本發(fā)明涉及到電火花加工電極領域,特別是涉及到一種新型的薄片隊列微電極。
背景技術:
現(xiàn)今通過薄片隊列微電極微電火花加工可獲得三維微結構。但是在實施的過程中存在以下問題:①在微細電火花加工的過程中,第一個薄片微電極的加工介質(zhì)更新和電蝕產(chǎn)物的排出最差,因此第一個薄片微電極的損耗最大,隨后的薄片微電極的損耗則會逐漸減小。薄片微電極損耗遞減的現(xiàn)象會對微電電火花加工結果的形狀精度和尺寸精度產(chǎn)生不利影響;②薄片隊列微電極微細電火花加工微型腔時,微型腔的直壁特征會又有一定的錐度,該錐度會對微型腔的直壁特征產(chǎn)生不利影響。
綜上所述,為了提高薄片隊列微電極微細電火花加工的精度,需要減小薄片隊列微電極損耗的遞減效應和薄片隊列微電極微細電火花加工結果的邊緣錐度。
技術實現(xiàn)要素:
本發(fā)明的主要目的為提供一種可以減小微細電火花加工的過程中薄片隊列微電極損耗的遞減效應的新型的薄片隊列微電極。
本發(fā)明提出一種新型的薄片隊列微電極,包括電極本體和薄片電極;電極本體為條形;薄片電極設有多個,多個薄片電極成隊列的固定連接電極本體的一側邊;薄片電極為條形薄片,其一端固定連接電極本體,相對的另一端為自由端;自由端的端面為加工端面;薄片電極厚度方向設有貫穿薄片電極的隨形孔。
進一步地,加工端面設有內(nèi)凹的微結構加工槽或外凸的微結構加工凸起。
進一步地,當加工端面設有內(nèi)凹的微結構加工槽時,微結構加工槽底部與隨形孔側壁相重疊部分的形狀相同,使微結構加工槽底部與隨形孔側壁相重疊的部分間的距離相等;
當加工端面設有外凸的微結構加工凸起時,微結構加工凸起與隨形孔側壁相重疊部分的形狀相同,使微結構加工凸起與隨形孔側壁相重疊的部分間的距離相等。
進一步地,加工端面為平面或斜面。
進一步地,新型的薄片隊列微電極為一體構件。
進一步地,薄片電極的兩個側壁分別設有阻反應凹槽;阻反應凹槽為開口邊大于凹槽底部的梯形槽;阻反應凹槽的深度距離大于放電間隙。
進一步地,薄片電極的兩個側壁上的兩個阻反應凹槽相互對稱。
本發(fā)明新型的薄片隊列微電極不但設有隨形孔,可以將微細電火花加工的過程中產(chǎn)生的電蝕產(chǎn)物及時排出,進而有效的減小新型的薄片隊列微電極損耗的遞減效應;而且還設有阻反應凹槽,可以減小新型的薄片隊列微電極微細電火花加工結果的邊緣錐度問題,提高加工微型腔有側壁為直壁的情況下的加工精度。
附圖說明
圖1為本發(fā)明新型的薄片隊列微電極一實施例的結構示意圖;
圖2為圖1中圓圈a中的結構放大示意圖;
圖3為圖1中薄片電極另一實施例的結構放大示意圖;
圖4為圖1中薄片電極第三實施例的結構放大示意圖。
本發(fā)明目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結合實施例,參照附圖做進一步說明。
具體實施方式
應當理解,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明,并不用于限定本發(fā)明。
參照圖1-2,一種新型的薄片隊列微電極,包括電極本體11和薄片電極12;電極本體11為條形;薄片電極12設有多個,多個薄片電極12成隊列的固定連接電極本體11的一側邊;薄片電極12為條形薄片,其一端固定連接電極本體11,相對的另一端為自由端;自由端的端面為加工端面122;薄片電極12厚度方向設有貫穿薄片電極12的隨形孔121。
新型的薄片隊列微電極設有隨形孔121,可以有效改善加工介質(zhì)的更新,還可以將微細電火花加工的過程中產(chǎn)生的電蝕產(chǎn)物及時排出,進而有效的減小新型的薄片隊列微電極損耗的遞減效應。
參照圖2-3,加工端面122設有內(nèi)凹的微結構加工槽123或外凸的微結構加工凸起125。
參照圖2,當加工端面122設有內(nèi)凹的微結構加工槽123時,微結構加工槽123底部與隨形孔121側壁相重疊部分的形狀相同,使微結構加工槽123底部與隨形孔121側壁相重疊的部分間的距離相等;
參照圖3,當加工端面122設有外凸的微結構加工凸起125時,微結構加工凸起125與隨形孔121側壁相重疊部分的形狀相同,使微結構加工凸起125與隨形孔121側壁相重疊的部分間的距離相等。該重疊部分的形狀均勻,可以使電腐蝕的效果均勻,保證加工的微結構外部形狀的加工精度。
參照圖2,在本實施例中,加工端面122設有內(nèi)凹的微結構加工槽123;微結構加工槽123為弧形可以加工表面具有弧形凸起的微結構。
參照圖4,在一些實施例中,加工端面122為平面或斜面。可以相應的加工微細的平面結構和斜面。
參照圖1,在本實施例中,新型的薄片隊列微電極為一體構件。電極本體11和薄片電極12為一體構件,薄片電極12與電極本體11間連接穩(wěn)固,工作效果更穩(wěn)定,不易出現(xiàn)薄片電極12錯位導致的加工精度下降的情況,而且新型的薄片隊列微電極的加工個更加方便。
參照圖2,在本實施例中,薄片電極12的兩個側壁分別設有阻反應凹槽124;阻反應凹槽124為開口邊大于凹槽底部的梯形槽;阻反應凹槽124的深度距離大于放電間隙。
由于阻反應凹槽124的深度距離大于放電間隙,在微細電火花加工的過程中,加工腔側壁不會被放電腐蝕,避免出項加工腔側壁由錐度的情況。
在本實施例中,薄片電極12的兩個側壁上的兩個阻反應凹槽124相互對稱。對稱的設計可以保證微細電火花加工的效果更對稱,也更符合現(xiàn)今的對稱審美。
本發(fā)明新型的薄片隊列微電極不但設有隨形孔121,可以將微細電火花加工的過程中產(chǎn)生的電蝕產(chǎn)物及時排出,進而有效的減小新型的薄片隊列微電極損耗的遞減效應;而且還設有阻反應凹槽124,可以減小新型的薄片隊列微電極微細電火花加工結果的邊緣錐度問題,提高加工微型腔有側壁為直壁的情況下的加工精度。
以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例,并非因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結構或等效流程變換,或直接或間接運用在其他相關的技術領域,均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。