專利名稱：基板卸載裝置及卸載方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基板卸載裝置及卸載方法，尤其涉及一種對(duì)基板進(jìn)行卸載的同時(shí) 可對(duì)基板進(jìn)行有效冷卻的裝置及卸載方法。
背景技術(shù)：
真空鍍膜技術(shù)是真空技術(shù)領(lǐng)域的一個(gè)重要組成部分，其主要利用物理、化學(xué)等手 段在固體基板表面形成一層特殊性能的膜層，它已廣泛的應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、半導(dǎo)體制 品、能源開(kāi)發(fā)、民用制品、表面科學(xué)等技術(shù)領(lǐng)域中，在半導(dǎo)體工業(yè)中，真空鍍膜技術(shù)一般是指 用物理方法沉積薄膜，真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍，其中，蒸發(fā)鍍 膜技術(shù)即通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體基板表面，這種方法最早由M ·法拉第于 1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一，在蒸發(fā)鍍膜過(guò)程中，蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物 等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件例如金屬、陶瓷、塑料等基板置于坩堝前 方，待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)，蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式 沉積在基板表面，薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米，膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時(shí)間，并 與蒸發(fā)源和基片的距離有關(guān)，對(duì)于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證 膜層厚度的均勻性，從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程， 以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。但鍍膜工藝完成后，基板通常具有較高的溫度，需先對(duì)基板進(jìn)行冷卻處理并卸載 后方能進(jìn)行后續(xù)工藝，對(duì)基板進(jìn)行冷卻是以防止膜層高溫暴露在環(huán)境中造成膜層損壞，或 者因工藝引起基板反常升溫而造成膜層損壞，眾所周知，熱量的傳遞方式有三種輻射、傳 導(dǎo)及對(duì)流，由于真空鍍膜過(guò)程中分子極度稀薄，通過(guò)對(duì)流帶走的熱量極少，并且由于基板與 冷卻板之間的溫差不會(huì)太大，所以輻射帶走的熱量也不多，由于輻射及對(duì)流的方式在真空 中難以達(dá)到對(duì)基板快速降溫目的，因此，目前普遍采用傳導(dǎo)方式對(duì)真空中的基板進(jìn)行降溫， 即采用冷卻板與基板直接接觸對(duì)即基板進(jìn)行降溫，但這種接觸式降溫方式容易造成基板破 損或表面劃傷，降低良品率，并且操作精度低。因此，急需一種在對(duì)基板進(jìn)行卸載的同時(shí)對(duì)其進(jìn)行冷卻、冷卻效果好且良品率高 的基板卸載裝置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種基板卸載裝置，其在對(duì)基板進(jìn)行卸載的同時(shí)能對(duì)基板 進(jìn)行有效冷卻，且良品率高。本發(fā)明的另一目的在于提供一種卸載基板的方法，該方法在實(shí)現(xiàn)對(duì)基板卸載的同 時(shí)能對(duì)基板進(jìn)行有效冷卻，且良品率高。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案為提供一種基板卸載裝置，適用于對(duì)高溫基 板進(jìn)行卸載并進(jìn)行冷卻，其包括控制系統(tǒng)、抽真空系統(tǒng)、感應(yīng)系統(tǒng)、傳輸機(jī)構(gòu)及具有腔蓋的 真空腔體，所述抽真空系統(tǒng)、感應(yīng)系統(tǒng)及傳輸機(jī)構(gòu)均與所述控制系統(tǒng)連接，所述真空腔體的前后兩端分別設(shè)置有入口及出口，所述入口與上游設(shè)備密封連接，所述出口與下游設(shè)備密 封連接，所述真空腔體上還設(shè)置有抽真空口，所述抽真空系統(tǒng)與所述真空腔體的抽真空口 