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晶片單面拋光機主軸磨盤冷卻裝置的制作方法

文檔序號:3367817閱讀:287來源:國知局
專利名稱:晶片單面拋光機主軸磨盤冷卻裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是半導(dǎo)體晶片單面拋光機的下拋光盤冷卻裝置,屬于拋光機械技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
在現(xiàn)在的半導(dǎo)體晶片拋光過程中,很多的晶片都采用化學機械拋光,這樣的工藝 就使得晶片的質(zhì)量和生產(chǎn)效率得到較大幅度的提高,但由于有化學腐蝕劑的介入,拋光機 的下拋光大盤都采用不銹鋼整體制作。由于拋光過程中的強摩擦以及下盤液壓軸盤的摩 擦,運行中會產(chǎn)生大量的熱量,使拋光機升溫,會極大地影響拋光產(chǎn)品的質(zhì)量,并會降低機 床的精度,當升溫過高時,還可能會導(dǎo)致拋光不能正常進行。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的任務(wù)和主要解決的技術(shù)問題為提供一種晶片單面拋光機下拋光盤的冷 卻裝置,它可減少拋光過程中由于摩擦帶來的熱量,保證在長時間加工過程中下拋光盤溫 度可控,確保拋光產(chǎn)品的質(zhì)量,延長機床的壽命,保證機床精度。本發(fā)明的主要技術(shù)方案是拋光盤由上層不銹鋼材質(zhì)的下拋光盤和下層的冷卻水 盤連接而成,冷卻水盤內(nèi)側(cè)加工有水槽,水槽的兩端匯集在盤中心并分別連接排水管和進 水管;排水管和進水管采用大小管相套的套疊結(jié)構(gòu),套管下端密封連接在帶三通口的水管 座上,另外兩個通道分離的接口分別連接排水管接頭和進水管接頭。本發(fā)明所述的冷卻水盤上的水槽呈蛇形狀,盤的最外圈加工有密封槽并填入密封 圈,套管的外管為排水管,內(nèi)管為進水管,排水管與進水管互相固定,排水管的管口帶法蘭 盤并固定在冷卻水盤外側(cè)。本發(fā)明所述的水管座為配置有上蓋和下蓋的圓柱腔體,水管座、排水管和上蓋的 結(jié)合點裝有密封圈,排水管接頭連接在水管座上;進水管、水管座和下蓋的結(jié)合點裝有密封 圈,進水管接頭連接在下蓋上。本發(fā)明所述的排水管與進水管在管內(nèi)用留有通道的支架固定,水管座用螺釘安裝 在裝置的支承架上。本發(fā)明的有益效果是將過去整體的拋光盤分成二個部分,更便于機械加工,且冷 卻水盤中通入冷卻水可大幅度降低下拋光盤的熱量,并帶走由于傳動軸承產(chǎn)生的熱量,既 保證了機床精度不變,又保證了拋光效率的提高,同時使拋光機的使用范圍擴大,可滿足不 同材質(zhì)的拋光,還延長了機床的壽命,保證了機床精度。


圖1為本發(fā)明的整體結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本發(fā)明的水管座結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本發(fā)明冷卻水盤右視圖。圖4為本發(fā)明冷卻水盤主視圖。
圖中各依次表示下拋光盤01、冷卻水盤02、排水管03、進水管04、上蓋05、水管 座06、排水管接頭07、下蓋08、密封圈09、進水管接頭10、支承架11、密封圈12、密封圈13、 密封圈14、密封圈15、水槽16、進水孔17、排水孔18。
