專利名稱：電暈處理設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明系提供一種電暈處理設(shè)備，具體而言，本發(fā)明設(shè)備是指一種具有高壓電路系統(tǒng)、中點(diǎn)接地、絕緣室、正電極板與負(fù)電極板的電暈處理設(shè)備。
背景技術(shù)：
一般低壓電漿表面處理都是采用高頻電漿電力發(fā)射系統(tǒng)(例如就像無線電頻RF)，如圖1所示，包含了一組電極電源10、一待清理件14，以及另一組用于發(fā)射無線電頻RF的電源11、發(fā)射盒12及交流電發(fā)電機(jī)13；由電極電源10產(chǎn)生的電漿電子，會利用氣體分子將待清理件14上的金屬原子濺射出來，當(dāng)這些金屬原子行經(jīng)濺鍍室中的氣體時(shí)，則這些金屬原子便再與氣體產(chǎn)生大量碰撞，產(chǎn)生表面原子撞擊、清理的效果；若在此同時(shí)，另外施與交流電發(fā)電機(jī)13的無線電頻RF的震蕩，則無線電頻RF散發(fā)出獨(dú)特的規(guī)律電子沖撞及震蕩光熱會加速這些金屬與氣體及電子間的碰撞，致使電子很容易與氣體分子碰撞而將能量轉(zhuǎn)移；上述符合常用的低壓電漿表面處理會降低電漿處理的電源的需求量(操作時(shí)間縮短、溫度降低)，并且防止過度加熱，此種高頻電漿電力發(fā)射系統(tǒng)是現(xiàn)今常見低壓電漿表面處理方法之一，但是，其處理作業(yè)仍會產(chǎn)生下列問題其一，常用無線電頻RF會有高成本的問題，由于無線電頻RF的高頻震動會使作業(yè)環(huán)境的溫度過高，故習(xí)用設(shè)備中必須安裝高成本的降溫設(shè)備；其二，同樣因?yàn)闊o線電頻RF易產(chǎn)生高溫的問題，作業(yè)環(huán)境高溫會使待清理件14表面原子結(jié)成失敗，而且，由于電漿電子分散并不均勻，該待清理件14表面處理的效果增益也十分有限；其三，習(xí)用無線電頻RF在發(fā)射時(shí)又會產(chǎn)生電磁波，而電磁波則會干擾周側(cè)的電子設(shè)備，使器材不準(zhǔn)確、控制不易精確。
因此，如何開發(fā)出一種具有更佳表面處理效果、不會產(chǎn)生過多缺陷的表面電暈處理設(shè)備，早已變成研發(fā)者與制造商最想克服的幾個(gè)問題，而上述內(nèi)容中所呈現(xiàn)的問題也是本發(fā)明的發(fā)明人研發(fā)的動機(jī)。
針對以上缺陷，在求理想、實(shí)用與進(jìn)步之今日，誠為一極待努力追求改善之目標(biāo)；有鑒于斯，本案發(fā)明人乃經(jīng)詳思細(xì)索，并積多年從事各種電漿機(jī)構(gòu)與相關(guān)電漿處理技術(shù)的販?zhǔn)?、研究與開發(fā)之經(jīng)驗(yàn)，終而得以開發(fā)出一種電暈處理設(shè)備，其不但有益于表面處理作業(yè)，也能取代結(jié)成容易失敗、會產(chǎn)生高溫及電磁波的無線電頻電漿設(shè)備。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的第一目的，在于提供一種電暈處理設(shè)備，其利用二個(gè)電極板之間產(chǎn)生穩(wěn)定的擴(kuò)散電暈放電進(jìn)行表面清潔，不但稠密的絲狀電弧會有效撞擊清理表面，且電暈發(fā)射的光線也能提升表面處理時(shí)的結(jié)成力量(穩(wěn)定處理表面的分子及沖擊之中的電子)，加上本發(fā)明不會產(chǎn)生高頻震蕩及電磁波，故本發(fā)明會改善以往電漿表面處理設(shè)備成本過高、表面處理效果有限的問題。
