一種殼體的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種殼體的制作方法。該殼體的制作方法包括如下步驟：提供一基體，采用溶膠法在該基體的表面形成一二氧化矽薄膜，該二氧化矽薄膜具有微米量級的結(jié)構(gòu)，采用真空濺鍍法在該二氧化矽薄膜表面形成一氧化鋅薄膜，該氧化鋅薄膜具有奈米量級的結(jié)構(gòu)，屬于衛(wèi)浴清潔材料。
【專利說明】一種殼體的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種殼體及其制作方法，尤其涉及一種具有防水及自清潔功能的殼體及該殼體的制作方法。屬于衛(wèi)浴清潔材料。
[0002]
【背景技術(shù)】
[0003]近年來，消費者對于3C產(chǎn)品的要求越來越高。除具有更多、更強的功能外，還對產(chǎn)品的外殼提出了更高的要求，如希望外殼可防腐蝕、防銹、防塵、防水及具有自清潔功能等。
[0004]為了使外殼具有防水的效果，已知的方法一般為將具有疏水性的涂料涂覆于外殼的表面形成一疏水性薄膜。然而，該疏水性薄膜雖具有防水的功能，但為灰塵沾上外殼表面後，液滴不能有效的在外殼表面滾動來抹除灰塵，因此不具有自清潔功能。且所使用的疏水性的涂料通常為有毒的有機物，對環(huán)境及人體健康不利。研究表明在外殼上涂覆一奈米氧化鋅薄膜可起到防水的作用。然而，該奈米氧化鋅薄膜僅具有較大的靜態(tài)接觸角(當液體滴在外殼表面上時，外殼表面和液滴切線的夾角，即為靜態(tài)接觸角)，不具有較小的動態(tài)接觸角，液滴在外殼表面不易自行滑落，因而也不具有自清潔功能，難以滿足消費者的需求。鑒于此，有必要提供一種具有防水及自清潔功能的殼體。
[0005]
【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]—種殼體，其主要包括一基體，其特征在于:所述殼體還包括依次形成于基體表面的一二氧化矽薄膜及一氧化鋅薄膜，所述二氧化矽薄膜具有微米量級的結(jié)構(gòu)，所述氧化鋅薄膜具有奈米量級的結(jié)構(gòu)，二氧化矽薄膜的表面粗糙度大小為微米級，氧化鋅薄膜的表面具有奈米級的氧化鋅棒陣列，二氧化矽薄膜與氧化鋅薄膜的總厚度在I微米以下，二氧化矽薄膜與氧化鋅薄膜的總厚度為0.1~0.5微米。殼體的基體可以由金屬材料或非金屬材料制成。
[0007]一種殼體的制作方法，其包括如下步驟:
提供一基體；
采用溶膠法在該基體的表面形成一二氧化矽薄膜，該二氧化矽薄膜具有微米量級的結(jié)構(gòu)；采用真空濺鍍法在該二氧化矽薄膜表面形成一氧化鋅薄膜，該氧化鋅薄膜具有奈米量級的結(jié)構(gòu)。相較于已知技術(shù)，所述的殼體通過在基體表面形成一具有微米量級的二氧化矽薄膜及具有奈米量級的氧化鋅薄膜的微米-奈米復合結(jié)構(gòu)涂層，可使得殼體的表面既具有較大的靜態(tài)接觸角，又具有較小的動態(tài)接觸角，從而使得殼體既具有防水功能，又具有自清潔功能。該殼體的制 作方法不需要使用有毒的有機涂料，也不需經(jīng)酸或堿處理，對環(huán)境及人體健康無害；且該方法簡單易行。
[0008]實施方式:
請參閱圖1，本發(fā)明一較佳實施方式的殼體10包括一基體11，及依次形成于基體11表面的二氧化矽薄膜13及氧化鋅薄膜15?；w11可由金屬材料或非金屬材料制成。該金屬材料可包括不銹鋼、鋁、鋁合金、銅、銅合金、鋅等。該非金屬材料可包括塑膠、陶瓷、玻璃、聚合物等。二氧化矽薄膜13為一透明的薄膜，其具有微米量級的結(jié)構(gòu)。且該二氧化矽薄膜13的表面粗糙度大小為微米級。氧化鋅薄膜15為一透明的薄膜，其具有奈米量級的結(jié)構(gòu)。該氧化鋅薄膜15的表面形成有奈米的氧化鋅棒陣列。所述二氧化矽薄膜13與氧化鋅薄膜15的總厚度在I微米以下，最好為0.1~0.5微米。
[0009]本發(fā)明一較佳實施方式的制作上述殼體10的方法包括如下步驟:
提供一基體11。[0010]采用溶膠法在該基體11的表面形成一二氧化矽薄膜13。形成該二氧化矽薄膜13包括如下步驟:
制備一溶膠。該溶膠中可含有正矽酸乙酯、乙醇、鹽酸及去離子水。制備所述溶膠時，可按正矽酸乙酯、乙醇、鹽酸(36.5%)及去離子水I~5:1:0.01~0.05:1~25的體積比量取上述各成分混合均勻，再進行磁力攪拌約1-5小時。
[0011]采用浸潰提拉法，將所述基體11浸潰于該溶膠中一定時間，再勻速將該基體11拉出，使基體11的表面被附著一溶膠層，待該溶膠層于空氣中乾燥後，再對其進行熱處理，以除去該溶膠層中含有的有機物，以在基體11的表面形成一二氧化矽薄膜13。所述熱處理的溫度可為200~400°C。
[0012]采用真空濺鍍法在該二氧化矽薄膜13的表面形成一氧化鋅薄膜15。形成該氧化鋅薄膜15包括如下步驟:
將形成有二氧化矽薄膜13的基體11放入一真空濺鍍機(圖未示)的鍍膜室中，抽真空該鍍膜室的真空度至4.0 X 10-3Pa，並加熱該鍍膜室的溫度至20~300°C，以鋅為靶材，並對該祀材施加-100~-300V的偏壓，通入流量為20~300sccm (標派毫升每分)的反應氣體氧氣及流量為100~400sCCm的工作氣體氬氣，然後開啟靶材的電源，于二氧化矽薄膜13的表面沉積所述氧化鋅薄膜15。沉積的時間可為20~60分鐘。
[0013]相較于已知技術(shù)，所述的殼體10通過在基體11表面形成一具有微米量級的二氧化石夕薄膜13及具有奈米量級的氧化鋅薄膜15的微米-奈米復合結(jié)構(gòu)涂層，可使得殼體10的表面既具有較大的靜態(tài)接觸角，又具有較小的動態(tài)接觸角，從而使得殼體10既具有防水功能，又具有自清潔功能。該殼體10的制作方法不需要使用有毒的有機涂料，也不需經(jīng)酸或堿處理，對環(huán)境及人體健康無害；且該方法簡單易行。
[0014]圖式簡單說明
圖1為本發(fā)明一較佳實施方式的殼體的剖視不意圖。
[0015]主要元件符號說明殼體:10
基體:11
二氧化矽薄膜:13氧化鋅薄膜:15。
【權(quán)利要求】
1.一種殼體的制作方法，其包括如下步驟:提供一基體，采用溶膠法在該基體的表面形成一二氧化矽薄膜，該二氧化矽薄膜具有微米量級的結(jié)構(gòu)，采用真空濺鍍法在該二氧化矽薄膜表面形成一氧化鋅薄膜，該氧化鋅薄膜具有奈米量級的結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種殼體的制作方法，其特點在于形成所述二氧化矽薄膜包括如下步驟:制備一溶膠，該溶膠中含有正矽酸乙酯；以浸潰提拉法于基體表面附著一溶膠層；對該溶膠層進行熱處理以制得所述二氧化矽薄膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種殼體的制作方法，其特點在于所述溶膠中還含有乙醇、鹽酸及去離子水。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種殼體的制作方法，其特點在于所述正矽酸乙酯、乙醇、鹽酸及去離子水的體積比為I~5:1:0.01~0.05:1~25，所述鹽酸為品質(zhì)百分含量為36.5%的鹽酸。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種殼體的制作方法，其特點在于所述熱處理的溫度為200~400。。。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種殼體的制作方法，其特點在于所述真空濺鍍法以鋅為靶材，設置于該靶材的偏壓為-100~-300V，鍍膜溫度為20~300°C，以氧氣為反應性氣體，其流量為20~300sccm ; 以氬氣為工作氣體，其流量為100~400sccm。
【文檔編號】C23C14/34GK103572288SQ201310570837
【公開日】2014年2月12日 申請日期:2013年11月17日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月17日
【發(fā)明者】朱亮 申請人:朱亮