薄型背光模塊的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種背光模塊；具體而言，本發(fā)明涉及一種薄型背光模塊。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來，液晶顯示裝置的技術(shù)漸趨成熟。隨著消費者的喜好及要求增加，液晶顯示裝置也逐漸走向薄型化。為求達到薄型化的目的，液晶顯示裝置的各組成部分均需進行厚度的縮減，例如顯示面板、光學(xué)膜片及背光模塊。其中背光模塊因需要混光空間，所需要的厚度通常較大，因此也成了主要進行厚度縮減的目標(biāo)。
[0003]圖1所示為現(xiàn)有一種直下式背光模塊。如圖1所示，背光模塊I包含燈箱9、光源8以及洞片3。洞片3大致將燈箱9分隔為下層空間SI與上層空間S2，其中光源8設(shè)置于燈箱9內(nèi)的下層空間SI ;光源8產(chǎn)生的光經(jīng)洞片3入射至上層空間S2。進一步而言，洞片3的出光進入上層空間S2混光。此外，擴散板2與洞片3間隔該上層空間S2而相對設(shè)置，提高出光的均勻度。
[0004]當(dāng)對如圖1所示背光模塊I進行薄型化時，需將燈箱9的高度縮減，也即將下層空間SI及/或上層空間S2的高度縮減。然而，當(dāng)高度H2縮減，上層空間S2提供的混光空間變小。由于光源8于洞片3上的投影范圍及附近一般而言孔洞較少或未布設(shè)孔洞、出光率較小，因此需通過上層空間S2提供足夠的混光空間而具有與其他區(qū)域相同或近似的亮度。當(dāng)在混光空間縮減、混光不完全的情況下，易于背光模塊I對應(yīng)于光源8的部分造成暗點，影響光學(xué)品味。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種背光模塊，可降低光光模塊的厚度。
[0006]本發(fā)明的另一目的在于提供一種背光模塊，解決暗點發(fā)生等問題。
[0007]本發(fā)明的另一目的在于提供一種背光模塊，提供優(yōu)選光學(xué)品味。
[0008]本發(fā)明的背光模塊包含光源模塊及光學(xué)調(diào)控膜。光源模塊包含至少一光源。光學(xué)調(diào)控膜設(shè)置于光源模塊上方并具有多個出光孔，其中光學(xué)調(diào)控膜分配光源產(chǎn)生的光線于不同位置的出光孔穿射而出。光學(xué)調(diào)控膜包含至少一區(qū)塊分別對應(yīng)該至少一光源，每一區(qū)塊內(nèi)具有盆狀部為分布于該區(qū)塊內(nèi)的該些出光孔所圍繞。盆狀部相對于區(qū)塊內(nèi)其他位置凹陷而較靠近光源所在平面，區(qū)塊所對應(yīng)的光源于區(qū)塊上的投影范圍與盆狀部的分布范圍至少部分重疊。
【附圖說明】
[0009]圖1為現(xiàn)有背光模塊的側(cè)視示意圖；
[0010]圖2A為本發(fā)明背光模塊實施例的分解圖；
[0011]圖2B為圖2A所示實施例的光源模塊及光學(xué)調(diào)控膜的俯視圖；
[0012]圖3A?圖3B為圖2A所示實施例的側(cè)視示意圖；
[0013]圖4A?圖4B為本發(fā)明光學(xué)調(diào)控膜其他實施例的示意圖；
[0014]圖5A?圖5B為本發(fā)明光學(xué)調(diào)控膜其他實施例的示意圖；
[0015]圖6A?圖6B為本發(fā)明光學(xué)調(diào)控膜其他實施例的示意圖；
[0016]圖7為本發(fā)明光學(xué)調(diào)控膜其他實施例的示意圖。
[0017]符號說明
[0018][本發(fā)明]
[0019]10背光模塊
[0020]100光源模塊
[0021]150、150a 光源
[0022]160 箱體
[0023]161 底板
[0024]162 側(cè)墻
[0025]200光學(xué)調(diào)控膜
[0026]220出光孔
[0027]250盆狀部
[0028]300擴散板
[0029]400反射片
[0030]B 區(qū)塊
[0031]BO無孔區(qū)域
[0032]D1、D1，、D2 距離
[0033]Pl下層空間
[0034]P2下層空間
[0035]R投影范圍
[0036][現(xiàn)有]
[0037]I背光模塊
[0038]2擴散板
[0039]3 洞片
[0040]4反射片
[0041]5光學(xué)膜片
[0042]8 光源
[0043]9 燈箱
[0044]SI下層空間
[0045]S2上層空間