本發(fā)明的第二目的，在于提供一種有效產(chǎn)生電暈放電的電暈處理設(shè)備，本發(fā)明將一個(gè)高壓電路系統(tǒng)設(shè)置在電源與正電極板之間，而該高壓電路系統(tǒng)運(yùn)用中點(diǎn)接地另設(shè)置一負(fù)電極板，運(yùn)用正電極板與負(fù)電極板之間的稠密絲狀電弧(跳動電子)產(chǎn)生較大范圍的電暈放電，藉此，本發(fā)明能在塑料表面能產(chǎn)生有利表面的一致、低溫電漿，無需進(jìn)行額外加熱。
本發(fā)明的第三目的，在于提供一種電暈處理設(shè)備，其利用正電極板與負(fù)電極板之間的稠密絲狀電弧產(chǎn)生電暈，由于電暈操作放電的氣體溫度接近于室溫(屬于冷電漿形式)，故本發(fā)明十分節(jié)省能源與設(shè)備成本，無需將能量用提升氣體溫度之上。
本發(fā)明的第四目的，在于提供一種電暈處理設(shè)備，本發(fā)明的電暈放電(具有光線的稠密絲狀電弧)不會產(chǎn)生高頻震動、高溫及電磁波，故本發(fā)明的設(shè)備成本能夠大幅降低，且不會受到電磁波干擾。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下一種電暈處理設(shè)備，包括有一電源，系提供充足的電力；一高壓電路系統(tǒng)，與該電源相連接，且會將電力提高至預(yù)設(shè)正電壓，另在高壓電路系統(tǒng)內(nèi)裝設(shè)有中點(diǎn)接地，利用該中點(diǎn)接地產(chǎn)生預(yù)設(shè)的負(fù)電壓；一正電極板，與該高壓電路系統(tǒng)相連接，且會將導(dǎo)引該高壓電路系統(tǒng)上的預(yù)設(shè)正電壓；一負(fù)電極板，與該高壓電路系統(tǒng)相連接，且會將導(dǎo)引該高壓電路系統(tǒng)上的預(yù)設(shè)負(fù)電壓；一處理室，采絕緣材質(zhì)制成，且提供一低壓密閉空間，在該低壓密閉空間內(nèi)注入預(yù)設(shè)氣體，且處理室會將該正電極板與負(fù)電極板密封于內(nèi)；一待清理物，置放在該正電極板與負(fù)電極板間；藉此，該正電極板與負(fù)電極板間會產(chǎn)生電暈放電，并對待清理物表面進(jìn)行清理。
上述該處理室于低壓密閉空間內(nèi)注入氧氣。
使用本發(fā)明的有益效果在于在二個(gè)電極板之間產(chǎn)生穩(wěn)定的擴(kuò)散電暈放電，利用電暈放電可以增進(jìn)表面處理效果與表面一致性；正電極板與負(fù)電極板讓待清理物表面承受擴(kuò)散的電暈放電(大量絲狀電弧與發(fā)光現(xiàn)象)，電子撞擊會產(chǎn)生一般性的表面清理，而大量絲狀電暈則會增益表面清理的效果。


圖1為常用的處理裝置示意簡圖。
圖2為本發(fā)明的電暈表面處理裝置示意簡圖。
圖3為本發(fā)明的電暈放電示意圖。
電極電源(10)電源(11)發(fā)射盒(12) 交流電發(fā)電機(jī)(13)待清理件(14)無線電頻(RF)電源(20)高壓電路系統(tǒng)(21)中點(diǎn)接地(211) 正電極板(22)負(fù)電極板(23)處理室(24)空間(241) 待清理物(25)電暈放電(26)具體實(shí)施方式
