專利名稱：全程方向漸變型恒速平面研磨機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及約束平面研磨機(jī)運(yùn)動軌跡的滑動裝置。
背景技術(shù)：
當(dāng)前平面研磨機(jī)從運(yùn)動方式來看，基本上分為兩大類一類是隔離盤作偏心運(yùn)動，另一類是隔離盤作行星運(yùn)動。作偏心運(yùn)動的平面研磨機(jī)的研磨行程及速度的均一性較差，其研磨質(zhì)量和研磨效率都不如行星運(yùn)動平面研磨機(jī)好，而作內(nèi)擺線軌跡的行星運(yùn)動研磨機(jī)因軌跡連續(xù)大角度回折，運(yùn)動不平衡，工件平面平行度不易保證，通過復(fù)合運(yùn)動形成外擺線運(yùn)動軌跡的行星運(yùn)動平面研磨機(jī)，其研磨行程同一生較好，運(yùn)動平穩(wěn)，工件能較好地走遍整個研磨盤的工作表面，但其主要缺點(diǎn)是內(nèi)、外銷子盤上的幾十個銷軸以及與之嚙合的行星盤牙齒容易磨損，需經(jīng)常維修更換銷軸和行星盤。上述幾種平面研磨機(jī)均不能嚴(yán)格地保證工件表面上各點(diǎn)的研磨運(yùn)動速度絕對相等，也不能保證表面研磨過程中運(yùn)動速度恒定不變。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是研制一種全程方向漸變型恒速平面研磨機(jī)，它應(yīng)具有工件平面相對于研磨盤的運(yùn)動速度大小恒定，而方向沿圓周軌跡的切線方向循序漸變，工件相對研具平面作平行運(yùn)動，保證工件表面上各點(diǎn)相對于研磨盤的滑動路程相等(即研磨行程的同一性)，保證工件上各點(diǎn)磨去的余量相同，以保證被研磨工件平面的平面度和平行度，同時可使研磨盤上各點(diǎn)的磨損量相同，使研磨盤的幾何形狀精度保持長期不變，延長研磨盤工作面使用壽命的特點(diǎn)。本實(shí)用新型包含上研磨盤1、下研磨盤2、隔離盤3、偏心軸4、曲柄5、研磨盤托架6、主軸7，它還包含隔離盤滑桿8、左滑桿9、右滑桿10、滑塊12、滑塊11；下研磨盤2固定在研磨盤托架6上，隔離盤3設(shè)置在下研磨盤2的上面，上研磨盤1設(shè)置在隔離盤3的上面，隔離盤3可夾持工件在上研磨盤1和下研磨盤2之間活動，主軸7設(shè)置在研磨盤托架6的中心孔內(nèi)，主軸7的上端與曲柄5的左端固定連接，偏心軸4的下端與曲柄5的右端固定連接，偏心軸4的上端與隔離盤3的下端活動連接，隔離盤滑桿8設(shè)置在隔離盤3內(nèi)的水平通孔內(nèi)并與其滑動連接，隔離盤滑桿8的左端固定在左滑桿9的中部，隔離盤滑桿8的右端固定在右滑桿10的中部，隔離盤滑桿8、左滑桿9和右滑桿10都處在一個水平面上，左滑桿9的兩端分別設(shè)置在同側(cè)的兩個滑塊11的通孔11-1內(nèi)并與其滑動連接，右滑桿10的兩端分別設(shè)置在同側(cè)的兩個滑塊12的通孔12-1內(nèi)并與其滑動連接，兩個滑塊11、滑塊12分別固定在機(jī)架上。本實(shí)用新型為單偏心結(jié)構(gòu)，它不僅比行星運(yùn)動研磨機(jī)結(jié)構(gòu)簡單，而且比行星運(yùn)動研磨機(jī)能更好地滿足研磨過程對運(yùn)動及運(yùn)動軌跡的技術(shù)要求。本實(shí)用新型具有研磨工件表面各點(diǎn)的運(yùn)動軌跡為大小相等的圓周，滿足研磨軌跡的同一性要求；工件平面上各點(diǎn)相對于研磨盤的運(yùn)動速度大小相等并且恒定不變，運(yùn)動穩(wěn)定性好，工件研磨方向沿圓周軌跡的切線方向循序漸變，可避免磨具在工件平面上產(chǎn)生重復(fù)軌跡，形成有紋研磨，易于獲得各向同性的高精研磨表面，并有利于提高研磨效率。