一種用于控制背面刻蝕量的抽氣管道的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種用于控制背面刻蝕量的抽氣管道，在所述的抽氣管道上的設(shè)有大小均勻的抽氣孔，在每個(gè)抽氣孔上設(shè)有閥門。該用于控制背面刻蝕量的抽氣管道，通過(guò)控制硅片背面、液面上方空間的抽風(fēng)量實(shí)現(xiàn)對(duì)背面刻蝕量靈敏、準(zhǔn)確、靈活的控制。有效解決現(xiàn)有工藝方法下各道背面刻蝕量不均勻，背面刻蝕量調(diào)節(jié)不準(zhǔn)確的問(wèn)題。通過(guò)實(shí)驗(yàn)證實(shí)，改善后各個(gè)傳送道之間的背面刻蝕量差異（STDEV值）有明顯的減小，由0.05左右降低到0.004左右，減低了一個(gè)數(shù)量級(jí)，說(shuō)明改善后背面刻蝕量的均勻性有了明顯改善，該方法切實(shí)有效，具有很好的實(shí)用性。
【專利說(shuō)明】一種用于控制背面刻蝕量的抽氣管道
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及太陽(yáng)電池制造【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種控制背面刻蝕量的抽氣管道。
【背景技術(shù)】
[0002]太陽(yáng)電池制造工藝過(guò)程中，在擴(kuò)散后需要將硅片邊緣及背面的PN結(jié)去除，以防止電池漏電的情況發(fā)生。目前采用的刻蝕方法有等離子體刻蝕和濕法刻蝕兩種。
[0003]在濕法刻蝕中，首先用滾輪將硝酸帶出將滾輪與硅片接觸的背面氧化，形成氧化硅，然后利用氫氟酸與氧化硅反應(yīng)生成絡(luò)合物六氟硅酸(H2SiF6)，刻斷PN結(jié),從而使正面與背面絕緣。一般用背面刻蝕量(減重等)來(lái)表征濕法刻蝕的效果。
[0004]一般通過(guò)調(diào)節(jié)滾輪傳送速度、刻蝕槽溫度及酸濃度幾種方法來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)背面刻蝕量的控制。在這三種方法中，滾輪傳送速度同時(shí)關(guān)系到正面刻蝕量的大??；刻蝕槽溫度的大小和酸濃度的調(diào)節(jié)則需要較長(zhǎng)的時(shí)間達(dá)到平衡。均無(wú)法實(shí)現(xiàn)對(duì)背面刻蝕量的及時(shí)迅速的調(diào)節(jié)。
[0005]現(xiàn)有的濕法刻蝕中，背面抽氣管一般采用靠近總抽氣管的一端氣孔直徑較小、隨著與總抽氣管距離的增加氣孔的直徑逐漸增加的方式來(lái)設(shè)計(jì)。這種設(shè)計(jì)導(dǎo)致了在傳送過(guò)程中靠近總抽氣管的硅片的背面刻蝕量大，而遠(yuǎn)離總抽氣管的硅片的背面刻蝕量小，嚴(yán)重影響了后續(xù)電池片生產(chǎn)的工藝均勻性。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0006]發(fā)明目的:針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本實(shí)用新型的目的是提供一種控制背面刻蝕量的抽氣管道，通過(guò)控制硅片背面、液面上方空間的抽風(fēng)量實(shí)現(xiàn)對(duì)背面刻蝕量靈敏、準(zhǔn)確、靈活的控制。
[0007]技術(shù)方案:為了實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為:
[0008]一種用于控制背面刻蝕量的抽氣管道，在所述的抽氣管道上的設(shè)有大小均勻的抽氣孔，在每個(gè)抽氣孔上設(shè)有閥門。
[0009]所述抽氣孔的直徑為0.1mm?50mm。
[0010]所述抽氣孔在抽氣管道上的分布密度為I?2500個(gè)/cm2。
[0011]所述抽氣管道的材料包括但不限于PVP、PVDF0
[0012]所述閥門安裝在抽氣管道的外表面、內(nèi)表面或者管壁體內(nèi)。
[0013]所述閥門的包括但不限于閘閥、截止閥、蝶閥、隔膜閥。
[0014]所述抽氣量的大小采用以下方法來(lái)控制:通過(guò)設(shè)定總抽風(fēng)量來(lái)控制各通風(fēng)口的抽風(fēng)量大小，或通過(guò)控制通風(fēng)口大小來(lái)控制抽風(fēng)量的大小，或同時(shí)改變各道抽風(fēng)口的抽風(fēng)量，或分別為各道設(shè)定不同的抽風(fēng)量大小。
[0015]所述抽氣管道設(shè)在硅片下方、滾輪旁邊。
