蒸鍍掩模、蒸鍍掩模裝置的制造方法及有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明是一種蒸鍍掩模、蒸鍍掩模裝置的制造方法及有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法，其課題為提供即使作為大型化也可同時(shí)滿足高精細(xì)化與輕量化的蒸鍍掩模、可將此蒸鍍掩模高精度地調(diào)整位置于框體的蒸鍍掩模裝置的制造方法及可制造高精細(xì)的有機(jī)半導(dǎo)體元件的有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法。層積而構(gòu)成設(shè)置有縫隙的金屬掩模和樹(shù)脂掩模，所述樹(shù)脂掩模位于所述金屬掩模表面，并且縱橫配置有兩列以上與蒸鍍制作的圖案相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口部。
【專(zhuān)利說(shuō)明】蒸鍍掩模、蒸鍍掩模裝置的制造方法及有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及蒸鍍掩模、蒸鍍掩模裝置的制造方法及有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法?，F(xiàn)有技術(shù)
[0002]以往在有機(jī)電激發(fā)光EL元件的制造中，對(duì)于有機(jī)電激發(fā)光EL元件的有機(jī)層或陰極電極的形成，例如是使用于要蒸鍍的范圍，以微小間隔平行地配列多個(gè)細(xì)微的縫隙所成的金屬構(gòu)成的蒸鍍掩模。使用此蒸鍍掩模的情況，在要蒸鍍的基板表面載置蒸鍍掩模，從背面使用磁鐵使其保持，但由于縫隙的剛性極小，在保持蒸鍍掩模于基板表面時(shí)，在縫隙上容易產(chǎn)生歪曲，而成為高精細(xì)化或縫隙長(zhǎng)度變大的制品大型化的障礙。
[0003]對(duì)于為了防止縫隙的歪曲的蒸鍍掩模，進(jìn)行了各種的研究，例如，對(duì)于專(zhuān)利文獻(xiàn)I提案了具有:兼具具有多個(gè)開(kāi)口部的第一金屬掩模的底板；在覆蓋所述開(kāi)口部的范圍具有多個(gè)細(xì)微的縫隙的第二金屬掩模；以拉伸第二金屬掩模于縫隙的長(zhǎng)度方向狀態(tài)而位于底板上的掩模拉伸保持裝置的蒸鍍掩模。即，提案有組合2種金屬掩模的蒸鍍掩模。如根據(jù)此蒸鍍掩模，作為可對(duì)于縫隙不產(chǎn)生歪曲而確保狹縫精度。
[0004]且最近伴隨著使用有機(jī)電激發(fā)光EL元件的制品的大型化或基板尺寸的大型化，對(duì)于蒸鍍掩模也持續(xù)增加了大型化的要求，而用于由金屬所構(gòu)成的蒸鍍掩模的制造的金屬板也作為大型化。但在目前的金屬加工技術(shù)中，對(duì)于大型金屬板高精度地形成縫隙是困難的，即使利用上述專(zhuān)利文獻(xiàn)I所提案的方法等而防止縫隙部的歪曲，也無(wú)法對(duì)應(yīng)于縫隙的高精細(xì)化。另外，對(duì)于作為僅由金屬制成的蒸鍍掩模的情況，伴隨著大型化而其質(zhì)量也增大，包含框體的總質(zhì)量也增大的情況對(duì)處理帶來(lái)了障礙。
[0005]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0006]〔專(zhuān)利文獻(xiàn)〕
[0007]〔專(zhuān)利文獻(xiàn)I日本特開(kāi)2003-332057號(hào)公報(bào)


【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]〔發(fā)明要解決的課題〕
[0009]本發(fā)明是鑒于上述的狀況而做出的，主要課題為提供即使大型化也可同時(shí)滿足高精細(xì)化與輕量化的蒸鍍掩模，以及可高精度地將此蒸鍍掩模對(duì)位于框體的蒸鍍掩模裝置的制造方法，而且可高精度地制造有機(jī)半導(dǎo)體元件的有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法。
[0010]〔為解決課題的手段〕
[0011]為了解決上述課題的發(fā)明是一種蒸鍍掩模，其特征在于，層積金屬掩模和樹(shù)脂掩模，所述金屬掩模設(shè)置有縫隙；所述樹(shù)脂掩模，其位于所述金屬掩模表面，縱橫配置有兩列以上與蒸鍍制作的圖案相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口部。
[0012] 另外，優(yōu)選的是，所述金屬掩模是磁性體。另外，優(yōu)選的是，所述開(kāi)口部的剖面形狀具有朝向蒸鍍?cè)捶较驍U(kuò)展的形狀。所述縫隙的的剖面形狀具有朝向蒸鍍?cè)捶较驍U(kuò)展的形狀。另外，優(yōu)選的是，由所述金屬掩模的縫隙和所述樹(shù)脂掩模的開(kāi)口部所形成的開(kāi)口整體的剖面形狀呈臺(tái)階狀。
[0013]另外，優(yōu)選的是，在形成所述樹(shù)脂掩模的所述開(kāi)口部的端面設(shè)置有阻擋層。另外，優(yōu)選的是，所述樹(shù)脂掩模的厚度為3 μ m以上25 μ m以下。
[0014]為了解決上述課題的本發(fā)明，一種蒸鍍掩模裝置的制造方法，其特征在于，具有:對(duì)設(shè)有縫隙的金屬掩模和樹(shù)脂板進(jìn)行貼合的工序；在含有金屬的框體上，對(duì)貼合有所述樹(shù)脂板的金屬掩模進(jìn)行固定的工序；從所述金屬掩模側(cè)照射激光，在所述樹(shù)脂板上縱橫形成有兩列以上與蒸鍍制作的圖形相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口部的工序。
