專利名稱：靶材的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說(shuō)，涉及一種靶材。
背景技術(shù)：
半導(dǎo)體器件制造過(guò)程可分為前段工藝和后段工藝，前段工藝中主要在晶片上形成晶體管、電容或電阻等相應(yīng)器件，后段工藝主要將前段工藝中形成的器件通過(guò)金屬相連，即主要形成金屬互連。后段工藝中一般包括4 6層金屬互連，通過(guò)光刻工藝，在每一層金屬互連所對(duì)應(yīng)的介質(zhì)層中形成通孔，在通孔內(nèi)引入金屬可將器件和金屬層連接起來(lái)。金屬互連工藝中需要在晶片上形成金屬層，金屬層的形成一般采用物理氣相沉積 (PVD)方法，最開(kāi)始的PVD —般依靠燈絲蒸發(fā)來(lái)實(shí)現(xiàn)，之后用電子束代替了燈絲，再后來(lái)發(fā)展成通過(guò)濺射的方式來(lái)實(shí)現(xiàn)。在濺射過(guò)程中，高能粒子撞擊具有高純度的靶材固體平板，通過(guò)物理過(guò)程撞擊出原子，這些被撞擊出來(lái)的原子穿過(guò)真空，最后沉積在晶片上?，F(xiàn)有工藝中常用的濺射靶材(可簡(jiǎn)稱靶材)一般為圓盤(pán)狀結(jié)構(gòu)，且靶材表面為光滑的平面結(jié)構(gòu)。當(dāng)該靶材被多次使用之后，其表面將不再是平整的結(jié)構(gòu)，而是形成了多個(gè)環(huán)狀的凹坑，這是由于濺射過(guò)程中高能粒子撞擊靶材表面的角度、頻率及能量等有所不同而導(dǎo)致。參考圖1，圖1示出了被多次使用后的靶材的俯視結(jié)構(gòu)圖。圖中示出了圓形的靶材 10，靶材10的中心1，由靶材中心1向四周擴(kuò)散形成了三個(gè)環(huán)形區(qū)域2、3和4，這三個(gè)環(huán)形區(qū)域2、3和4受高能粒子撞擊的較嚴(yán)重，因此，形成了凹陷的坑。參考圖2，圖2為對(duì)圖1中所示結(jié)構(gòu)按過(guò)中心的軸線剖切后所得靶材的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。由圖2可直觀地看出，該靶材10在被多次使用后，由靶材10中心1處向外延展形成了三個(gè)環(huán)形結(jié)構(gòu)的凹坑，分別為凹坑2、凹坑3和凹坑4。上述靶材在被多次使用后，由于在其表面形成了三個(gè)環(huán)形結(jié)構(gòu)的凹坑，當(dāng)所述凹坑繼續(xù)被高能粒子撞擊時(shí)，將可能導(dǎo)致靶材被擊穿，從而影響濺射結(jié)果，因此，需要及時(shí)更換已經(jīng)形成有較深凹坑的靶材。而被更換掉的靶材由于只是在凹坑處被撞擊掉了部分材料，凹坑周邊地方還剩余較多靶材材料，因此，使得該靶材的使用壽命較短，且造成了靶材材料的浪費(fèi)，增加了成本。

實(shí)用新型內(nèi)容有鑒于此，本實(shí)用新型提供一種靶材，該靶材具有較長(zhǎng)的使用壽命，且使用該靶材進(jìn)行濺射時(shí)不會(huì)造成靶材材料的浪費(fèi)，進(jìn)而可節(jié)約成本。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案一種靶材，該靶材包括靶材本體；設(shè)置在靶材本體上的預(yù)設(shè)位置處的凸起。優(yōu)選的，上述靶材中，所述凸起為環(huán)形結(jié)構(gòu)的凸起。優(yōu)選的，上述靶材中，所述凸起的個(gè)數(shù)為3。[0013]優(yōu)選的，上述靶材中，所述凸起關(guān)于靶材本體的中心成中心對(duì)稱結(jié)構(gòu)。優(yōu)選的，上述靶材中，所述靶材本體為圓形結(jié)構(gòu)。優(yōu)選的，上述靶材中，所述靶材為鋁-銅合金靶材。優(yōu)選的，上述靶材中，所述鋁-銅合金中鋁的質(zhì)量百分含量為99%，銅的質(zhì)量百分含量為1%。優(yōu)選的，上述靶材中，所述靶材本體和所述凸起為一體成型結(jié)構(gòu)。優(yōu)選的，上述靶材中，所述靶材本體的表面為平面。優(yōu)選的，上述靶材中，所述3個(gè)凸起與靶材本體中心的距離之比為1 2 3。從上述技術(shù)方案可以看出，本實(shí)用新型所提供的靶材包括靶材本體；設(shè)置在靶材本體上的預(yù)設(shè)位置處的凸起。本實(shí)用新型所提供的靶材，在靶材本體上的預(yù)設(shè)位置處設(shè)置有凸起，這就使得靶材的表面不再是平面，而是具有高低不同結(jié)構(gòu)的表面。所述預(yù)設(shè)位置是人為預(yù)先設(shè)置的，因此，可根據(jù)現(xiàn)有工藝中多個(gè)壽命已耗盡的靶材，找到這些靶材上易于形成凹坑的位置，并將這些位置定為預(yù)設(shè)位置，即所述預(yù)設(shè)位置為被高能量粒子撞擊比較嚴(yán)重、而后易于形成凹坑的位置。因此，采用本實(shí)用新型所提供的靶材，在濺射過(guò)程中，雖然靶材本體上的預(yù)設(shè)位置處受到高能量粒子的撞擊比較嚴(yán)重，但這些位置處設(shè)置了凸起，從而使得這些位置處不會(huì)輕易被撞擊形成凹坑，進(jìn)而可提高該靶材的使用壽命。當(dāng)該靶材使用壽命耗盡的時(shí)候，靶材上所剩的材料也不是太多，從而避免了靶材材料的浪費(fèi)，節(jié)約了成本。