密封連接，其中，所述傳輸機(jī)構(gòu)包括腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)及腔外傳輸機(jī)構(gòu)，所述腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)設(shè)置 于真空腔體內(nèi)且對(duì)接于所述入口與所述出口之間，所述腔外傳輸機(jī)構(gòu)設(shè)置于真空腔體外且 對(duì)接于所述出口處，所述腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)及腔外傳輸機(jī)構(gòu)形成所述基板卸載通道，所述感應(yīng) 系統(tǒng)包括腔內(nèi)感應(yīng)系統(tǒng)及腔外感應(yīng)系統(tǒng)，所述腔內(nèi)感應(yīng)系統(tǒng)設(shè)置于所述腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)的兩 端，所述腔外感應(yīng)系統(tǒng)設(shè)置于所述腔外傳輸機(jī)構(gòu)的兩端，且所述真空腔體及所述腔內(nèi)傳輸 機(jī)構(gòu)上均設(shè)置有冷卻水管。
較佳地，所述腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)包括電機(jī)、固定座、磁流體及若干滾輪，所述滾輪通過(guò) 所述固定座安裝于所述真空腔體內(nèi)，所述滾輪用于傳輸所述基板，所述磁流體密封安裝于 所述真空腔體上，所述電機(jī)安裝于所述真空腔體外且所述電機(jī)的輸出軸密封地穿過(guò)所述磁 流體與所述滾輪連接，所述電機(jī)帶動(dòng)所述滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)，電機(jī)穿過(guò)磁流體與滾輪連接，實(shí)現(xiàn)真空 腔體內(nèi)部良好的密封性，且電機(jī)不會(huì)污染真空腔體內(nèi)部。較佳地，所述真空腔體的入口處設(shè)置有第一閘閥，所述出口處設(shè)置有第二閘閥，所 述第一間閥及第二間閥分別對(duì)所述真空腔體的入口及處口進(jìn)行密封，且在卸載基板過(guò)程中 操作簡(jiǎn)便。較佳地，所述抽真空系統(tǒng)包括真空計(jì)、冷凝泵、前期泵及充氮?dú)鈾C(jī)構(gòu)，所述冷凝泵、 前期泵及充氮?dú)鈾C(jī)構(gòu)分別通過(guò)冷泵閥、前期泵閥、氮?dú)獬錃忾y與所述真空腔體的抽真空口 對(duì)接，所述真空計(jì)連接于所述抽真空口處，抽真空系統(tǒng)使真空腔體內(nèi)部可在短時(shí)間內(nèi)達(dá)到 高真空，且可以在高真空與標(biāo)準(zhǔn)大氣壓之間頻繁快速的切換。較佳地，所述腔內(nèi)感應(yīng)系統(tǒng)包括第一光電傳感器及第二光電傳感器，所述第一光 電傳感器及第二光電傳感器分別設(shè)置于所述腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)的前后兩端，所述腔外感應(yīng)系統(tǒng) 包括第三光電傳感器及第四光電傳感器，所述第三光電傳感器及第四光電傳感器分別設(shè)置 于所述腔外傳輸機(jī)構(gòu)的前后兩端，使基板卸載過(guò)程的操作具有高精度。較佳地，所述腔外傳輸機(jī)構(gòu)包括電機(jī)、固定座及若干滾輪，所述滾輪通過(guò)所述固定 座安裝于所述真空腔體外且與所述腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)相對(duì)應(yīng)，所述電機(jī)帶動(dòng)所述滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)，冷 卻后的基板通過(guò)腔外傳輸機(jī)構(gòu)進(jìn)行卸載，使生產(chǎn)連續(xù)，操作簡(jiǎn)便。較佳地，所述真空腔體的腔蓋上還設(shè)置有冷卻水管，用于進(jìn)一步冷卻基板。較佳地，所述真空腔體的腔蓋上還設(shè)置有傳感器，用于感應(yīng)腔蓋的關(guān)閉，便于全自 動(dòng)控制，更具體地，所述真空腔體的腔蓋上還設(shè)置有減振器，用于緩沖腔蓋開(kāi)啟同時(shí)保護(hù)密 封圈。使用本發(fā)明基板卸載裝置卸載基板的方法，包括如下步驟(1)關(guān)閉真空腔體的 第一閘閥及第二閘閥，將真空腔體內(nèi)抽真空至預(yù)設(shè)壓力條件；(2)感應(yīng)基板位置并對(duì)應(yīng)開(kāi) 啟腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)，將基板通過(guò)第一閘閥傳送至真空腔體內(nèi)；(3)腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)傳送基板的 同時(shí)對(duì)基板進(jìn)行冷卻；(4)關(guān)閉第一閘閥，向真空腔室內(nèi)充入氮?dú)?