有關(guān)本發(fā)明為達(dá)成上述目的、所采用的技術(shù)，手段及其它功效，下面列舉一較佳可實(shí)施例并配合圖式詳細(xì)說明如后，相信本發(fā)明的目的、特征及其它優(yōu)點(diǎn)，當(dāng)可由之得一深入而具體的了解；首先，如圖2所示，為本發(fā)明簡圖，本發(fā)明包括有一個(gè)電源20、一高壓電路系統(tǒng)21、一正電極板22、一負(fù)電極板23及一處理室24，其中該電源20，提供充足的電力；該高壓電路系統(tǒng)21，與該電源20相連接，且會將電力提高至預(yù)設(shè)正電壓，另在高壓電路系統(tǒng)21內(nèi)裝設(shè)有中點(diǎn)接地211，利用該中點(diǎn)接地211產(chǎn)生預(yù)設(shè)的負(fù)電壓；該正電極板22，與該高壓電路系統(tǒng)21相連接，且會將導(dǎo)引該高壓電路系統(tǒng)21上的預(yù)設(shè)正電壓；該負(fù)電極板23，與該高壓電路系統(tǒng)21相連接，且會將導(dǎo)引該高壓電路系統(tǒng)21上的預(yù)設(shè)負(fù)電壓；該處理室24，采絕緣材質(zhì)制成，且提供一低壓密閉空間241，在該低壓密閉空間241內(nèi)注入氧氣，且處理室24會將該正電極板22與負(fù)電極板23密封于內(nèi)；一待清理物25，置放在該正電極板22與負(fù)電極板23之間；藉由上述結(jié)構(gòu)特征與其相互關(guān)系位置的巧妙安排，本發(fā)明會讓待清理物25受到擴(kuò)散的電暈放電處理，藉由稠密絲狀電弧、電暈增進(jìn)表面清理效果，也由于本發(fā)明的氣體溫度接近于室溫(屬于冷電漿形式)，讓本發(fā)明設(shè)備成本降低。
其次，再將本發(fā)明的動作原理配合圖式詳細(xì)說明如后，期使貴審查委員對本發(fā)明的構(gòu)造、特征及其它優(yōu)點(diǎn)能有更進(jìn)一步體會與認(rèn)識，為便于說明與彰顯本發(fā)明確較傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)為進(jìn)步與實(shí)用的優(yōu)點(diǎn)；如圖3所示，本發(fā)明的電源20會將電力送入該高壓電路系統(tǒng)21內(nèi)，而該高壓電路系統(tǒng)21會將電壓提升至正7500伏特(預(yù)設(shè)的可行數(shù)據(jù))，并將正7500伏特電力傳送給該正電極板22，此時(shí)，該中點(diǎn)接地211會配合高壓電路系統(tǒng)21產(chǎn)生負(fù)7500伏特(預(yù)設(shè)的可行數(shù)據(jù))電壓，并將負(fù)7500伏特電力傳送給負(fù)電極板23，使正電極板22與負(fù)電極板23之間產(chǎn)生稠密絲狀電弧(跳動電子)；另一方面，由于該處理室24采絕緣材質(zhì)，且在該低壓密閉空間241內(nèi)充滿氧氣，故稠密絲狀電弧會內(nèi)的電子會撞擊氧分子，使氧分子因電子撞擊而形成不穩(wěn)定的高能階狀態(tài)，但氧分子隨即會馬上回到低能階的位置(氧分子也呈跳動)，而在氧分子從高能階狀態(tài)返回低能階的同時(shí)，會釋放出相當(dāng)能量的光子(Photon)，也產(chǎn)生出電暈光，此時(shí)，該稠密絲狀電弧會與電暈光結(jié)合成擴(kuò)散狀的電暈放電26(光波、電弧混合體)，且會保持在該正電極板22與負(fù)電極板23之間，并不斷撞擊、照射待清理物25表面，故電暈放電26可以造成待清理件23表面受到清理，達(dá)成本發(fā)明的清理效果。