[0015]為了解決上述課題的本發(fā)明是一種蒸鍍掩模裝置的制造方法，其特征在于，具有:在含有金屬的框體上，對(duì)設(shè)有縫隙的金屬掩模進(jìn)行的工序；對(duì)固定于所述框體的金屬掩模和樹(shù)脂板進(jìn)行貼合的工序；從所述金屬掩模側(cè)照射激光，在所述樹(shù)脂板上縱橫形成兩列以上與蒸鍍制作的圖形相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口部的工序。
[0016]另外，為了解決上述課題的本發(fā)明是一種有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法，其特征在于，使用在如權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的蒸鍍掩模。
[0017]〔發(fā)明效果〕
[0018]根據(jù)本發(fā)明的蒸鍍掩模，即使為大型化，也可同時(shí)滿足高精細(xì)化與輕量化。另外，如根據(jù)本發(fā)明的蒸鍍掩模裝置的制造方法，加上上述蒸鍍掩模的效果，可高精度地將上述蒸鍍掩模調(diào)整位置于框體。另外，如根據(jù)本發(fā)明的有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法，可高精度地制造有機(jī)半導(dǎo)體元件。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0019]圓I是分解表示本發(fā)明的一例的蒸鍍掩模的金屬掩模和樹(shù)脂掩模的概略立體圖，
(a)是金屬掩模的概略立體圖，(b)是樹(shù)脂掩模的概略立體圖。
[0020]圖2(a)、(c)、(d)是從表示本發(fā)明的一例的蒸鍍掩模的金屬掩模而視的主視圖，
(b)是表示本發(fā)明的一例的蒸鍍掩模的概略剖面圖。
[0021]圖3是本發(fā)明的蒸鍍掩模100的擴(kuò)大剖面圖。
[0022]圖4(a)是樹(shù)脂掩模的另外形態(tài)的立體圖，(b)是其剖面圖。
[0023]圖5是表示本發(fā)明的蒸鍍掩模100的另外形態(tài)的主視圖。
[0024]圖6是為了說(shuō)明第I制造方法的工序圖，(a)、(f)是均為剖面圖。
[0025]圖7是為了說(shuō)明第2制造方法的工序圖，(a)、(f)是均為剖面圖。
[0026]圖8是表示遮擋與和金屬掩模的厚度的關(guān)系的概略剖面圖。
[0027]圖9是表示金屬掩模的縫隙與樹(shù)脂掩模的開(kāi)口部的關(guān)系的部分概略剖面圖。
[0028]圖10是表示金屬掩模的縫隙與樹(shù)脂掩模的開(kāi)口部的關(guān)系的部分概略剖面圖。

【具體實(shí)施方式】
[0029]以下，對(duì)于本發(fā)明的蒸鍍掩模100，利用附圖具體地進(jìn)行說(shuō)明。
[0030]圖1 (a)是構(gòu)成表示本發(fā)明的一側(cè)的蒸鍍掩模的金屬掩模的概略立體圖，圖1 (b)是構(gòu)成表示本發(fā)明的一例的蒸鍍掩模的樹(shù)脂掩模的概略立體圖。園2(a)是從表示本發(fā)明的一例的蒸鍍掩模的金屬掩模而視的主視圖，圖2(b)是表示本發(fā)明的一例的蒸鍍掩模的概路剖面圖。圖3是本發(fā)明的蒸鍍掩模100的擴(kuò)大剖面圖。另外，圖1~3為了強(qiáng)調(diào)金屬掩模所設(shè)置的縫隙及設(shè)置于蒸鍍掩模的開(kāi)口部，而增加記載相對(duì)于整體而言的比率。
[0031]如圖1、2所示，本發(fā)明的蒸鍍掩模100層積:設(shè)有縫隙15的金屬掩模10和樹(shù)脂掩模20,該樹(shù)脂掩模20位于金屬掩模10的表面(對(duì)于圖2(b)所不的情況是金屬掩模10的下面)，并且與蒸鍍制作的附圖相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口部25被縱橫配列多個(gè)。
[0032]在此，將本發(fā)明的蒸鍍掩模100的質(zhì)量和僅由以往公知的金屬所構(gòu)成的蒸鍍掩模的質(zhì)量，假定蒸鍍掩模整體的厚度相同而進(jìn)行比較，則僅以往公知的蒸鍍掩模的金屬材料的一部分置換成樹(shù)脂材料的部分，本發(fā)明的蒸鍍掩模100的質(zhì)量變輕。另外，對(duì)于使用僅由金屬所構(gòu)成的蒸鍍掩模，為了謀求輕量化，有必要減薄該蒸鍍掩模的厚度等，但是，對(duì)于減簿蒸鍍掩模的厚度在將蒸鍍掩模大型化時(shí)，蒸鍍掩模產(chǎn)生歪曲、耐久性下降的情況。另一方面，根據(jù)本發(fā)明的蒸鍍掩模，即使有做為大型化時(shí)的歪曲、要滿足耐久性而加厚蒸鍍掩模整體厚度的情況，通過(guò)樹(shù)脂掩模20的存在，能夠謀求比僅由金屬所形成的蒸鍍掩模更加輕量化。以下，對(duì)于各種結(jié)構(gòu)進(jìn)行具體地說(shuō)明。
[0033](樹(shù)脂掩模)
[0034]如圖1、2所示，樹(shù)脂掩模20由樹(shù)脂構(gòu)成，對(duì)應(yīng)于蒸鍍制作于與縫隙重疊的位置的圖案的開(kāi)口部25被縱橫配置多列。然而，在本申請(qǐng)說(shuō)明書(shū)中進(jìn)行蒸鍍制作的圖案是指作為用于使用該蒸鍍掩模而制作的圖案，例如，對(duì)于將該蒸鍍掩模用于有機(jī)電激發(fā)光EL元件的有機(jī)層的形成情況，是該有機(jī)層的形狀。另外，在本發(fā)明中，舉例說(shuō)明將開(kāi)口部縱橫多列配置的例，開(kāi)口部25只要是設(shè)置于與縫隙重疊的位置即可，而在縫隙15對(duì)于僅配置一列于縱向或橫向的情況下，只要開(kāi)口部25被設(shè)置于與該一列的縫隙15重疊的位置即可。