，使真空腔體內(nèi)的壓力升 高至標(biāo)準(zhǔn)大氣壓后停止充氣；(5)打開(kāi)第二間閥，將基板傳送至腔外傳輸機(jī)構(gòu)，并通過(guò)所述 腔外傳輸機(jī)構(gòu)傳送至下游設(shè)備中。較佳地，所述步驟(3)包括如下步驟(31)當(dāng)控制系統(tǒng)接收到第一光電傳感器感 應(yīng)到基板的信號(hào)時(shí)，控制腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)開(kāi)啟，所述腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)對(duì)所述基板傳送的同時(shí)并對(duì)所述基板進(jìn)行冷卻；(32)當(dāng)?shù)诙怆妭鞲衅鞲袘?yīng)到基板時(shí)，發(fā)送信號(hào)至控制系統(tǒng)，控制 系統(tǒng)控制腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)關(guān)閉，停止對(duì)所述基板的傳送。較佳地，所述步驟(5)包括如下步驟(51)當(dāng)控制系統(tǒng)接收到第三光電傳感器感 應(yīng)到基板的信號(hào)時(shí)，控制腔外傳輸機(jī)構(gòu)開(kāi)啟，通過(guò)腔外傳輸機(jī)構(gòu)傳送所述基板；(52)當(dāng)?shù)?四光電傳感器感應(yīng)到基板時(shí)，發(fā)送信號(hào)至控制系統(tǒng)，控制系統(tǒng)控制腔外傳輸機(jī)構(gòu)及腔內(nèi)傳 輸機(jī)構(gòu)停止，停止基板傳送。較佳地，所述步驟(1)具體包括如下步驟關(guān)閉第一閘閥、第二閘閥及冷泵閥，開(kāi) 啟前期泵并打開(kāi)前期泵閥進(jìn)行抽真空，當(dāng)腔室內(nèi)壓力下降到一定程度，開(kāi)啟冷凝泵并打開(kāi) 冷泵閥，將真空腔室抽真空至預(yù)設(shè)工藝條件。較佳地，所述步驟(4)具體包括如下步驟關(guān)閉冷泵閥、前期泵閥及第一閘閥，打 開(kāi)氮?dú)獬錃忾y向真空腔體內(nèi)充入氮?dú)?，?dāng)真空腔體內(nèi)的壓力升高至標(biāo)準(zhǔn)大氣壓時(shí)，停止充 入氮?dú)猓P(guān)閉氮?dú)獬錃忾y。與現(xiàn)有技術(shù)相比，由于本發(fā)明基板卸載裝置具有腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)及腔外傳輸機(jī)構(gòu)， 在腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)的兩端分別安裝有腔內(nèi)感應(yīng)系統(tǒng)，腔外傳輸機(jī)構(gòu)的兩端分別安裝有腔外感 應(yīng)系統(tǒng)，且真空腔體及腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)上均設(shè)置有冷卻水管，因此，在鍍膜生產(chǎn)線上的高溫基 板經(jīng)過(guò)腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)傳輸?shù)耐瑫r(shí)，真空腔體及腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)上的冷卻水管對(duì)基板進(jìn)行有效 冷卻，避免現(xiàn)有技術(shù)中基板與冷卻板直接接觸的方式，不易損壞基板，提高生產(chǎn)的良品率， 冷卻后的基板經(jīng)腔外傳輸機(jī)構(gòu)進(jìn)行卸載，實(shí)現(xiàn)在真空環(huán)境下對(duì)高溫基板進(jìn)行卸載的同時(shí)對(duì) 其有效冷卻，使操作精度高。


圖1是本發(fā)明基板卸載裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本發(fā)明基板卸載裝置的系統(tǒng)框圖。圖3是本發(fā)明卸載基板的方法的流程圖。圖4是圖3中步驟(S3)的子流程圖。圖5是圖3中步驟(S5)的子流程圖。
