專利名稱：有機(jī)真空鍍膜掩膜板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在有機(jī)發(fā)光領(lǐng)域，用于真空蒸鍍掩膜的掩膜板的制作方法，通過該掩膜板可蒸出條狀的有機(jī)物膜或金屬條線。
在有機(jī)發(fā)光領(lǐng)域，為制作高信息含量的顯示屏就要實(shí)現(xiàn)矩陣選址，就是要形成如

圖1所示的垂直相交的正負(fù)電極條線。
目前國外公司如日本柯達(dá)公司均采用光刻技術(shù)在刻出銦錫氧化物條線(1)的玻璃襯底(6)上形成與銦錫氧化物條線(1)相垂直的梯形光刻膠條或氧化物介質(zhì)條線(2)，以便在大面積蒸鍍金屬電極(3)時把金屬電極(3)隔開，形成條狀，如圖3，實(shí)現(xiàn)矩陣選址。這種方法，需要特殊的光刻膠(4)，國內(nèi)目前還沒有。另外銦錫氧化物條線(1)在去膠顯影過程中也易被污染，增加了蒸鍍有機(jī)物膜層(5)之前的清潔處理難度。
目前通用的另一種方法是利用掩模板蒸鍍的方法，可以很方便地形成彼此分開的金屬電極條線(3)，而這就需要制作條狀掩膜板。對于1-2條線／mm的掩模板可用線切割直接在鋼板上割出條線的方法制備，但在3條線／mm或更多時，線切割實(shí)現(xiàn)不了。因?yàn)榫€條很細(xì)較長時，機(jī)械加工易使其條線彎曲變形，邊緣會出現(xiàn)毛刺，同時也易斷。而且因?yàn)檫@種掩膜板要在真空系統(tǒng)中用機(jī)械手來操作，要求有一定強(qiáng)度，厚度應(yīng)該在1mm左右，而這個厚度光刻腐蝕也很難制作。另外利用2條線／mm或以上的掩膜板做蒸鍍時，如果線條間距與掩膜板的厚度相比很小時，則會形成如圖4所示的側(cè)壁吸附現(xiàn)象，因此又要求掩膜板的掩膜部分盡量薄。
本發(fā)明的目的是提供一種簡單實(shí)用的方法，可充分利用線切割、光刻腐蝕這些技術(shù)，實(shí)現(xiàn)3條線／mm的掩膜板如圖11的制作。
為達(dá)上述目的，本發(fā)明是在鋼板(7)上用線切割方法割出等間距的齒(8)，再用光刻腐蝕的方法腐蝕出與齒(8)相對應(yīng)的直線槽(9)，在掩膜板的背面(16)固定兩個截面為矩形的細(xì)長鐵條(10)，上面附有焊錫(11)，此后把鎳鉻合金絲(12)限位在齒(8)和刻槽(9)里，并將其兩端焊在鐵條(10)上。
本發(fā)明的好處在于可根據(jù)實(shí)際情況的需要相應(yīng)調(diào)整板的尺寸、齒(8)間距{槽(9)間距}、齒(8)寬{槽(9)寬}，以及合金絲(12)的長度、直徑，可得到比較精密實(shí)用的掩膜板，并且可以反復(fù)利用。利用此項(xiàng)技術(shù)做成的掩膜板，在器件制備過程中得到了良好的應(yīng)用效果。
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作詳細(xì)說明。
圖1為實(shí)現(xiàn)矩陣選址的垂直相交的正負(fù)電極條線示意圖。
圖2為光刻銦錫氧化物條線與梯形光刻膠條或氧化物介質(zhì)條線相垂直的示意圖。
圖3為實(shí)現(xiàn)矩陣選址的顯示屏結(jié)構(gòu)的側(cè)示圖。
圖4為蒸鍍掩膜時形成側(cè)壁吸附現(xiàn)象的示意圖。其中13、14、15分別為樣品表面、掩膜板、蒸發(fā)源。
圖5至圖10為制作掩膜板工藝過程示意圖。
圖11為3條線／mm的有機(jī)真空鍍膜掩膜板示意圖。
在圖5所示的厚度為1mm的鋼板(7)上用線切割方法，開三個長方形孔A、B、C，其中C的長度視蒸鍍面積而定。再在A、B上割出如圖6所示的長為0．3mm，間距為0．16mm，齒寬為0．173mm的齒(8)。
在A、C方孔之間，B、C方孔之間的長條上用光刻腐蝕方法腐蝕出如圖7所示的和齒(8)相對應(yīng)的直線槽(9)，槽寬為0．16mm，間距為0．173mm，深為0．2mm。
在掩膜板的背面(16)如圖8所示的位置上固定兩個截面為矩形的細(xì)長鐵條(10)，上面附有焊錫(11)，側(cè)視圖如圖9所示。
用柔韌性較好的鎳鉻合金絲(Φ0．15mm)(12)，按圖10所示一端先焊在一側(cè)鐵條(10)上，通過A孔卡在齒(8)里，穿到正面(17)，將之限位于相應(yīng)的槽(9)中，拉緊后同時限位在對面相應(yīng)的槽(9)中，卡在齒(8)里，穿到背面(16)，拉伸過程中將之焊在另一鐵條(10)上，冷卻后再停止拉伸。依此操作可得到間距平均、線條筆直的掩膜板。
本發(fā)明不局限于上述的長方形掩膜板，圓形或其它形狀的掩膜板，只要在其上用齒和刻槽進(jìn)行限位，利用合金絲形成條狀掩膜以及在掩膜板的背部用焊接的方法固定合金絲的方法，均屬于本專利的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種用于有機(jī)真空鍍膜的條狀掩膜板，其特征在于掩膜板上的掩膜條線是由通過齒(8)和刻槽(9)固定的合金絲(12)而形成，并且其兩端焊在掩膜板背部(16)附有焊錫(11)的鐵條(10)上。
2.一種制作權(quán)利要求1所述的掩膜板的方法，其特征是先在鋼板(7)上用線切割方法割出等間距的齒(8)，再用光刻腐蝕的方法刻蝕出槽(9)，此后把柔韌的合金絲(12)定位在齒(8)和刻槽(9)里。
3.實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求2所述的掩膜板的方法，其特征在于把合金絲(12)的一端先焊在一側(cè)鐵條(10)上，另一端在拉伸過程中焊接在另一例的鐵條(10)上，等焊錫(11)冷卻以后再停止拉伸。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種在有機(jī)電致發(fā)光器件制作過程中,用于真空鍍膜的掩膜板及其制作加工技術(shù),它是在線切割及光刻腐蝕的基礎(chǔ)上,利用齒(8)、槽(9)對鎳鉻合金絲(12)進(jìn)行限位,從而形成精細(xì)的掩膜板,分辨率為3條線/mm,可實(shí)現(xiàn)平板顯示屏的矩陣選址。
文檔編號C23C14/04GK1291660SQ00131360
公開日2001年4月18日 申請日期2000年11月1日 優(yōu)先權(quán)日2000年11月1日
發(fā)明者高文寶, 李傳南, 楊開霞, 劉式墉 申請人:吉林大學(xué)