[0035]樹(shù)脂掩模20是可適當(dāng)選擇以往公知的樹(shù)脂材料而使用，對(duì)于此材料并無(wú)特別限定，可經(jīng)由激光加工等而形成高精細(xì)的開(kāi)口部25，使用在熱或時(shí)效的尺寸變化率、吸濕率小并且輕量的材料為優(yōu)選。作為如此的材料可舉出聚酰亞胺樹(shù)脂，聚酰胺樹(shù)脂，聚酰胺酰亞胺樹(shù)脂，聚酯樹(shù)脂，聚乙烯樹(shù)脂，聚乙烯醇樹(shù)脂，聚丙烯樹(shù)脂，聚碳酸酯樹(shù)脂，聚苯乙烯樹(shù)脂，聚丙烯腈樹(shù)脂，乙烯-乙酸乙烯酯共聚物樹(shù)脂，乙烯-乙烯醇共聚物樹(shù)脂，乙烯-甲基丙烯酸共聚物樹(shù)脂，聚氯乙烯樹(shù)脂，聚偏氯乙烯樹(shù)脂，玻璃紙，離聚物樹(shù)脂等。在上述例舉的材料的中，其熱膨脹系數(shù)為16ppm/°C以下的樹(shù)脂材料為優(yōu)選，吸濕率為1.0%以下的樹(shù)脂材料為優(yōu)選，而具有此雙方條件的樹(shù)脂材料特別優(yōu)選。在本發(fā)明中，如上所述，樹(shù)脂掩模20與金屬材料比較，由可形成高精細(xì)的開(kāi)口部25的樹(shù)脂材料構(gòu)成。因此，可作為具有高精細(xì)的開(kāi)口部25的蒸鍍掩模100。
[0036]對(duì)于樹(shù)脂掩模20的厚度也無(wú)特別限定，但在使用本發(fā)明的蒸鍍掩模100而進(jìn)行蒸鍍時(shí)，對(duì)于為了防止對(duì)于蒸鍍制成的圖案產(chǎn)生不充分的蒸鍍部分，也就是成為與作為目的的蒸鍍膜厚比較薄的膜厚的蒸鍍部分，所謂遮擋的情況，樹(shù)脂掩模20是盡可能地優(yōu)選為成為薄的。但對(duì)于樹(shù)脂掩模20的厚度不足3μπι的情況，容易產(chǎn)生有針孔等的缺陷，另外變形等的風(fēng)險(xiǎn)變大。另一方面，當(dāng)超過(guò)25 μ m時(shí)會(huì)有遮擋的發(fā)生。當(dāng)考慮此點(diǎn)時(shí)，樹(shù)脂掩|旲20的厚度是為3μπι以上25 μ m以下為優(yōu)選。通過(guò)樹(shù)脂掩模20的厚度在該范圍內(nèi)，可降低針孔等的缺陷或變形等的風(fēng)險(xiǎn)，且可有效果地防止遮擋的發(fā)生。特別是由將樹(shù)脂掩模20的厚度作為3 μ m以上10 μ m以下，更優(yōu)選的是4 μ m以上8 μ m以下，由此，可更有效果地防止形成超過(guò)300ppi的高精細(xì)圖案時(shí)的遮擋的影響。另外，在本發(fā)明的蒸鍍掩模100中，金屬掩模10與樹(shù)脂掩模20可直接接合，也可經(jīng)由粘接劑層結(jié)合，但對(duì)于經(jīng)由粘接劑層接合金屬掩模10與樹(shù)脂掩模20的情況，考慮了上述遮擋的情況，樹(shù)脂掩模20與粘接劑層的合計(jì)厚度成為3μπι以上25μπι以下，優(yōu)選為3μπι以上10 μ m以下，特別優(yōu)選設(shè)定為4 μ m以上8 μ m以下的范圍內(nèi)。
[0037]對(duì)于開(kāi)口部25的形狀、尺寸并無(wú)特別限定，只要是與蒸鍍制作的圖案的形狀、尺寸相對(duì)應(yīng)即可。另外，如圖2(a)所示，對(duì)于鄰接的開(kāi)口部25的橫向的間距P1，或縱向的間距P2，也可根據(jù)蒸鍍制作的圖案作適當(dāng)設(shè)定。
[0038]對(duì)于設(shè)置開(kāi)口部25的位置、開(kāi)口部25的數(shù)量也無(wú)特別限定，即使在與縫隙15重疊的位置設(shè)置I個(gè)也可以，而也可在縱向或者橫向設(shè)置多個(gè)。例如，如圖2(c)所示，縫隙在縱向延伸的情況下，即使在與該縫隙15重疊的開(kāi)口部25在橫向上設(shè)置兩個(gè)以上也可以。
[0039]對(duì)于開(kāi)口部25的剖面形狀也無(wú)特別限定，只要與形成開(kāi)口部25的樹(shù)脂掩模的相向的端面彼此為大致平行就可以，但如圖2 (b)、圖3所示，優(yōu)選的是，開(kāi)口部25其剖面形狀為具有朝向蒸鍍?cè)磾U(kuò)展的形狀。換言之，優(yōu)選的是，是具有朝向金屬掩模10側(cè)擴(kuò)展的錐面。通過(guò)將開(kāi)口部25的剖面形狀作為該結(jié)構(gòu)，在使用本發(fā)明的蒸鍍掩模而進(jìn)行蒸鍍時(shí)，可防止在蒸鍍作成的圖案上產(chǎn)生遮擋。對(duì)于錐角Θ來(lái)說(shuō)，可考慮樹(shù)脂掩模20的厚度等而作適當(dāng)設(shè)定，優(yōu)選的是，連結(jié)樹(shù)脂掩模的開(kāi)口部的下底前端與同樣樹(shù)脂掩模的開(kāi)口部的上底前端的角度(Θ)在25°~65°的范圍內(nèi)。特別是即使在此范圍內(nèi)中，也優(yōu)選為小于所使用蒸鍍機(jī)的蒸鍍角度的角度。并且，在圖2 (b)、圖3中，形成開(kāi)口部25的端面25a是呈現(xiàn)直線形狀，但并不限定于此，而在外面成為凸的彎曲形狀，即，開(kāi)口部25的整體形狀成為碗狀也是優(yōu)選的。具有如此剖面形狀的開(kāi)口部25能夠形成為，例如在開(kāi)口部25形成時(shí)，能夠適當(dāng)調(diào)整激光的照射位置、激光的照射能量，或者進(jìn)行階段性地改變照射位置的多階段的激光照射。
[0040]由于樹(shù)脂掩模20使用樹(shù)脂材料，即使不采用以往的用于金屬加工的加工法，例如，蝕刻加工法或切削等的加工方法，也能夠形成開(kāi)口部25。即，對(duì)于開(kāi)口部25的形成方法并無(wú)特別限定，可使用各種加工方法，例如，可形成高精細(xì)的開(kāi)口部25的激光加工法、精密沖壓加工，光刻加工等而形成開(kāi)口部25的方法。對(duì)于通過(guò)激光加工法等形成開(kāi)口部25的方法見(jiàn)后述。