具體實(shí)施例方式現(xiàn)在參考附圖描述本發(fā)明的實(shí)施例，附圖中類似的元件標(biāo)號(hào)代表類似的元件。如圖1、圖2所示，本發(fā)明基板卸載裝置包括控制系統(tǒng)10、感應(yīng)系統(tǒng)20、傳輸機(jī)構(gòu) 30、抽真空系統(tǒng)40及具有腔蓋504的真空腔體50，感應(yīng)系統(tǒng)20、傳輸機(jī)構(gòu)30、抽真空系統(tǒng) 40均與控制 系統(tǒng)10連接，真空腔體50的腔蓋504上設(shè)置有氟橡膠密封圈，腔蓋504關(guān)閉 時(shí)實(shí)現(xiàn)真空腔體50的良好密封，真空腔體50的前后兩端分別設(shè)置有入口及出口，入口處還 設(shè)置有第一閘閥501，出口處設(shè)置有第二閘閥502，第一閘閥501及第二閘閥502分別對(duì)真 空腔體50的入口及處口進(jìn)行密封，使基板卸載過(guò)程中的操作簡(jiǎn)便，真空腔體50的入口與上 游設(shè)備密封連接，真空腔體50的出口與下游設(shè)備密封連接，真空腔體50上還設(shè)置有抽真空 口 503，用于與抽真空系統(tǒng)40密封連接；傳輸機(jī)構(gòu)30包括腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)31及腔外傳輸機(jī) 構(gòu)32，腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)31設(shè)置于真空腔體50內(nèi)且對(duì)接于所述入口與出口之間，腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu) 31包括電機(jī)(圖未示)、磁流體(圖未示)、固定座311及若干滾輪312，滾輪312通過(guò)固定座311安裝于真空腔體50內(nèi)，磁流體密封安裝于所述真空腔體上，電機(jī)安裝于所述真空腔 體50外，且所述電機(jī)的輸出軸密封地穿過(guò)所述磁流體與所述滾輪312連接，電機(jī)帶動(dòng)所述 腔體內(nèi)的滾輪312轉(zhuǎn)動(dòng)，滾輪312用于傳輸所述基板60，真空腔體50與電機(jī)之間通過(guò)磁流 體實(shí)現(xiàn)動(dòng)密封，保證真空腔體50內(nèi)部良好的密封性，且電機(jī)不會(huì)污染真空腔體50內(nèi)部；腔 外傳輸機(jī)構(gòu)32設(shè)置于真空腔體50的后端且對(duì)接于所述出口處，腔外傳輸機(jī)構(gòu)30包括電機(jī) (圖未示)、固定座321及若干滾輪322，所述滾輪322通過(guò)固定座321安裝于真空腔體50 外且與腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)31的滾輪312相對(duì)應(yīng)，電機(jī)帶動(dòng)所述腔外的滾輪322轉(zhuǎn)動(dòng)，腔內(nèi)傳輸 機(jī)構(gòu)31的滾輪312與腔外傳輸機(jī)構(gòu)32的滾輪322位于一條直線上并形成基板卸載通道； 感應(yīng)系統(tǒng)20包括腔內(nèi)感應(yīng)系統(tǒng)21及腔外感應(yīng)系統(tǒng)22，均用于準(zhǔn)確檢測(cè)基板的位置，腔內(nèi)感 應(yīng)系統(tǒng)21包括第一光電傳感器211及第二光電傳感器212，第一光電傳感器211及第二光 電傳感器212分別設(shè)置于腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)31的前后兩端，腔外感應(yīng)系統(tǒng)22包括第三光電傳 感器223及第四光電傳感器224，第三光電傳感器223及第四光電傳感器224分別設(shè)置于腔 外傳輸機(jī)構(gòu)32的前后兩端，使基板卸載過(guò)程的操作具有高精度；真空腔體50上設(shè)置有冷卻 水管(圖未示)，腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)31的固定座311上設(shè)置有冷卻水管313，冷卻水管用于冷卻 傳輸中的高溫基板；真空腔體50的腔蓋504上也設(shè)置有冷卻水管505，用于進(jìn)一步冷卻高 溫基板，且在腔蓋504上還 設(shè)置有傳感器，用于感應(yīng)腔蓋的關(guān)閉，便于全自動(dòng)控制，所述真 空腔體50的腔蓋504上還設(shè)置有減振器，用于緩沖腔蓋504的開(kāi)啟同時(shí)保護(hù)密封圈。較佳者，抽真空系統(tǒng)40包括真空計(jì)401、冷凝泵(圖未示)、前期泵(圖未示)及充 氮?dú)鈾C(jī)構(gòu)(圖未示)，所述冷凝泵、前期泵及充氮?dú)鈾C(jī)構(gòu)分別通過(guò)冷泵閥402、前期泵閥403、 氮?dú)獬錃忾y404與所述真空腔體50的抽真空口 503對(duì)接，所述真空計(jì)401連接于所述抽真 空口 503處，抽真空系統(tǒng)40使真空腔體50內(nèi)部可在短時(shí)間內(nèi)達(dá)到高真空條件，且可以在高 真空與標(biāo)準(zhǔn)大氣壓之間頻繁快速的切換。較佳者，本發(fā)明的控制系統(tǒng)為PLC控制系統(tǒng)，編程簡(jiǎn)單，程序可變，可靠性高且控 制精度高。