值得一提的是，電暈放電26內(nèi)的電暈光不但會有效輔助清理待清理物25(降低絲狀電弧的電壓需求)，且電暈光會增進(jìn)氧分子的一致性；另外，由于操作電暈放電26的氣體(氧氣)溫度接近于室溫(屬于冷電漿形式)，故本發(fā)明設(shè)備成本明顯降低。
值得一提的是，本發(fā)明能夠在低壓密閉空間241內(nèi)增強(qiáng)清理效果，其運(yùn)作在低頻率、較無電磁波的環(huán)境下，故本發(fā)明不會導(dǎo)致電子阻礙，能在在待清理物25表面產(chǎn)生充份的電暈放電26，無需過量的電子阻抗配合及過度的加熱。
綜上所述，本發(fā)明將一個(gè)高壓電路系統(tǒng)設(shè)置在電源與正電極板之間，而該高壓電路系統(tǒng)運(yùn)用中點(diǎn)接地另設(shè)置一負(fù)電極板，運(yùn)用正電極板與負(fù)電極板之間的稠密絲狀電弧(跳動電子)產(chǎn)生較大范圍的電暈放電，藉此，電暈放電會讓待清理物的表面清理效果更佳、增進(jìn)表面一致性，也由于操作電暈放電的氣體溫度接近于室溫(屬于冷電漿形式)，故本發(fā)明設(shè)備成本較低，無需將能量用在氣體溫度的提升，更不會產(chǎn)生無線電頻放射設(shè)備的電磁干涉問題。
權(quán)利要求
1.一種電暈處理設(shè)備，其特征在于，包括有一電源，系提供充足的電力；一高壓電路系統(tǒng)，與該電源相連接，且會將電力提高至預(yù)設(shè)正電壓，另在高壓電路系統(tǒng)內(nèi)裝設(shè)有中點(diǎn)接地，利用該中點(diǎn)接地產(chǎn)生預(yù)設(shè)的負(fù)電壓；一正電極板，與該高壓電路系統(tǒng)相連接，且會將導(dǎo)引該高壓電路系統(tǒng)上的預(yù)設(shè)正電壓；一負(fù)電極板，與該高壓電路系統(tǒng)相連接，且會將導(dǎo)引該高壓電路系統(tǒng)上的預(yù)設(shè)負(fù)電壓；一處理室，采絕緣材質(zhì)制成，且提供一低壓密閉空間，在該低壓密閉空間內(nèi)注入預(yù)設(shè)氣體，且處理室會將該正電極板與負(fù)電極板密封于內(nèi)；一待清理物，置放在該正電極板與負(fù)電極板間；藉此，該正電極板與負(fù)電極板間會產(chǎn)生電暈放電，并對待清理物表面進(jìn)行清理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電暈處理設(shè)備，其特征在于，該處理室于低壓密閉空間內(nèi)注入氧氣。
全文摘要
一種電暈處理設(shè)備，其為改善以往電漿表面處理設(shè)備成本過高、表面處理效果有限的問題；本發(fā)明解決是將一個(gè)高壓電路系統(tǒng)設(shè)置在電源與正電極板之間，而該高壓電路系統(tǒng)運(yùn)用中點(diǎn)接地另設(shè)置一負(fù)電極板，運(yùn)用正電極板與負(fù)電極板之間的稠密絲狀電弧(跳動電子)產(chǎn)生較大范圍的電暈放電，藉此，電暈放電會讓待清理物的表面清理效果更佳、增進(jìn)表面一致性，也由于操作電暈放電的氣體溫度接近于室溫(屬于冷電漿形式)，故本發(fā)明設(shè)備成本較低，無需將能量用在氣體溫度的提升，更不會產(chǎn)生無線電頻放射設(shè)備的電磁干涉問題。
文檔編號C23F4/02GK1549298SQ03123519
公開日2004年11月24日 申請日期2003年5月9日 優(yōu)先權(quán)日2003年5月9日
發(fā)明者蔡豐益 申請人:凌嘉科技股份有限公司