[0041]作為蝕刻加工法，例如，可使用從噴射噴嘴，以特定噴霧壓力將蝕刻材料進(jìn)行噴霧的噴涂蝕刻法、浸潰于填充有蝕刻材料的蝕刻液中浸潰蝕刻法、滴下蝕刻材料的旋涂蝕刻法等的濕式蝕刻法、利用氣體、等離子體等的干式蝕刻法。
[0042]另外，在本發(fā)明中，由于作為蒸鍍掩模100的結(jié)構(gòu)而使用樹(shù)脂掩模20，所以在使用此蒸鍍掩模100進(jìn)行蒸鍍時(shí)，對(duì)于樹(shù)脂掩模20的開(kāi)口部25加以非常高的熱，從形成樹(shù)脂掩模20的開(kāi)口部25的端面25a (參照?qǐng)D3)，產(chǎn)生有氣體，有可能產(chǎn)生使蒸鍍裝置內(nèi)的真空度降低等的問(wèn)題。因此，當(dāng)考慮此點(diǎn)時(shí)，如圖3所示，對(duì)于形成樹(shù)脂掩模20的開(kāi)口部25的端面25a’是優(yōu)選設(shè)置有阻擋層26。通過(guò)形成阻擋層26，可防止產(chǎn)生來(lái)自形成樹(shù)脂掩模20的開(kāi)口部25的端面25a的氣體。
[0043] 阻擋層26可使用無(wú)機(jī)氧化物或無(wú)機(jī)氮化物，金屬的薄膜層或蒸鍍層。作為無(wú)機(jī)氧化物可使用鋁或硅，銦，錫，鎂的氧化物，作為金屬可使用鋁等。阻擋層26的厚度優(yōu)選為
0.05 μ m ~1ym 左右。
[0044]而且，阻擋層優(yōu)選覆蓋樹(shù)脂掩模20的蒸鍍?cè)磦?cè)表面。通過(guò)以阻擋層26覆蓋樹(shù)脂掩模20的蒸鍍?cè)磦?cè)表面，更加提高阻擋性。在阻擋層是無(wú)機(jī)氧化物及無(wú)機(jī)氮化物的情況下，優(yōu)選的是利用各種PVD法、CVD法形成。在金屬的情況下，優(yōu)選的是利用真空蒸鍍法形成。另外，在此所稱的樹(shù)脂掩模20的蒸鍍?cè)磦?cè)表面是指樹(shù)脂掩模20的蒸鍍?cè)磦?cè)的表面整體就可以，也可為在樹(shù)脂掩模20的蒸鍍?cè)磦?cè)的表面，僅從金屬掩模露出的部分。
[0045]圖4(a)是樹(shù)脂掩模的另外形態(tài)的立體圖，(b)是其剖面圖。
[0046]如圖4所示，在樹(shù)脂掩模20上，優(yōu)選形成有在樹(shù)脂掩模20的縱向或者橫向(圖4的情況是縱向)延伸的槽28。在蒸鍍時(shí)加熱的情況下，樹(shù)脂掩模20產(chǎn)生熱膨脹，由此開(kāi)口部25的尺寸、位置有可能產(chǎn)生變化，但通過(guò)形成該槽28，而可吸收樹(shù)脂掩模的膨脹，通過(guò)在樹(shù)脂掩模的各處產(chǎn)生的熱膨脹產(chǎn)生累積，而可防止樹(shù)脂掩模20作為整體在特定方向膨脹而改變開(kāi)口部25的尺寸、位置。
[0047]另外，在圖4中，在開(kāi)口部25之間形成有在縱向延伸的槽28，但并不限定于此，還可以在開(kāi)口部25之間形成有在橫向延伸的槽。另外，并不跟定于開(kāi)口部25之間，而也可將槽形成在與開(kāi)口部25重疊的位置。而且，也可以組合這些的形態(tài)而構(gòu)成槽。
[0048]對(duì)于槽28的深度或?qū)挾炔o(wú)特別限定，但對(duì)于槽28深度過(guò)深的情況或?qū)挾冗^(guò)寬的情況，由于有樹(shù)脂掩模20的剛性降低的傾向，所以有必要考慮此點(diǎn)而設(shè)定。另外，對(duì)于槽的剖面形狀也無(wú)特別限定，在考慮加工方法等的情況下，而可任意選擇U字形狀、V字形狀坐寸ο
[0049](金屬掩模)
[0050]金屬掩模10是由金屬構(gòu)成,從該金屬掩模間的正面而看時(shí),在與開(kāi)口部25重疊的位置，換言的，在能夠看到配置于樹(shù)脂掩模20的整體的開(kāi)口部25的位置，多列配置有在縱向或橫向延伸的縫隙15。然而，在圖1、2中，在金屬掩模10的縱向延伸的縫隙15在橫向連續(xù)配置。另外，在本發(fā)明中，以在縱向或橫向延伸的縫隙15作為多列配置的舉例，來(lái)說(shuō)明縫隙15，但也可以在縱向或橫向僅配置一列縫隙15。
[0051]對(duì)于縫隙15的寬度W并無(wú)特別限定，但優(yōu)選的是，至少縫隙15的寬度W設(shè)計(jì)為短于鄰接的開(kāi)口部25間的間距。具體來(lái)說(shuō)，如圖2(a)所示，縫隙15在縱向延伸的情況，優(yōu)選的是，縫隙15的橫向?qū)挾萕短于在橫向鄰接的開(kāi)口部25的間距P1。同樣地，雖未圖示，縫隙15在橫向延伸的情況下，優(yōu)選的是縫隙15的縱向的寬度短于在縱向鄰接的開(kāi)口部25的間距P2。另一方面，對(duì)于縫隙15在縱向延伸情況的縱向的長(zhǎng)度L無(wú)特別限定，只要是根據(jù)金屬掩模10的縱的長(zhǎng)度及設(shè)置于樹(shù)脂掩模20的開(kāi)口部25的位置而作適當(dāng)設(shè)計(jì)即可。
[0052]另外，連續(xù)在縱向或者橫向延伸的縫隙15可以通過(guò)橋接器18分割成多個(gè)。然而，圖2(d)是從蒸鍍掩模100的金屬掩模10側(cè)看到的主視圖，表示在圖2(a)所示的縱向連續(xù)延伸的一個(gè)縫隙15a通過(guò)橋接器18而分割成多個(gè)(縫隙15a、15b)的例。對(duì)于橋接器18的寬度并無(wú)特別限定，但優(yōu)選為5μπι~20μπι左右。通過(guò)將轎接器18的寬度設(shè)定為此范圍，能夠有效地提高金屬掩模10的剛性。對(duì)于橋接器18的配置位置也無(wú)特別限定，但分割后的縫隙以與兩個(gè)以上開(kāi)口部25重疊地方式配置有橋接器18。