工件研磨方向沿各向循環(huán)改變，可以減低工藝系統(tǒng)振動的影響以及降低對研磨盤表面粗糙度的要求。從而降低對設(shè)備制造精度的要求，而磨具粗糙度的提高還有助于研磨劑的存留，研具的磨損均勻，易于保證被研磨工件平面的平面度和平行度，并可延長研磨盤工作面的使用壽命的優(yōu)點(diǎn)。本實(shí)用新型還具有操作方便，研磨機(jī)各零部件不易磨損，使用耐久、可靠，研磨效率高、質(zhì)量穩(wěn)定的優(yōu)點(diǎn)。


圖1是本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖，圖2是本實(shí)用新型的俯視圖，圖3是具體實(shí)施方式
二的整體結(jié)構(gòu)示意圖，圖4是具體實(shí)施方式
二的俯視圖。
具體實(shí)施方式
一本實(shí)施方式由上研磨盤1、下研磨盤2、隔離盤3、偏心軸4、曲柄5、研磨盤托架6、主軸7、隔離盤滑桿8、左滑桿9、右滑桿10、滑塊11、滑塊12組成；下研磨盤2固定在研磨盤托架6上，隔離盤3設(shè)置在下研磨盤2的上面，上研磨盤1設(shè)置在隔離盤3的上面，隔離盤3可夾持工件在上研磨盤1和下研磨盤2之間活動，主軸7設(shè)置在研磨盤托架6的中心孔內(nèi)，主軸7的上端與曲柄5的左端固定連接，偏心軸4的下端與曲柄5的右端固定連接，偏心軸4的上端與隔離盤3的下端活動連接，隔離盤滑桿8設(shè)置在隔離盤3內(nèi)的水平通孔內(nèi)并與其滑動連接，隔離盤滑桿8的左端固定在左滑桿9的中部，隔離盤滑桿8的右端固定在右滑桿10的中部，隔離盤滑桿8、左滑桿9和右滑桿10都處在一個水平面上，左滑桿9的兩端分別設(shè)置在同側(cè)的兩個滑塊11的通孔11-1內(nèi)并與其滑動連接，右滑桿10的兩端分別設(shè)置在同側(cè)的兩個滑塊12的通孔12-1內(nèi)并與其滑動連接，兩個滑塊11、滑塊12分別固定在機(jī)架上。
具體實(shí)施方式
二本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式
一的不同點(diǎn)在于，左滑桿9和右滑桿10上各設(shè)有一個可在其上滑動的滑塊11、滑塊12，隔離盤滑桿8固定在隔離盤3上，滑塊11、滑塊12內(nèi)的通孔11-1和通孔12-1的下面與通孔11-1、通孔12-1垂直地開有下通孔11-2、12-2，隔離盤滑桿8的左端設(shè)置在滑塊11的下通孔11-2內(nèi)并與其滑動連接，隔離盤滑桿8的右端設(shè)置在滑塊12的下通孔12-2內(nèi)并與其滑動連接，左滑桿9和右滑桿10的兩端分別固定在機(jī)架上。其它組成和連接關(guān)系與具體實(shí)施方式
一相同。
工作原理本實(shí)用新型的上研磨盤1和下研磨盤2固定不動，隔離盤3由曲柄5通過偏心軸4帶動并在隔離盤滑桿8、左滑桿9、右滑桿10的聯(lián)合限制下作平動，其中與隔離盤3構(gòu)成滑動副的隔離盤滑桿8和左滑桿9、右滑桿10在隔離盤平面上垂直固連，而左滑桿9、右滑桿10與機(jī)架構(gòu)成滑動副。工件放置在隔離盤3中，并隨隔離盤3一起作平動。
具體實(shí)施方式
二中，隔離盤滑桿8與兩端的滑塊11、滑塊12構(gòu)成滑動副，而滑塊11、滑塊12僅可在隔離盤滑桿8相垂直的左滑桿9、右滑桿10上滑動，固定工件的隔離盤3由曲柄5在偏心軸4的帶動下經(jīng)上述兩對導(dǎo)路相互垂直的滑動副的限制下一起作平動。從前述方案中可以看出，隔離盤(連同工件)固定不動，若對上下研磨盤采用具體實(shí)施方式