如圖3所示，使用本發(fā)明基板卸載裝置卸載基板的方法，包括如下步驟(Si)關(guān)閉真空腔體的第一閘閥及第二閘閥，將真空腔體內(nèi)抽真空至預(yù)設(shè)壓力條 件；(S2)感應(yīng)基板位置并對(duì)應(yīng)開(kāi)啟腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)，將基板通過(guò)第一閘閥傳送至真空腔 體內(nèi)；(S3)腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)傳送基板的同時(shí)對(duì)基板進(jìn)行冷卻；(S4)關(guān)閉第一閘閥，向真空腔室內(nèi)充入氮?dú)?，使真空腔體內(nèi)的壓力升高至標(biāo)準(zhǔn)大 氣壓后停止充氣；(S5)打開(kāi)第二閘閥，將基板傳送至腔外傳輸機(jī)構(gòu)，并通過(guò)所述腔外傳輸機(jī)構(gòu)傳送 至下游設(shè)備中。如圖4所示，本發(fā)明卸載基板的方法中，所述步驟(S3)還包括如下步驟(S31)當(dāng)控制系統(tǒng)接收到第一光電傳感器感應(yīng)到基板的信號(hào)時(shí)，控制腔內(nèi)傳輸機(jī) 構(gòu)開(kāi)啟，所述腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)對(duì)所述基板傳送的同時(shí)并對(duì)所述基板進(jìn)行冷卻；(S32)當(dāng)?shù)诙怆妭鞲衅鞲袘?yīng)到基板時(shí)，發(fā)送信號(hào)至控制系統(tǒng)，控制系統(tǒng)控制腔內(nèi) 傳輸機(jī)構(gòu)關(guān)閉，停止對(duì)所述基板的傳送。
如圖5所示，本發(fā)明卸載基板的方法中，所述步驟(S5)還包括如下步驟(S51)當(dāng)控制系統(tǒng)接收到第三光電傳感器感應(yīng)到基板的信號(hào)時(shí)，控制腔外傳輸機(jī) 構(gòu)開(kāi)啟，通過(guò)腔外傳輸機(jī)構(gòu)傳送所述基板；(S52)當(dāng)?shù)谒墓怆妭鞲衅鞲袘?yīng)到基板時(shí)，發(fā)送信號(hào)至控制系統(tǒng)，控制系統(tǒng)控制腔外 傳輸機(jī)構(gòu)及腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)停止，停止基板傳送。較佳者，所述步驟(Si)具體包括如下步驟關(guān)閉第一閘閥、第二閘閥及冷泵閥，開(kāi) 啟前期泵并打開(kāi)前期泵閥進(jìn)行抽真空，當(dāng)腔室內(nèi)壓力下降到一定程度，開(kāi)啟冷凝泵并打開(kāi) 冷泵閥，將真空腔室抽真空至預(yù)設(shè)工藝條件。較佳者，所述步驟(S4)具體包括如下步驟關(guān)閉冷泵閥、前期泵閥及第一閘閥，打 開(kāi)氮?dú)獬錃忾y向真空腔體內(nèi)充入氮?dú)?，?dāng)真空腔體內(nèi)的壓力升高至標(biāo)準(zhǔn)大氣壓時(shí)，停止充 入氮?dú)?，關(guān)閉氮?dú)獬錃忾y。下面結(jié)合圖1-5，對(duì)本發(fā)明基板卸載裝置卸載并冷卻基板的過(guò)程進(jìn)行詳細(xì)描述。在 鍍膜生產(chǎn)線上的高溫成品或半成品基板60經(jīng)上游設(shè)備傳輸至本發(fā)明基板卸載裝置后，利 用本發(fā)明基板卸載裝置對(duì)其進(jìn)行卸載并進(jìn)行冷卻，首先，關(guān)閉真空腔體50的第一閘閥501 及第二閘閥502，并關(guān)閉冷泵閥402，開(kāi)啟前期泵并打開(kāi)前期泵閥403對(duì)真空腔體50內(nèi)部進(jìn) 行抽真空處理，當(dāng)真空腔室50內(nèi)的壓力下降到預(yù)設(shè)的啟動(dòng)冷凝泵的條件時(shí)，開(kāi)啟冷凝泵并 打開(kāi)冷泵閥402，將真空腔體50內(nèi)抽真空至預(yù)設(shè)工藝條件；然后，打開(kāi)第一閘閥501，從上游 設(shè)備的滾輪傳輸過(guò)來(lái)的高溫基板60通過(guò)入口進(jìn)入真空腔體50內(nèi)，當(dāng)?shù)谝还怆妭鞲衅?11 感應(yīng)到基板60時(shí)，發(fā)送信號(hào)至控制系統(tǒng)10，控制系統(tǒng)10控制腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)31的電機(jī)開(kāi)啟， 電機(jī)帶動(dòng)腔內(nèi)的滾輪312轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)而帶動(dòng)其上的高溫基板60傳輸，在傳輸?shù)倪^(guò)程中，腔內(nèi)固 定座311上的冷卻水管313及真空腔體50上的冷卻水管對(duì)高溫的基板60進(jìn)行冷卻，當(dāng)?shù)?