[0053]對(duì)于形成于金屬掩模10的縫隙15的剖面形狀也無(wú)特別限定，但與在上述樹(shù)脂掩模20的開(kāi)口部25同樣，如圖3所示，優(yōu)選具有朝向蒸鍍?cè)磾U(kuò)展的形狀。
[0054]對(duì)于金屬掩模10的材料并無(wú)特別限定，可在蒸鍍掩模的領(lǐng)域適當(dāng)選擇利用以往公知的結(jié)構(gòu)，例如，可舉出不銹鋼，鐵鎳合金，鋁合金等的金屬材料。其中，由于鐵鎳合金的不脹鋼熱變形小，所以可以適用。
[0055]另外，在使用本發(fā)明的蒸鍍掩模100對(duì)基板進(jìn)行蒸鍍時(shí)，在基板后方配置磁鐵等，而利用磁力吸引基板前方的蒸鍍掩模100為必要的情況下，以磁性體形成金屬掩模10為優(yōu)選。作為磁性體的金屬掩模10可舉出純鐵，碳素鋼，W鋼，Cr鋼、Co鋼、KS鋼、MK鋼、NKS鋼、Cunico鋼、A1-Fe合金等。另外，對(duì)于形成金屬掩模10的材料本身并非磁性體的情況，也可以通過(guò)在該材料分散上述磁性體的粉末，而付與金屬掩模10磁性。
[0056]對(duì)于金屬掩模10的厚度并無(wú)特別限定,但為5 μ m~100 μ m左右為優(yōu)選?？紤]在蒸鍍時(shí)防止遮擋，優(yōu)選金屬掩模10的厚度是薄的，但作為比5 μ m薄的情況，破裂或變形的風(fēng)險(xiǎn)提高的同時(shí)，有可能操作變?yōu)槔щy。但在本發(fā)明中，由于金屬掩模10與樹(shù)脂掩模20 —體化，所以，即使金屬掩模10的厚度為非常薄的5μπι情況，也可使破裂、變形的風(fēng)險(xiǎn)降低，如為5 μ m以上，則可以使用。然而，對(duì)于比100 μ m厚的情況，因產(chǎn)生遮擋的發(fā)生而不優(yōu)選。
[0057]以下，使用圖8 (a)~圖8 (C)，對(duì)于遮擋的發(fā)生與金屬掩模10的厚度的關(guān)系具體地進(jìn)行說(shuō)明。如圖8(a)所示，在金屬掩模10的厚度為薄的情況下，從蒸鍍?cè)闯蛘翦儗?duì)象物釋放的蒸鍍材料與金屬掩模10的縫隙15的內(nèi)壁面未沖突，或與未設(shè)置金屬掩模10的樹(shù)脂掩模20側(cè)的表面未沖突，而通過(guò)金屬掩模10的縫隙15及樹(shù)脂遞罩20的開(kāi)口部25到達(dá)蒸鍍對(duì)象物。由此，成為可對(duì)于蒸鍍對(duì)象物上，以均一的膜厚形成蒸鍍圖案。即，可防止遮擋的發(fā)生。另一方面，如圖8(b)所示，對(duì)于金屬掩模10的厚度為厚的情況，例如，金屬掩模10的厚度為超過(guò)100μπι的情況下，從蒸鍍?cè)此尫诺恼翦儾牧系囊徊糠峙c金屬掩模10的縫隙的的內(nèi)壁面或與未形成金屬掩模10的樹(shù)脂掩模20側(cè)的表面沖突，而不能到達(dá)至蒸鍍對(duì)象物。不能到達(dá)蒸鍍對(duì)象物的蒸鍍材料越多，產(chǎn)生有成為比蒸鍍對(duì)象物作為目的的蒸鍍膜厚為薄的膜厚的未蒸鍍部分，而發(fā)生有遮擋。
[0058]為了充分防止遮擋產(chǎn)生，如圖8(c)所示，將縫隙15的剖面形狀作為具有朝向蒸鍍?cè)磾U(kuò)展的形狀為優(yōu)選。由作為如此的剖面形狀，為了防止在蒸鍍掩模100產(chǎn)生的歪曲或者提高耐久性，即使為加厚蒸鍍掩模整體厚度的情況，從蒸鍍?cè)此尫诺恼翦儾牧吓c縫隙15的該表面、與縫隙15的內(nèi)壁面不進(jìn)行沖突等，而可使蒸鍍材料到達(dá)蒸鍍對(duì)象物。更具體而言，優(yōu)選連結(jié)金屬掩模10的縫隙的的下底前端和相同金屬掩模10的縫隙15的上底前端的直線與金屬掩模10的底面的所成角度為在25°~65°的范為內(nèi)。特別是在此范圍內(nèi)之中，優(yōu)選的是，比所使用的蒸鍍機(jī)的蒸鍍角度小的角度。通過(guò)作為如此的剖面形狀，為了防止產(chǎn)生于蒸鍍掩模100的歪曲或者提高耐久性，即使金屬掩模10的厚度為比較厚的情況，從蒸鍍?cè)此尫诺恼翦儾牧弦膊慌c縫隙15的內(nèi)壁面進(jìn)行沖突等，而可使蒸鍍材到達(dá)蒸鍍對(duì)象物。由此，可更有效果地防止遮擋發(fā)生。另外，圖8是為了說(shuō)明遮擋的發(fā)生與金屬掩模10的縫隙15關(guān)系的部分概略剖面圖。另外，在圖8(c)中，金屬掩模10的縫隙15成為具有朝向蒸鍍?cè)磦?cè)擴(kuò)展的剖面形狀，樹(shù)脂掩模20的開(kāi)口部25的相對(duì)的端面是成為大致平行，但對(duì)于為了更有效果地防止遮擋的發(fā)生，金屬掩模10的縫隙及樹(shù)脂掩模20的開(kāi)口部25其剖面形狀都是優(yōu)選為具有朝向于蒸鍍?cè)磦?cè)擴(kuò)展的形狀。
[0059]圖5是表示本發(fā)明的蒸鍍掩模100的另外形態(tài)的主視圖。
[0060]如圖5所示，在從蒸鍍掩模100的金屬掩模10側(cè)看的主視圖中，優(yōu)選的是，將可從金屬掩模的縫隙15所見(jiàn)的形成于樹(shù)脂掩模20的開(kāi)口部25相互不同地配置于橫向。即，優(yōu)選將橫向鄰接的開(kāi)口部25偏移配置于縱向。通過(guò)如此地配置，即使樹(shù)脂掩模20產(chǎn)生熱膨脹的情況，也能夠通過(guò)開(kāi)口部25而吸收在各處產(chǎn)生的膨脹，可防止膨脹累積而產(chǎn)生大的變形。
[0061]另外，如圖5所示，形成于樹(shù)脂掩模20的開(kāi)口部25是無(wú)需使其對(duì)應(yīng)于一個(gè)像素，例如優(yōu)選匯總兩個(gè)像素~十個(gè)像素對(duì)應(yīng)于一個(gè)開(kāi)口部25。