為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為現(xiàn)有技術(shù)中常見(jiàn)的一種被濺射用了多次后的靶材的俯視結(jié)構(gòu)圖；圖2為對(duì)圖1中所示結(jié)構(gòu)按過(guò)中心的軸線剖切后所得靶材的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的一種靶材的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為對(duì)圖3中所示結(jié)構(gòu)按過(guò)中心的軸線剖切后所得靶材的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。正如背景技術(shù)部分所述，靶材在被多次使用后，其表面易于形成三個(gè)環(huán)形結(jié)構(gòu)的凹坑，當(dāng)所述凹坑較深時(shí)，如果再繼續(xù)使用該靶材進(jìn)行濺射，則易于導(dǎo)致靶材的擊穿，此時(shí)， 應(yīng)該及時(shí)更換新的靶材，因此，凹坑的形成使得靶材的使用壽命大大縮短了。且被更換下來(lái)的靶材，其上還剩余了大量未被利用的靶材材料，被濺射掉的材料僅為先前凹坑處的材料， 這就造成了靶材材料的浪費(fèi)，導(dǎo)致成本的提高。[0028]發(fā)明人對(duì)被更換下來(lái)的多個(gè)靶材進(jìn)行研究，發(fā)現(xiàn)這些靶材上的凹坑對(duì)應(yīng)位于每一個(gè)靶材上的位置大致相同，據(jù)此，可以推斷這些靶材上凹坑所對(duì)應(yīng)的位置為濺射過(guò)程中受高能量粒子撞擊比較嚴(yán)重的地方，導(dǎo)致高能量粒子撞擊比較嚴(yán)重的原因有粒子的能量較大或粒子的密度較高等，無(wú)論是何種原因，結(jié)果總是一樣的，即靶材上這些位置易于被高能量粒子撞擊而形成凹坑。因此，發(fā)明人將這些特定位置標(biāo)記起來(lái)，記為預(yù)設(shè)位置，后續(xù)通過(guò)加厚靶材上預(yù)設(shè)位置處的厚度，來(lái)對(duì)此處因高能量粒子撞擊比較嚴(yán)重而導(dǎo)致靶材材料損失較多進(jìn)行相應(yīng)的彌補(bǔ)，從而使得所述預(yù)設(shè)位置處不會(huì)輕易被撞擊形成凹坑，進(jìn)而可提高靶材的使用壽命。
以下結(jié)合附圖詳細(xì)描述本實(shí)用新型所提供的靶材。參考圖3和圖4，圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的一種靶材的俯視結(jié)構(gòu)示意圖，圖4為對(duì)圖3中所示結(jié)構(gòu)按過(guò)中心的軸線剖切后所得靶材的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)用新型所提供的靶材包括靶材本體21 ；設(shè)置在靶材本體21上的預(yù)設(shè)位置處的凸起。所述靶材本體21為圓形結(jié)構(gòu)，且靶材本體21的表面為平面，即此處所說(shuō)的靶材本體21即為現(xiàn)有技術(shù)中常見(jiàn)的(新的)靶材。本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的靶材是在現(xiàn)有靶材的基礎(chǔ)上做了相應(yīng)改進(jìn)而形成的。發(fā)明人研究發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有的靶材在壽命耗盡后，在其上特定位置處易于形成凹坑，所形成的凹坑一般成環(huán)形結(jié)構(gòu)，所述環(huán)形結(jié)構(gòu)的凹坑關(guān)于靶材的中心成中心對(duì)稱結(jié)構(gòu)，且一個(gè)靶材上一般形成有三個(gè)環(huán)形結(jié)構(gòu)的凹坑，因此，發(fā)明人將這三個(gè)環(huán)形結(jié)構(gòu)的凹坑所對(duì)應(yīng)的位置做標(biāo)記，并在新的靶材上找到與上述三個(gè)環(huán)形結(jié)構(gòu)的凹坑相對(duì)應(yīng)的位置，將這些位置記為預(yù)設(shè)位置。在所述預(yù)設(shè)位置上設(shè)置凸起從而使所述預(yù)設(shè)位置對(duì)應(yīng)的厚度增加。圖3中示出了三個(gè)成環(huán)形結(jié)構(gòu)的凸起，分別為凸起23、凸起M和凸起25，這三個(gè)凸起均關(guān)于靶材中心22成中心對(duì)稱結(jié)構(gòu)，凸起23、凸起M和凸起25與靶材中心22的距離之比為1 2 3，即這三個(gè)凸起沿靶材中心21向外延伸成等間距排列。本實(shí)用新型實(shí)施例中的靶材為鋁-銅合金靶材，所述鋁-銅合金中鋁的質(zhì)量百分含量為99%，銅的質(zhì)量百分含量為1%。