二光電傳感器212感應(yīng)到基板60時(shí)，發(fā)送信號(hào)至控制系統(tǒng)10，控制系統(tǒng)10控制腔內(nèi)傳輸機(jī) 構(gòu)31的電機(jī)關(guān)閉，使腔內(nèi)的滾輪312停止轉(zhuǎn)動(dòng)，停止對(duì)所述基板60的傳送；接著，關(guān)閉第一 閘閥501、冷泵閥402、前期泵閥403，打開(kāi)氮?dú)獬錃忾y404向真空腔室50內(nèi)充入氮?dú)?，使?空腔體50內(nèi)的壓力升高至標(biāo)準(zhǔn)大氣壓后停止充氣；當(dāng)真空計(jì)401的壓力為一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓 時(shí)，打開(kāi)第二閘閥502，控制系統(tǒng)10控制腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)31的電機(jī)啟動(dòng)，帶動(dòng)滾輪312轉(zhuǎn)動(dòng)將 其上的基板60從真空腔體50的出口傳送出來(lái)，第三光電傳感器223將感應(yīng)到基板60的信 號(hào)并發(fā)送至控制系統(tǒng)10，控制系統(tǒng)10控制腔外傳輸機(jī)構(gòu)32的電機(jī)開(kāi)啟，電機(jī)帶動(dòng)腔外的滾 輪322轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)而傳輸其上的基板，當(dāng)?shù)谒墓怆妭鞲衅?24感應(yīng)到基板時(shí)，發(fā)送信號(hào)至控制系 統(tǒng)10，控制系統(tǒng)10控制腔外傳輸機(jī)構(gòu)32的電機(jī)及腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)31的電機(jī)停止轉(zhuǎn)動(dòng)，停止 基板60傳送，完成基板60的卸載，基板60在被卸載的過(guò)程中被冷卻，等待進(jìn)入下游設(shè)備進(jìn) 行后續(xù)工藝。由于本發(fā)明基板卸載裝置具 有腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)31及腔外傳輸機(jī)構(gòu)32，腔內(nèi)傳輸機(jī) 構(gòu)31的兩端設(shè)置有腔內(nèi)感應(yīng)系統(tǒng)21，腔外傳輸機(jī)構(gòu)32的兩端設(shè)置有腔外感應(yīng)系統(tǒng)22，且 真空腔體50及腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)31上均設(shè)置有冷卻水管，因此，在鍍膜生產(chǎn)線上的高溫基板經(jīng) 過(guò)腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)31傳輸?shù)耐瑫r(shí)，真空腔體50及腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)31上的冷卻水管對(duì)基板進(jìn)行 有效冷卻，且避免現(xiàn)有技術(shù)中基板與冷卻板直接接觸的方式，不易損壞基板，提高生產(chǎn)的良 品率，冷卻后的基板經(jīng)腔外傳輸機(jī)構(gòu)32進(jìn)行卸載，實(shí)現(xiàn)在真空環(huán)境下對(duì)高溫基板進(jìn)行卸載 的同時(shí)對(duì)其有效冷卻，使操作簡(jiǎn)化且精度高。
本發(fā)明基板卸載裝置并不限于在鍍膜工藝中對(duì)高溫基板進(jìn)行卸載及冷卻，還可根 據(jù)實(shí)際需要，用于其他真空環(huán)境中具有高溫的成品或半成品的物件的卸載及冷卻，且本發(fā) 明基板卸載裝置的傳輸機(jī)構(gòu)30的安裝方式及原理等均為本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所熟知，在 此不再做詳細(xì)的說(shuō)明。
以上所揭露的僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，當(dāng)然不能以此來(lái)限定本發(fā)明之權(quán)利 范圍，因此依本發(fā)明申請(qǐng)專利范圍所作的等同變化，仍屬本發(fā)明所涵蓋的范圍。
權(quán)利要求