[0062]圖9(a)~(d)是表示金屬掩模的縫隙與樹(shù)脂掩模的開(kāi)口部的關(guān)系的部分概略剖面圖，在圖示的形態(tài)中，由金屬掩模的縫隙15和樹(shù)脂掩模的開(kāi)口部25所形成的開(kāi)口整體的剖面形狀呈臺(tái)階狀。如圖9所示，通過(guò)將開(kāi)口整體的剖面形狀作為具有朝向于蒸鍍?cè)磦?cè)擴(kuò)展的臺(tái)階狀而可有效地防止遮擋的發(fā)生。金屬掩模的縫隙15、樹(shù)脂掩模20剖面形狀是如圖9 (a)所示，優(yōu)選的是，相對(duì)的端面成為大致平行，但如圓9(b)、(c)所示，優(yōu)選的是，僅金屬掩模的縫隙15、樹(shù)脂掩模的開(kāi)口部的任一方具有朝向于蒸鍍?cè)磾U(kuò)展的剖面形狀。另外，如上所說(shuō)明地那樣，如圖3或圖9 (d)所示，為了更有效地防止遮擋的發(fā)生，金屬掩模的縫隙15及樹(shù)脂掩模的開(kāi)口部25優(yōu)選為都具有朝向于蒸鍍?cè)磦?cè)擴(kuò)展的剖面形狀。
[0063]對(duì)于在成為上述臺(tái)階形狀的剖面的平坦部(在圖9中的符號(hào)(X))的寬度并無(wú)特別限定，但對(duì)于在平坦部⑴的寬度不足Iym的情況下，通過(guò)金屬掩模的縫隙的干擾，而有防止遮擋發(fā)生的效果下降的傾向。因此，當(dāng)考慮此點(diǎn)時(shí)，平坦部⑴的寬度優(yōu)選為Iym以上。對(duì)于優(yōu)選的上限值無(wú)特別限定，而可在考慮樹(shù)脂掩模的開(kāi)口部尺寸、鄰接的開(kāi)口部的間隔等之后而作適當(dāng)設(shè)定，作為一例是為20 μ m左右。
[0064]另外，在上述圖9(a)~(d)中，表示對(duì)于縫隙在縱向延伸的情況，與該縫隙15重疊的開(kāi)口部25作為例子在橫向設(shè)定為一個(gè)，但如圖10所示，對(duì)于縫隙在縱向延伸的情況，與該縫隙15重疊的開(kāi)口部25優(yōu)選在橫向設(shè)有兩個(gè)以上。在圖10中，金屬掩模的縫隙15及樹(shù)脂掩模的開(kāi)口部25都具有朝向于蒸鍍?cè)磦?cè)擴(kuò)展的剖面形狀，與該縫隙15的重疊的開(kāi)口部25在橫向設(shè)有兩個(gè)以上。
[0065](蒸鍍掩模的制造方法)
[0066]按著，對(duì)于本發(fā)明的蒸鍍掩模裝置的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。
[0067](第I制造方法)
[0068]圖6是為了說(shuō)明第I制造方法的工序圖。另外圖(a)~(b)均為剖面圖。
[0069]第I制造方法是具有:對(duì)設(shè)有縫隙的金屬掩模和樹(shù)脂板進(jìn)行貼合的工序；在含有金屬的框體上，對(duì)貼合有所述樹(shù)脂板的金屬掩模進(jìn)行固定的工序；從所述金屬掩模側(cè)照射激光，在所述樹(shù)脂板上在縱橫形成多列與要蒸鍍制作的圖案相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口部的工序。以下，對(duì)各工序進(jìn)行說(shuō)明。
[0070](對(duì)設(shè)置有縫隙的金屬掩模和樹(shù)脂板進(jìn)行貼合的工序)
[0071]首先，準(zhǔn)備設(shè)置有縫隙的金屬掩模。在本方法中，對(duì)于準(zhǔn)備的金屬掩模的制造方法無(wú)特別限定，只要適當(dāng)選擇高精度地形成所期望的縫隙的方法即可。
[0072]例如，如圖6(a)所示，準(zhǔn)備金屬板61，在其兩面涂敷抗蝕劑材料62。作為所使用的抗蝕劑材料是使用處理性良好并且具有所期望的解像性的材料。然后，以形成有縫隙圖案的掩模63遮蔽抗蝕劑材62，經(jīng)由密接曝光進(jìn)行曝光顯影。由此，如區(qū)6(b)所示，在金屬板61兩面形成抗蝕劑圖案64。接著，將此抗蝕劑圖案作為耐蝕刻掩模而使用，通過(guò)兩段蝕刻法進(jìn)行蝕刻加工。另外，兩段蝕刻法是指，在金屬板的兩面形成抗蝕劑圖案，在從單面?zhèn)冗M(jìn)行蝕刻后，在所形成的未貫通的凹部填充耐蝕刻的樹(shù)脂，填充所謂充填材，然后通過(guò)從另一面?zhèn)冗M(jìn)行蝕刻而形成貫通孔的加工方法。在本方法中，并非只是采用該兩段蝕刻法，也可采用從兩面同時(shí)進(jìn)行蝕刻的方法，但從加工精度的觀點(diǎn)來(lái)看，優(yōu)選使用兩段蝕刻法。當(dāng)蝕刻結(jié)束后，洗凈除去抗蝕劑圖案。由此，如圖6(c)所示，在金屬板61形成所期望的縫隙65而得到金屬掩模66。
[0073]如圖6(d)所示，貼合金屬掩模66和樹(shù)脂板67。對(duì)于此方法也無(wú)特別限定，例如也可使用各種粘接劑，或使用具有本身粘接性的樹(shù)脂板。然而，金屬掩模66與樹(shù)脂板的尺寸也可為相同，但之后考慮任意進(jìn)行框體固定，使樹(shù)脂板67的尺寸小于金屬掩模66，優(yōu)選作為露出金屬掩模66的外周部分的狀態(tài)。
[0074](在含有金屬的框體上，對(duì)貼合有所述樹(shù)脂板的金屬掩模進(jìn)行固定的工序)
[0075]接著，如圖6(e)所示，在含有金屬的框體68上，對(duì)貼合有樹(shù)脂板67的金屬掩模66進(jìn)行固定。本方法并無(wú)特別限定固定方法，例如，采用點(diǎn)焊等以往公知的工序方法即可。
[0076](從金屬掩模側(cè)照射激光，在所述樹(shù)脂板上縱橫形成兩列以上與蒸鍍制作的圖案相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口部的工序)