一或具體實(shí)施方式
二中對隔離盤相同的驅(qū)動及限制結(jié)構(gòu)，則可以起到對工件同樣的研磨效果。
權(quán)利要求1.全程方向漸變型恒速平面研磨機(jī)，它包含上研磨盤(1)、下研磨盤(2)、隔離盤(3)、偏心軸(4)、曲柄(5)、研磨盤托架(6)、主軸(7)，其特征在于它還包含隔離盤滑桿(8)、左滑桿(9)、右滑桿(10)、滑塊(12)、滑塊(11)；下研磨盤(2)固定在研磨盤托架(6)上，隔離盤(3)設(shè)置在下研磨盤(2)的上面，上研磨盤(1)設(shè)置在隔離盤(3)的上面，隔離盤(3)可夾持工件在上研磨盤(1)和下研磨盤(2)之間活動，主軸(7)設(shè)置在研磨盤托架(6)的中心孔內(nèi)，主軸(7)的上端與曲柄(5)的左端固定連接，偏心軸(4)的下端與曲柄(5)的右端固定連接，偏心軸(4)的上端與隔離盤(3)的下端活動連接，隔離盤滑桿(8)設(shè)置在隔離盤(3)內(nèi)的水平通孔內(nèi)并與其滑動連接，隔離盤滑桿(8)的左端固定在左滑桿(9)的中部，隔離盤滑桿(8)的右端固定在右滑桿(10)的中部，隔離盤滑桿(8)、左滑桿(9)和右滑桿(10)都處在一個水平面上，左滑桿(9)的兩端分別設(shè)置在同側(cè)的兩個滑塊(11)的通孔(11-1)內(nèi)并與其滑動連接，右滑桿(10)的兩端分別設(shè)置在同側(cè)的兩個滑塊(12)的通孔(12-1)內(nèi)并與其滑動連接，兩個滑塊(11)、滑塊(12)分別固定在機(jī)架上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全程方向漸變型恒速平面研磨機(jī)，其特征在于左滑桿(9)和右滑桿(10)上各設(shè)有一個可在其上滑動的滑塊(11)、滑塊(12)，隔離盤滑桿(8)固定在隔離盤(3)上，滑塊(11)、滑塊(12)內(nèi)的通孔(11-1)和通孔(12-1)的下面與通孔(11-1)、通孔(12-1)垂直地開有下通孔(11-2)、(12-2)，隔離盤滑桿(8)的左端設(shè)置在滑塊(11)的下通孔(11-2)內(nèi)并與其滑動連接，隔離盤滑桿(8)的右端設(shè)置在滑塊(12)的下通孔(12-2)內(nèi)并與其滑動連接，左滑桿(9)和右滑桿(10)的兩端分別固定在機(jī)架上。
專利摘要全程方向漸變型恒速平面研磨機(jī)，它涉及約束平面研磨機(jī)運(yùn)動軌跡的滑動裝置。作偏心運(yùn)動的平面研磨機(jī)的研磨行程及速度的均一性較差，作內(nèi)擺線軌跡的行星運(yùn)動研磨機(jī)因軌跡連續(xù)大角度回折，運(yùn)動不平衡，工件平面平行度不易保證。本實(shí)用新型的隔離盤滑桿(8)設(shè)置在隔離盤(3)內(nèi)的水平通孔內(nèi)，隔離盤滑桿(8)的左端固定在左滑桿(9)的中部，隔離盤滑桿(8)的右端固定在右滑桿(10)的中部，隔離盤滑桿(8)、左滑桿(9)和右滑桿(10)都處在一個水平面上。本實(shí)用新型的研磨工件表面各點(diǎn)的運(yùn)動軌跡為大小相等的圓周，滿足研磨軌跡的同一性要求；研磨方向循序漸變，可獲得各項同性的研磨表面，工件平面上各點(diǎn)相對于研磨盤的運(yùn)動速度大小相等并且恒定不變，運(yùn)動穩(wěn)定性好。
文檔編號B24B37/07GK2592339SQ0320029
公開日2003年12月17日 申請日期2003年1月9日 優(yōu)先權(quán)日2003年1月9日
發(fā)明者翟文杰, 王闖 申請人:哈爾濱工業(yè)大學(xué)