一種基板卸載裝置，適用于對(duì)高溫基板進(jìn)行卸載并進(jìn)行冷卻，其包括控制系統(tǒng)、抽真空系統(tǒng)、感應(yīng)系統(tǒng)、傳輸機(jī)構(gòu)及具有腔蓋的真空腔體，所述抽真空系統(tǒng)、感應(yīng)系統(tǒng)及傳輸機(jī)構(gòu)均與所述控制系統(tǒng)連接，所述真空腔體的前后兩端分別設(shè)置有入口及出口，所述入口與上游設(shè)備密封連接，所述出口與下游設(shè)備密封連接，所述真空腔體上還設(shè)置有抽真空口，所述抽真空系統(tǒng)與所述真空腔體的抽真空口密封連接，其特征在于所述傳輸機(jī)構(gòu)包括腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)及腔外傳輸機(jī)構(gòu)，所述腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)設(shè)置于真空腔體內(nèi)且對(duì)接于所述入口與所述出口之間，所述腔外傳輸機(jī)構(gòu)設(shè)置于真空腔體外且對(duì)接于所述出口處，所述腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)及腔外傳輸機(jī)構(gòu)形成所述基板卸載通道，所述感應(yīng)系統(tǒng)包括腔內(nèi)感應(yīng)系統(tǒng)及腔外感應(yīng)系統(tǒng)，所述腔內(nèi)感應(yīng)系統(tǒng)設(shè)置于所述腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)的兩端，所述腔外感應(yīng)系統(tǒng)設(shè)置于所述腔外傳輸機(jī)構(gòu)的兩端，且所述真空腔體及所述腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)上均設(shè)置有冷卻水管。
2.如權(quán)利要求1所述的基板卸載裝置，其特征在于所述腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)包括電機(jī)、固定 座、磁流體及若干滾輪，所述滾輪通過(guò)所述固定座安裝于所述真空腔體內(nèi)，所述滾輪用于傳 輸所述基板，所述磁流體密封安裝于所述真空腔體上，所述電機(jī)安裝于所述真空腔體外且 所述電機(jī)的輸出軸密封地穿過(guò)所述磁流體與所述滾輪連接，所述電機(jī)帶動(dòng)所述滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)。
3.如權(quán)利要求1所述的基板卸載裝置，其特征在于所述真空腔體的入口處設(shè)置有第 一閘閥，所述出口處設(shè)置有第二閘閥，所述第一閘閥及第二閘閥分別對(duì)所述真空腔體的入 口及處口進(jìn)行密封。
4.如權(quán)利要求3所述的基板卸載裝置，其特征在于所述抽真空系統(tǒng)包括真空計(jì)、冷凝 泵、前期泵及充氮?dú)鈾C(jī)構(gòu)，所述冷凝泵、前期泵及充氮?dú)鈾C(jī)構(gòu)分別通過(guò)冷泵閥、前期泵閥、氮 氣充氣閥與所述真空腔體的抽真空口對(duì)接，所述真空計(jì)連接于所述抽真空口處。
5.如權(quán)利要求4所述的基板卸載裝置，其特征在于所述腔內(nèi)感應(yīng)系統(tǒng)包括第一光電 傳感器及第二光電傳感器，所述第一光電傳感器及第二光電傳感器分別設(shè)置于所述腔內(nèi)傳 輸機(jī)構(gòu)的前后兩端，所述腔外感應(yīng)系統(tǒng)包括第三光電傳感器及第四光電傳感器，所述第三 光電傳感器及第四光電傳感器分別設(shè)置于所述腔外傳輸機(jī)構(gòu)的前后兩端。
6.如權(quán)利要求1所述的基板卸載裝置，其特征在于所述腔外傳輸機(jī)構(gòu)包括電機(jī)、固定 座及若干滾輪，所述滾輪通過(guò)所述固定座安裝于所述真空腔體外且與所述腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)相 對(duì)應(yīng)，所述電機(jī)帶動(dòng)所述滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)。
7.如權(quán)利要求1所述的基板卸載裝置，其特征在于所述真空腔體的腔蓋上還設(shè)置有 冷卻水管。
8.如權(quán)利要求7所述的基板卸載裝置，其特征在于所述真空腔體的腔蓋上還設(shè)置有 傳感器，用于感應(yīng)腔蓋的關(guān)閉。
9.如權(quán)利要求8所述的基板卸載裝置，其特征在于所述真空腔體的腔蓋上還設(shè)置有 減振器。