[0077]接著，從金屬掩模66側(cè)通過(guò)縫隙65照射激光，在所述樹(shù)脂板67上縱橫形成兩列以上與蒸鍍制作的圖案相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口部69，而作為樹(shù)脂掩模70。對(duì)于在此所使用的激光裝置無(wú)特別限定，如使用以往公知的激光裝置即可。由此，得到如圖6(f)所示的本發(fā)明的蒸鍍掩模裝置80。
[0078](第2制造方法) 圖7是為了說(shuō)明第2制造方法的工序圖。另外圖(a)~(f)是均為剖面圖。
[0079]第2制造方法具有:在含有金屬的框體上，對(duì)設(shè)置有縫隙的金屬掩模進(jìn)行固定的工序；對(duì)固定于所述框體的金屬掩模和樹(shù)脂板進(jìn)行貼合的工序；從所述金屬掩模側(cè)照射激光，將在所述樹(shù)脂板上與蒸鍍制作的圖案相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口部被縱橫形成多列的工序。也就是，在上述說(shuō)明的第I制造方法中，在貼合金屬掩模66和樹(shù)脂板67的后，以框體68固定金屬掩模66,但在第2制造方法中，首先將金屬掩模66固定于框體68,其后貼合樹(shù)脂板67。
[0080]即，在第2制造方法中，如圖7(a)~(C)所示，對(duì)于制造金屬掩模66的工序來(lái)說(shuō)，是與所述第I制造方法相同，如圖7(d)所示，將完成的金屬掩模66固定于含有金屬的框體之后，如圖7(e)所示，貼合金屬掩模66和樹(shù)脂板67。然后，對(duì)于在樹(shù)脂板67設(shè)置開(kāi)口部65而作為蒸鍍掩模裝置的工序來(lái)說(shuō)如圖7(f)所示，與所述第I制造方法相同。
[0081]這樣，根據(jù)第I及第2制造方法，并非將均已完成的蒸鍍掩模固定于框體，對(duì)于固定于框體的狀態(tài)的樹(shù)脂板而言，因在其后設(shè)置開(kāi)口部，可格外地提高位置精度。另外，在以往公知的方法中，為了將決定開(kāi)口的金屬掩模對(duì)于框體而言，在拉伸的同時(shí)進(jìn)行固定，而降低開(kāi)口位置坐標(biāo)精度。
[0082]另外，在以固定于框體的狀態(tài)的樹(shù)脂板設(shè)置開(kāi)口部25時(shí)，準(zhǔn)備預(yù)先設(shè)有蒸鍍制作的圖案即與要形成的開(kāi)口部25相對(duì)應(yīng)的圖案的基準(zhǔn)板，在將其基準(zhǔn)板貼合于未設(shè)有樹(shù)脂板的金屬掩模66側(cè)的面的狀態(tài)下，從金屬掩模側(cè)，也可以進(jìn)行與基準(zhǔn)板的圖案相對(duì)應(yīng)于的激光照射。根據(jù)此方法，可在注視貼合于樹(shù)脂板的基準(zhǔn)板的圖案的同時(shí)，進(jìn)行激光照射，在所謂對(duì)面配合的狀態(tài)下，能夠形成開(kāi)口部25，能夠形成開(kāi)口的尺寸精度極高的高精細(xì)的開(kāi)口部25。另外，由于此方法是在固定于框體的狀態(tài)下進(jìn)行開(kāi)口部25的形成，所以可做為不僅尺寸精度而對(duì)于位置精度也為良好的蒸鍍掩模。
[0083]另外，對(duì)于使用上述方法的情況，必須可從金屬掩模66側(cè)，經(jīng)由樹(shù)脂板，由激光照射裝置等辨識(shí)基準(zhǔn)板的圖案。作為樹(shù)脂板對(duì)于具有某種程度厚度的情況是成為必須使用具有透明性的材料，但如在上述說(shuō)明地，對(duì)于做為考慮了遮擋的影響的優(yōu)選的厚度，例如在3 μ m~25 μ m左右的厚度的情況下，即使是加以著色的樹(shù)脂板，也可辨識(shí)基準(zhǔn)板的圖案。
[0084]對(duì)于樹(shù)脂板和基準(zhǔn)板的貼合方法也無(wú)特別限定，例如，對(duì)于金屬掩模66為磁性體的情況，在基準(zhǔn)板的后方配置磁鐵等，可吸引樹(shù)脂板與基準(zhǔn)板而進(jìn)行貼合。除此之外，也可使用靜電吸著法等進(jìn)行貼合。作為基準(zhǔn)板可例如舉出具有特定的開(kāi)口圖案的TFT基板、光掩模等。
[0085](輕薄工序)
[0086]另外，在本發(fā)明的制造方法中，在上述說(shuō)明的工序之間或者工序后，進(jìn)行輕薄工序也可。該工序是在本發(fā)明制造方法中的任意的工序，將金屬掩模66的厚度、樹(shù)脂掩模70的厚度進(jìn)行最佳化的工序。作為金屬掩模66或樹(shù)脂掩模70的優(yōu)選的厚度，只要適當(dāng)設(shè)定在上述說(shuō)明的范圍內(nèi)即可，在此的詳細(xì)說(shuō)明省略。
[0087]例如，對(duì)于作為成為樹(shù)脂遞罩70的樹(shù)脂板67、成為金屬掩模66的金屬板61，使用在上述說(shuō)明的優(yōu)選的、厚度較厚的情況，在制造工序中，以單獨(dú)搬送金屬板61、樹(shù)脂板67時(shí)、對(duì)于搬送在設(shè)有凹部的金屬板61上設(shè)置樹(shù)脂板67的層積體時(shí)、或者在搬送在形成上述蒸鍍掩模的工序所得到的蒸鍍掩模100時(shí)，可付與良好的耐久性、搬送性。另一方面，對(duì)于為了防止遮擋的發(fā)生等，在本發(fā)明的制造方法所得到的蒸鍍掩模100的厚度為最佳的厚度為優(yōu)選。輕薄工序是在制造工序之間或者工序后中，滿足耐久性或搬送性的同時(shí)，對(duì)于將蒸鍍掩模100的厚度作為最佳化的情況成為有用的工序。
[0088]成為金屬掩模66的金屬板61或金屬掩模66的輕薄，即，金屬掩模的厚度的最佳化，在上述所說(shuō)明的工序之間或者工序后，可將與金屬板61的樹(shù)脂板67不相接一側(cè)的面，或者與金屬掩模66的樹(shù)脂板67或樹(shù)脂掩模20不相接一側(cè)的面，通過(guò)使用能夠蝕刻金屬板61、金屬掩模66的蝕刻材料進(jìn)行蝕刻而能夠?qū)崿F(xiàn)。