具體實施例方式參照各圖,由于高抗腐蝕的不銹鋼加工困難,為便于機械加工,將拋光盤分成二個 部分,上部為不銹鋼的下拋光盤01,下部為冷卻水盤02,冷卻水盤02外端有8個螺紋孔與 下拋光盤的驅(qū)動盤系統(tǒng)連接,冷卻水盤02邊緣裝入0型密封圈15,再用螺栓緊固連接;冷 卻水盤02的內(nèi)側(cè)開有由中心向外園彎曲發(fā)散的蛇形水槽16 (在大盤旋轉(zhuǎn)過程中,循環(huán)水 會通過蛇形水槽冷卻后流出,水槽均勻分布在大盤的整個面,以確保冷卻效果),最后由邊 緣回到中心,由排水孔18排到排水管03。夾層水管套疊在一起,中部由帶通道的支架固定 在一起組成了套式管件(即套疊的排水管03和進水管04),排水管03位于外層且上端帶法 蘭,與冷卻水盤02密封連接。套疊的排水管03和進水管04下端裝入帶三通口的水管座06 上,水管座的另外兩個通道分離并且接口分別連接排水管接頭07和進水管接頭10,排水管 03和進水管04可在水管座06的空腔內(nèi)旋轉(zhuǎn)(座內(nèi)裝有塑料軸承,圖中未標示),并分別由密 封圈將排水和進水的通道分開,進、出水各自流動,不產(chǎn)生互相影響,水的流量大小由進水 口加裝一個球閥開關(guān)來控制,出水口連接到水箱(圖中未畫)內(nèi)實現(xiàn)水循環(huán)。水管座06采用 螺釘安裝在本裝置的支承架11上,進水口 04和排水口 03與下拋光盤同時旋轉(zhuǎn),而水管座 06經(jīng)支承架11與拋光機的機座固定在一起,不轉(zhuǎn)動。
權(quán)利要求
1.一種晶片單面拋光機下拋光盤冷卻裝置,其特征是拋光盤由上層不銹鋼材質(zhì)的下 拋光盤和下層的冷卻水盤連接而成,冷卻水盤內(nèi)側(cè)加工有水槽,水槽的兩端匯集在盤中心 并分別連接排水管和進水管;排水管和進水管采用大小管相套的套疊結(jié)構(gòu),套管下端密封 連接在帶三通口的水管座上,另外兩個通道分離的接口分別連接排水管接頭和進水管接 頭。
2.按權(quán)利要求1所述的晶片單面拋光機下拋光盤冷卻裝置,其特征是冷卻水盤上的 水槽呈蛇形狀,盤的最外圈加工有密封槽并填入密封圈,套管的外管為排水管,內(nèi)管為進水 管,排水管與進水管互相固定,排水管的管口帶法蘭盤并固定在冷卻水盤外側(cè)。
3.按權(quán)利要求2所述的晶片單面拋光機下拋光盤冷卻裝置,其特征是水管座為配置 有上蓋和下蓋的圓柱腔體,水管座、排水管和上蓋的結(jié)合點裝有密封圈,排水管接頭連接在 水管座上;進水管、水管座和下蓋的結(jié)合點裝有密封圈,進水管接頭連接在下蓋上。
4.按權(quán)利要求2所述的晶片單面拋光機下拋光盤冷卻裝置,其特征是排水管與進水 管在管內(nèi)用留有通道的支架固定,水管座用螺釘安裝在裝置的支承架上。
全文摘要
本發(fā)明為晶片單面拋光機的下拋光盤冷卻裝置,可解決拋光機下盤在旋轉(zhuǎn)過程中的冷卻問題,減少下盤機械加工中工藝難度,屬于拋光機械技術(shù)領(lǐng)域。本冷卻裝置的拋光盤由上層不銹鋼材質(zhì)的下拋光盤和下層的冷卻水盤連接而成,冷卻水盤內(nèi)側(cè)加工有水槽,水槽的兩端匯集在盤中心并分別連接排水管和進水管;排水管和進水管采用大小管相套的套疊結(jié)構(gòu),套管下端密封連接在帶三通口的固定水管座上,另外兩個通道分離的接口分別連接排水管接頭和進水管接頭。本發(fā)明可減少拋光過程中由于下拋光盤旋轉(zhuǎn)與上拋光盤摩擦帶來的熱量,保證在長時間加工過程過程中大拋光盤溫度可控,確保拋光產(chǎn)品的質(zhì)量,延長了機床的壽命,保證機床精度。
文檔編號B24B55/02GK102091994SQ20101058311
公開日2011年6月15日 申請日期2010年12月11日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月11日
發(fā)明者李明, 楊理, 陳明壽 申請人:昆明臺興精密機械有限責任公司
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