[0016]有益效果:與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的用于控制背面刻蝕量的抽氣管道，通過(guò)控制硅片背面、液面上方空間的抽風(fēng)量實(shí)現(xiàn)對(duì)背面刻蝕量靈敏、準(zhǔn)確、靈活的控制。有效解決現(xiàn)有工藝方法下各道背面刻蝕量不均勻，背面刻蝕量調(diào)節(jié)不準(zhǔn)確的問(wèn)題。通過(guò)實(shí)驗(yàn)證實(shí)，改善后各個(gè)傳送道之間的背面刻蝕量差異(STDEV值)有明顯的減小，由0.05左右降低到
0.004左右，減低了一個(gè)數(shù)量級(jí)，說(shuō)明改善后背面刻蝕量的均勻性有了明顯改善，該方法切實(shí)有效，具有很好的實(shí)用性。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0017]圖1是抽氣管道安置不意圖；
[0018]圖2是抽氣管道的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0019]下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的說(shuō)明。
[0020]實(shí)施例1
[0021]一種控制背面刻蝕量的方法，通過(guò)控制抽氣量的大小來(lái)控制背面刻蝕量。在硅片下方、滾輪3旁邊安置抽氣管道2，各抽氣管道2連接到總管道I上，如圖1所示，抽氣管2上的抽氣孔4大小均勻，且每個(gè)孔均由閥門4控制抽氣時(shí)開放孔洞的大小，由此控制抽氣量。而通過(guò)對(duì)抽氣量的控制可以實(shí)現(xiàn)對(duì)背面刻蝕量的大小以及均勻性的迅速調(diào)節(jié)。
[0022]使用特殊的抽氣管道，其特殊性在于帶有均勻大小(0.1mm?50mm)抽氣孔洞的抽氣管道，每個(gè)抽氣孔上設(shè)置有閥門以控制抽氣時(shí)的通風(fēng)口大小。可以改善對(duì)背面刻蝕量控制的靈活性和均勻性。
[0023]在抽氣孔內(nèi)設(shè)置閥門以控制抽氣時(shí)的通風(fēng)口大小。抽氣管道上抽氣孔的直徑為
0.1mm?50mm ;抽氣孔在抽氣管道上的分布密度為I?2500個(gè)/cm2。抽氣管道的材料包括但不限于PVP、PVDF等耐腐蝕材料?？刂仆L(fēng)口大小的閥門可以安裝在抽氣管道的外表面、內(nèi)表面或者管壁體內(nèi)。閥門的種類包括但不限于閘閥、截止閥、蝶閥、隔膜閥等。
[0024]可以通過(guò)設(shè)定總抽風(fēng)量來(lái)控制各通風(fēng)口的抽風(fēng)量大小，也可以通過(guò)控制通風(fēng)口大小來(lái)控制抽風(fēng)量的大??；可以同時(shí)改變各道抽風(fēng)口的抽風(fēng)量，也可以分別為各道設(shè)定不同的抽風(fēng)量大小。
[0025]表I是改善前后背面刻蝕減重的對(duì)比表，背面刻蝕的減重可以有效表征背面刻蝕量的大小。由表I可以看出相對(duì)改善前，改善后各個(gè)傳送道之間的背面刻蝕量差異(STDEV值)有明顯的減小，由0.05左右降低到0.004左右，減低了一個(gè)數(shù)量級(jí)，說(shuō)明改善后背面刻
蝕量的均勻性有了明顯改善，該方法切實(shí)有效。
[0026]
【權(quán)利要求】
1.一種用于控制背面刻蝕量的抽氣管道，其特征在于:在所述的抽氣管道上的設(shè)有大小均勻的抽氣孔，在每個(gè)抽氣孔上設(shè)有閥門。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于控制背面刻蝕量的抽氣管道，其特征在于:所述抽氣孔的直徑為0.1mm?50mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于控制背面刻蝕量的抽氣管道，其特征在于:所述抽氣孔在抽氣管道上的分布密度為I?2500個(gè)/cm2。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于控制背面刻蝕量的抽氣管道，其特征在于:所述閥門安裝在抽氣管道的外表面、內(nèi)表面或者管壁體內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于控制背面刻蝕量的抽氣管道，其特征在于:所述抽氣管道設(shè)在硅片下方、滾輪旁邊。
【文檔編號(hào)】C23F1/08GK203382822SQ201320344862
【公開日】2014年1月8日 申請(qǐng)日期:2013年6月17日 優(yōu)先權(quán)日:2013年6月17日
【發(fā)明者】趙晨, 張輝, 孟津, 張斌, 邢國(guó)強(qiáng) 申請(qǐng)人:奧特斯維能源（太倉(cāng)）有限公司