一種“兩端設(shè)點(diǎn)”熔煉純鈦的方法
【專利摘要】一種“兩端設(shè)點(diǎn)”熔煉純鈦的方法,本發(fā)明特征是,將4#EB的槍掃描軌跡設(shè)計(jì)為采用“兩端設(shè)點(diǎn)”的方法,將原來在溢流側(cè)的兩個(gè)點(diǎn)分散到兩端,并改變圖形,將兩個(gè)都改成縱向的橢圓狀,使它們的能量完全覆蓋兩個(gè)窄面,每個(gè)圖形的能量控制在4#槍的8%—11%之間。本發(fā)明可以消除這些缺陷使兩個(gè)窄面都能夠和大面一樣平整光滑,減少銑床切削量及人工修磨量,從而提高成材率。
【專利說明】一種“兩端設(shè)點(diǎn)”熔煉純鈦的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬EB爐真空熔煉方法【技術(shù)領(lǐng)域】。
【背景技術(shù)】
[0002]在EB爐真空熔煉純鈦的過程當(dāng)中,由于冷卻水的作用,錠塊的兩個(gè)窄面的冷卻速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于大面的冷卻速度,導(dǎo)致兩個(gè)窄面的能量不夠。根據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn),會(huì)在錠塊的兩個(gè)窄面產(chǎn)生許多諸如凹坑、冷縮、冷隔、折層、冷凝掛的缺陷,嚴(yán)重影響了鈦錠的成材率。
[0003]在以前的熔煉過程中,4#EB我們采用的是附圖1中所示的掃描軌跡,在圖1中,左邊的位置為溢流側(cè),右邊則是非溢流側(cè)。該工藝方法是將兩個(gè)點(diǎn)都放在溢流側(cè),且一個(gè)為圓形,一個(gè)為橫向的橢圓形。但是根據(jù)以前的效果來看,在溢流側(cè)會(huì)產(chǎn)生凹坑、冷縮、冷凝掛等缺陷,而非溢流側(cè)則會(huì)產(chǎn)生冷隔、折層、冷凝掛等缺陷。根據(jù)多次的嘗試與分析,總結(jié)出:這些缺陷都是由于兩端能量不夠,冷卻過快造成的。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004] 本發(fā)明的任務(wù)就是要通過改變?nèi)蹮捁に嚤M可能的消除這些缺陷使兩個(gè)窄面都能夠和大面一樣平整光滑,減少銑床切削量及人工修磨量,從而提高成材率。
[0005]本發(fā)明確定最佳熔煉工藝:4#EB槍掃描圖形的軌跡和能量分布。根據(jù)多次的嘗試和調(diào)整,最終總結(jié)出了這個(gè)“兩端設(shè)點(diǎn)”的熔煉工藝方法。其技術(shù)實(shí)質(zhì)為增大兩個(gè)窄面的能量分布,使兩個(gè)窄面與大面保持相同的冷卻速度,避免兩個(gè)窄面由于能量不夠而被‘提前冷卻’。從而避免錠塊缺陷的產(chǎn)生。
[0006]本發(fā)明具體技術(shù)方案的工藝過程如下:
一種“兩端設(shè)點(diǎn)”熔煉純鈦的方法,本發(fā)明特征是,將4#EB的槍掃描軌跡設(shè)計(jì)為采用“兩端設(shè)點(diǎn)”的方法,將原來在溢流側(cè)的兩個(gè)點(diǎn)分散到兩端,并改變圖形,將兩個(gè)都改成縱向的橢圓狀,使它們的能量完全覆蓋兩個(gè)窄面,每個(gè)圖形的能量控制在4#槍的8% — 11%之間。
[0007]本發(fā)明的有益效果是
經(jīng)過很長(zhǎng)時(shí)間的實(shí)踐證明,用此“兩端設(shè)點(diǎn)”的熔煉工藝所熔煉出的鈦錠,由于加大了兩端的能量及圖形分布,兩端不再由于能量不夠而提前冷卻,所以熔煉出的鈦錠的兩個(gè)側(cè)面能夠與大面一樣平整、光滑,從而大大的提高了鈦錠的成材率。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0008]圖1為現(xiàn)有4#EB槍掃描圖形的軌跡和能量分布;
圖2為本發(fā)明4#EB槍掃描圖形的軌跡和能量分布。
【具體實(shí)施方式】
[0009]見圖2,一種“兩端設(shè)點(diǎn)”熔煉純鈦的方法,本發(fā)明特征是,將4#EB的槍掃描軌跡設(shè)計(jì)為采用“兩端設(shè)點(diǎn)”的方法,將原來在溢流側(cè)的兩個(gè)點(diǎn)分散到兩端,并改變圖形,將兩個(gè)都改成縱向的橢圓狀,使它們的能量完全覆蓋兩個(gè)窄面,每個(gè)圖形的能量控制在4#槍的8%—11%之間。
【權(quán)利要求】
1.一種“兩端設(shè)點(diǎn)”熔煉純鈦的方法,其特征是,將4#EB的槍掃描軌跡設(shè)計(jì)為采用“兩端設(shè)點(diǎn)”的方法,將原來在溢流側(cè)的兩個(gè)點(diǎn)分散到兩端,并改變圖形,將兩個(gè)都改成縱向的橢圓狀,使它們的能量 完全覆蓋兩個(gè)窄面,每個(gè)圖形的能量控制在4#槍的8% —11%之間。
【文檔編號(hào)】C22B9/04GK103540772SQ201310414538
【公開日】2014年1月29日 申請(qǐng)日期:2013年9月12日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月12日
【發(fā)明者】史亞鳴, 李志敏, 王玉康, 卞輝, 張松斌 申請(qǐng)人:云南鈦業(yè)股份有限公司