當(dāng)然，其他實(shí)施例中所述靶材還可以為金靶材或鈦靶材等。本實(shí)施例中所述靶材本體21和上述三個(gè)凸起為一體成型結(jié)構(gòu)。由上可知，本實(shí)用新型所提供的靶材包括靶材本體，即現(xiàn)有技術(shù)中常見(jiàn)的靶材； 設(shè)置在靶材本體上的預(yù)設(shè)位置處的凸起，所述預(yù)設(shè)位置即為受高能量粒子撞擊比較嚴(yán)重的位置，因此，通過(guò)在預(yù)設(shè)位置處設(shè)置凸起，使得預(yù)設(shè)位置處的厚度增加，進(jìn)而可對(duì)此處受高能量粒子撞擊比較嚴(yán)重而導(dǎo)致?lián)p失的靶材材料較多而做出相應(yīng)的彌補(bǔ)，使得此處不會(huì)輕易 (或在較短時(shí)間內(nèi))被撞擊而形成凹坑，當(dāng)該靶材壽命耗盡時(shí)，使得此處和周邊區(qū)域能夠具有大致相同的高度，進(jìn)而避免了凹坑的形成，因此，可提高靶材的使用壽命，延長(zhǎng)靶材的更換周期。除此之外，由于靶材壽命耗盡時(shí)，其上不再形成有凹坑，因此，使得靶材上剩余的材料較少，從而避免了靶材材料的浪費(fèi)，節(jié)省了工藝成本。對(duì)所公開(kāi)的實(shí)施例的上述說(shuō)明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本實(shí)用新型。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來(lái)說(shuō)將是顯而易見(jiàn)的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實(shí)用新型的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本實(shí)用新型將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開(kāi)的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
權(quán)利要求1.一種靶材，其特征在于，包括 靶材本體；設(shè)置在靶材本體上的預(yù)設(shè)位置處的凸起。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靶材，其特征在于，所述凸起為環(huán)形結(jié)構(gòu)的凸起。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的靶材，其特征在于，所述凸起的個(gè)數(shù)為3。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的靶材，其特征在于，所述凸起關(guān)于靶材本體的中心成中心對(duì)稱結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靶材，其特征在于，所述靶材本體為圓形結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靶材，其特征在于，所述靶材為鋁-銅合金靶材。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的靶材，其特征在于，所述靶材本體和所述凸起為一體成型結(jié)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的靶材，其特征在于，所述靶材本體的表面為平面。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的靶材，其特征在于，所述3個(gè)凸起與靶材本體中心的距離之比為 1 2 3。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種靶材，該靶材包括靶材本體；設(shè)置在靶材本體上的預(yù)設(shè)位置處的凸起。本實(shí)用新型所提供的靶材，由于在靶材本體的預(yù)設(shè)位置處設(shè)置有凸起，所述凸起可增加預(yù)設(shè)位置處的厚度，所述預(yù)設(shè)位置對(duì)應(yīng)在濺射過(guò)程中受高能量粒子撞擊比較嚴(yán)重的位置，因此，在預(yù)設(shè)位置處設(shè)置凸起可延長(zhǎng)所述預(yù)設(shè)位置處的靶材承受高能量粒子撞擊的時(shí)間，使得此處不會(huì)輕易被撞擊形成凹坑，進(jìn)而可延長(zhǎng)該靶材的使用壽命。除此之外，該靶材在壽命耗盡時(shí)，其上剩余的靶材材料較少，進(jìn)而避免了靶材材料的浪費(fèi)，節(jié)省了工藝成本。
文檔編號(hào)C23C14/14GK202157111SQ20112018428
公開(kāi)日2012年3月7日 申請(qǐng)日期2011年6月2日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月2日
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