[0089]對(duì)于成為樹(shù)脂掩模70的樹(shù)脂板67或樹(shù)脂遮70的輕薄，即樹(shù)脂板67、樹(shù)脂掩模70的厚度的最佳化也為同樣，可由于在上述所說(shuō)明的任何工序之間或者工序后，可將與樹(shù)脂板們的金屬板61或金屬掩模66不相接一側(cè)的面,或者與樹(shù)脂掩模70的金屬掩模66不相接一側(cè)的面，使用能夠蝕刻樹(shù)脂板67、樹(shù)脂掩模70的材料的蝕刻材料進(jìn)行蝕刻而能夠?qū)崿F(xiàn)。另外，在形成蒸鍍掩模100之后，通過(guò)蝕刻加工金屬掩模66、樹(shù)脂掩模70雙方，也可將雙方的厚度進(jìn)行最佳化。
[0090](有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法)
[0091]本發(fā)明的有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法，是使用在上述說(shuō)明的本發(fā)明的蒸鍍掩模100而形成有機(jī)半導(dǎo)體元件為特征的方法。對(duì)于蒸鍍掩模100是可直接使用在上述說(shuō)明的本發(fā)明的蒸鍍掩模100，在此的詳細(xì)說(shuō)明是省略的。根據(jù)在上述所說(shuō)明的本發(fā)明的蒸鍍掩模，利用該蒸鍍掩模100所具有的尺寸精度高的開(kāi)口部25，可形成具有高精細(xì)圖案的有機(jī)半導(dǎo)體元件。作為以本發(fā)明的制造方法所制造的有機(jī)半導(dǎo)體元件，例如，可舉出有機(jī)電激發(fā)光EL元件的有機(jī)層、發(fā)光層、陰極電極等。特別是本發(fā)明的有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法是可最佳地用于要求高精細(xì)圖案精度的有機(jī)電激發(fā)光EL元件的R、G、B發(fā)光層的制造。
[0092]【符號(hào)說(shuō)明】
[0093]100:蒸鍍掩模
[0094]10、66:金屬掩模
[0095]15:縫隙
[0096]18:橋接器
[0097]20、70:樹(shù)脂掩模
[0098]25:開(kāi)口部
[0099]80:蒸鍍掩模裝置
【權(quán)利要求】
1.一種蒸鍍掩模，其特征在于， 層積金屬掩模和樹(shù)脂掩模， 所述金屬掩模設(shè)置有縫隙；所述樹(shù)脂掩模，其位于所述金屬掩模表面，縱橫配置有兩列以上與蒸鍍制作的圖案相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口部。
2.如權(quán)利要求1所述的的蒸鍍掩模，其中， 所述金屬掩模為磁性體。
3.如權(quán)利要求1或2所述的蒸鍍掩模，其中， 所述開(kāi)口部的剖面形狀具有朝向蒸鍍?cè)捶较驍U(kuò)展的形狀。
4.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的蒸鍍掩模，其中， 所述縫隙的剖面形狀具有朝向蒸鍍?cè)捶较驍U(kuò)展的形狀。
5.如權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的蒸鍍掩模，其中， 通過(guò)所述金屬掩模的縫隙和所述樹(shù)脂掩模的開(kāi)口部所形成的開(kāi)口整體的剖面形狀呈臺(tái)階狀。
6.如權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的蒸鍍掩模,其中， 在形成所述樹(shù)脂掩模的所述開(kāi)口部的端面設(shè)置有阻擋層。
7.如權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的蒸鍍掩模，其中， 所述樹(shù)脂掩模的厚度為3 μ m以上25 μ m以下。
8.一種蒸鍍掩模裝置的制造方法，其特征在于，具有: 對(duì)設(shè)有縫隙的金屬掩模和樹(shù)脂板進(jìn)行貼合的工序； 在含有金屬的框體上，對(duì)貼合有所述樹(shù)脂板的金屬掩模進(jìn)行固定的工序； 從所述金屬掩模側(cè)照射激光，而在所述樹(shù)脂板上縱橫形成兩列以上與蒸鍍制作的圖形相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口部的工序。
9.一種蒸鍍掩模裝置的制造方法，其特征在于，具有: 在含有金屬的框體上，對(duì)設(shè)有縫隙的金屬掩模進(jìn)行固定的工序； 對(duì)固定于所述框體的金屬掩模和樹(shù)脂板進(jìn)行貼合的工序； 從所述金屬掩模側(cè)照射激光，在所述樹(shù)脂板上縱橫形成兩列以上與蒸鍍制作的圖形相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口部的工序。
10.一種有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法，其特征在于， 使用在如權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的蒸鍍掩模。
【文檔編號(hào)】C23C14/24GK104053813SQ201380005292
【公開(kāi)日】2014年9月17日 申請(qǐng)日期:2013年1月11日 優(yōu)先權(quán)日:2012年1月12日
【發(fā)明者】廣部吉紀(jì), 松元豐, 牛草昌人, 武田利彥, 西村佑行, 小幡勝也, 竹腰敬 申請(qǐng)人:大日本印刷株式會(huì)社