼動(dòng)率。
[0006]本實(shí)用新型中的一種合成銅盤(pán)研磨盤(pán)，包括盤(pán)體，其中，所述盤(pán)體的表面設(shè)置有若干鋸齒結(jié)構(gòu)，所述盤(pán)體的中心區(qū)域設(shè)置有預(yù)留區(qū)，所述預(yù)留區(qū)的中心區(qū)域設(shè)置有安裝孔。
[0007]上述裝置中，所述鋸齒結(jié)構(gòu)僅設(shè)置于所述盤(pán)體的一個(gè)表面。
[0008]上述裝置中，所述盤(pán)體的另一個(gè)表面為平面結(jié)構(gòu)。
[0009]上述裝置中，所述預(yù)留區(qū)為圓形環(huán)狀結(jié)構(gòu)。
[0010]上述裝置中，所述預(yù)留區(qū)內(nèi)還設(shè)置有若干排污孔。
[0011]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和有益效果在于:本實(shí)用新型提供一種合成銅盤(pán)研磨盤(pán)，通過(guò)在合成銅盤(pán)研磨盤(pán)主體上設(shè)置了若干鋸齒結(jié)構(gòu)，并且在合成銅盤(pán)研磨盤(pán)的中心區(qū)域?yàn)槠渌考陌惭b預(yù)留出了預(yù)留區(qū)，從而提高了工件的磨削速率，同時(shí)方便了合成銅盤(pán)研磨盤(pán)的安裝，最終達(dá)到了提高整個(gè)流程的生產(chǎn)效率，以及降低生產(chǎn)成本的目的。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0012]為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0013]圖1為本實(shí)用新型中合成銅盤(pán)研磨盤(pán)的截面示意圖。
[0014]圖中:1、盤(pán)體2、鋸齒結(jié)構(gòu)3、預(yù)留區(qū)4、安裝孔【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例僅用于更加清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，而不能以此來(lái)限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
[0016]為了更好的說(shuō)明結(jié)構(gòu)，圖1選取了本實(shí)用新型中合成銅盤(pán)研磨盤(pán)的截面示意圖，如圖1所示，本實(shí)用新型為一種合成銅盤(pán)研磨盤(pán)，包括盤(pán)體1，且該盤(pán)體I的一個(gè)表面上設(shè)置有若干鋸齒結(jié)構(gòu)2，另一個(gè)表面為平面結(jié)構(gòu)；鋸齒結(jié)構(gòu)2可以使得客戶在使用時(shí)減少車平再刻槽的工作，銅層在平整度達(dá)標(biāo)的情況下可以一直使用。
[0017]盤(pán)體I的中心區(qū)域設(shè)置有圓形環(huán)狀的預(yù)留區(qū)3，且預(yù)留區(qū)3為光滑的平面結(jié)構(gòu)，以此為合成銅盤(pán)研磨盤(pán)其他部件的安裝起到了預(yù)留空間作用。
[0018]預(yù)留區(qū)3的中心區(qū)域設(shè)置有安裝孔4，安裝孔4可以實(shí)現(xiàn)更為方便的合成銅盤(pán)研磨盤(pán)的安裝工作。
[0019]優(yōu)選的，預(yù)留區(qū)3內(nèi)還設(shè)置有排污孔(未在圖中標(biāo)出)，以此方便排料工作。
[0020]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種合成銅盤(pán)研磨盤(pán)，包括盤(pán)體，其特征在于，所述盤(pán)體的表面設(shè)置有若干鋸齒結(jié)構(gòu)，所述盤(pán)體的中心區(qū)域設(shè)置有預(yù)留區(qū)，所述預(yù)留區(qū)的中心區(qū)域設(shè)置有安裝孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種合成銅盤(pán)研磨盤(pán)，其特征在于，所述鋸齒結(jié)構(gòu)僅設(shè)置于所述盤(pán)體的一個(gè)表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種合成銅盤(pán)研磨盤(pán)，其特征在于，所述盤(pán)體的另一個(gè)表面為平面結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種合成銅盤(pán)研磨盤(pán)，其特征在于，所述預(yù)留區(qū)為圓形環(huán)狀結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種合成銅盤(pán)研磨盤(pán)，其特征在于，所述預(yù)留區(qū)內(nèi)還設(shè)置有若干排污孔。
【文檔編號(hào)】B24B37/16GK203680024SQ201420030964
【公開(kāi)日】2014年7月2日 申請(qǐng)日期:2014年1月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月18日
【發(fā)明者】朱孟奎 申請(qǐng)人:上海百蘭朵電子科技有限公司