10.使用權(quán)利要求5所述的基板卸載裝置卸載基板的方法，其特征在于，包括如下步驟(1)關(guān)閉真空腔體的第一閘閥及第二閘閥，將真空腔體內(nèi)抽真空至預(yù)設(shè)壓力條件；(2)感應(yīng)基板位置并對(duì)應(yīng)開(kāi)啟腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)，將基板通過(guò)第一閘閥傳送至真空腔體內(nèi)；(3)腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)傳送基板的同時(shí)對(duì)基板進(jìn)行冷卻；(4)關(guān)閉第一閘閥，向真空腔室內(nèi)充入氮?dú)?，使真空腔體內(nèi)的壓力升高至標(biāo)準(zhǔn)大氣壓后 停止充氣；(5)打開(kāi)第二閘閥，將基板傳送至腔外傳輸機(jī)構(gòu)，并通過(guò)所述腔外傳輸機(jī)構(gòu)傳送至下游 設(shè)備中。
11.如權(quán)利要求10所述的卸載基板的方法，其特征在于，所述步驟(3)包括如下步驟(31)當(dāng)控制系統(tǒng)接收到第一光電傳感器感應(yīng)到基板的信號(hào)時(shí)，控制腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)開(kāi)啟，所述腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)對(duì)所述基板傳送的同時(shí)并對(duì)所述基板進(jìn)行冷卻；(32)當(dāng)?shù)诙怆妭鞲衅鞲袘?yīng)到基板時(shí)，發(fā)送信號(hào)至控制系統(tǒng)，控制系統(tǒng)控制腔內(nèi)傳輸 機(jī)構(gòu)關(guān)閉，停止對(duì)所述基板的傳送。
12.如權(quán)利要求10所述的卸載基板的方法，其特征在于，所述步驟(5)包括如下步驟(51)當(dāng)控制系統(tǒng)接收到第三光電傳感器感應(yīng)到基板的信號(hào)時(shí)，控制腔外傳輸機(jī)構(gòu)開(kāi) 啟，通過(guò)腔外傳輸機(jī)構(gòu)傳送所述基板；(52)當(dāng)?shù)谒墓怆妭鞲衅鞲袘?yīng)到基板時(shí)，發(fā)送信號(hào)至控制系統(tǒng)，控制系統(tǒng)控制腔外傳輸 機(jī)構(gòu)及腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)停止，停止基板傳送。
13.如權(quán)利要求10所述的卸載基板的方法，其特征在于，所述步驟(1)具體包括如下步驟關(guān)閉第一閘閥、第二閘閥及冷泵閥，開(kāi)啟前期泵并打開(kāi)前期泵閥進(jìn)行抽真空，當(dāng)腔室內(nèi) 壓力下降到一定程度，開(kāi)啟冷凝泵并打開(kāi)冷泵閥，將真空腔室抽真空至預(yù)設(shè)工藝條件。
14.如權(quán)利要求10所述的卸載基板的方法，其特征在于，所述步驟(4)具體包括如下步驟關(guān)閉冷泵閥、前期泵閥及第一閘閥，打開(kāi)氮?dú)獬錃忾y向真空腔體內(nèi)充入氮?dú)猓?dāng)真空腔 體內(nèi)的壓力升高至標(biāo)準(zhǔn)大氣壓時(shí)，停止充入氮?dú)猓P(guān)閉氮?dú)獬錃忾y。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種基板卸載裝置，其具有腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)及腔外傳輸機(jī)構(gòu)，在腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)的兩端分別安裝有腔內(nèi)感應(yīng)系統(tǒng)，腔外傳輸機(jī)構(gòu)的兩端分別安裝有腔外感應(yīng)系統(tǒng)，且真空腔體及腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)上均設(shè)置有冷卻水管，因此，在鍍膜生產(chǎn)線上的高溫基板經(jīng)過(guò)腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)傳輸?shù)耐瑫r(shí)，真空腔體及腔內(nèi)傳輸機(jī)構(gòu)上的冷卻水管對(duì)基板進(jìn)行有效冷卻，避免現(xiàn)有技術(shù)中基板與冷卻板直接接觸的方式，不易損壞基板，提高生產(chǎn)的良品率，冷卻后的基板經(jīng)腔外傳輸機(jī)構(gòu)進(jìn)行卸載，實(shí)現(xiàn)在真空環(huán)境下對(duì)高溫基板進(jìn)行卸載的同時(shí)對(duì)其有效冷卻，使操作精度高。另，本發(fā)明還公開(kāi)了使用基板卸載裝置卸載基板的方法。
文檔編號(hào)C23C14/58GK101988191SQ201010568448
公開(kāi)日2011年3月23日 申請(qǐng)日期2010年12月1日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月1日
發(fā)明者劉惠森, 楊明生, 王勇, 王曼媛, 范繼良, 郭業(yè)祥 申請(qǐng)人:東莞宏威數(shù)碼機(jī)械有限公司