[0046]H2 高度
【具體實施方式】
[0047]本發(fā)明的背光模塊，如圖2A所不實施例，包含光源模塊100與光學(xué)調(diào)控膜200。光源模塊100包含至少一光源150 ;光源150優(yōu)選以行列矩陣的形式排列，如圖2A所示。光學(xué)調(diào)控膜200設(shè)置于光源模塊100上方并具有多個出光孔220。在本實施例中，出光孔220以穿孔的形式設(shè)置；然而在不同實施例中，出光孔220也可以為未貫穿的凹孔。其中出光孔220于光學(xué)調(diào)控膜300上占有面積；所占有的面積稱為開口面積。此外，單位面積的光學(xué)調(diào)控膜200上的出光孔220貢獻的開口面積構(gòu)成光學(xué)調(diào)控膜200的單位開口積比率。單位開口面積比率或開口率優(yōu)選為一標(biāo)準(zhǔn)化的比率值，而不具有單位。再者，光學(xué)調(diào)控膜200朝向光源150的一面具有反射效果，當(dāng)光源150產(chǎn)生的光線抵達光學(xué)調(diào)控膜200上未設(shè)有出光孔220的部分，即可被反射(至少部分反射)回光源模塊100后于其他位置出光，因此可分配光源150產(chǎn)生的光線于不同位置的出光孔220穿射而出。除了具有多個出光孔220可供光線穿設(shè)，光學(xué)調(diào)控膜200本身可有光穿透率；舉例來說，在本發(fā)明背光模塊一實施例中，光學(xué)調(diào)控膜具有I %的光穿透率，但不限于此。
[0048]光學(xué)調(diào)控膜200優(yōu)選包含至少一區(qū)塊B(如圖2A與圖2B中以虛線于光學(xué)調(diào)控膜200上框出的范圍)分別對應(yīng)該光源模塊100內(nèi)的至少一光源150。每一區(qū)塊B內(nèi)具有多個出光孔220及至少一盆狀部250，其中盆狀部250為分布于每一區(qū)塊B內(nèi)的多個出光孔220所圍繞。在本發(fā)明實施例中，同一光學(xué)調(diào)控膜200的不同位置具有不同的單位開口面積比率；進一步來說，在同一光學(xué)調(diào)控膜200的每一區(qū)塊B中，不同部位的單位開口面積比率也不同。在優(yōu)選實施例中，如圖2B所示，每一區(qū)塊B內(nèi)的出光孔220的單位開口面積比率優(yōu)選以區(qū)塊B內(nèi)的盆狀部250為中心朝區(qū)塊B的外側(cè)遞增變化；具體而言，則盆狀部250附近的出光孔220可以是較小、較疏、或者較小并較疏，越遠離盆狀部250則出光孔220可相對較大、較密、或者較大又密。詳細來說，盆狀部250相對于區(qū)塊B內(nèi)其他位置凹陷而較靠近光源150所在平面；換言之，就光學(xué)調(diào)控膜200面向光源150 —側(cè)來說，可見盆狀部250形成的突起。此外，盆狀部250優(yōu)選沒有出光孔220 ;光源150于光學(xué)調(diào)控膜200上的投影范圍內(nèi)因此沒有出光孔220，或者具有相對低的單位開口積比率。此外，每一區(qū)塊B所對應(yīng)的光源150于該區(qū)塊B上的投影范圍R優(yōu)選與盆狀部250的分布范圍至少部分重疊，如圖2B及圖3A的示意。
[0049]因此，光學(xué)調(diào)控膜200的盆狀部250較其他部分更靠近光源150。再者，光學(xué)調(diào)控膜200本身具有光穿透率，由于盆狀部250的底部在垂直方向上更接近光源150，因此盆狀部250的光通過量將會提升，以減少盆狀部250上方產(chǎn)生暗點的機會。
[0050]在優(yōu)選背光模塊10的實施例中，進一步包含擴散板300，設(shè)置于光學(xué)調(diào)控膜200相反于光源模塊100的一側(cè)。如圖3A所示，擴散板300優(yōu)選與光學(xué)調(diào)控膜200間隔設(shè)置，例如相距距離D2 ;而光學(xué)調(diào)控膜200上的盆狀部250可再局部拉開光學(xué)調(diào)控膜200與擴散板300間的距離，例如使擴散板300與光學(xué)調(diào)控膜200的距離為D2’，其中D2’大于D2?？偠灾锠畈?50朝向擴散板300的一面與擴散板300間的平均垂直距離大于同一面上區(qū)塊B內(nèi)其他位置與擴散板300間的平均垂直距離，因此盆狀部250及其附近的出光享有較多的混光空間。此外，本發(fā)明光源模塊可進一步包含反射片400相對光學(xué)調(diào)控膜200設(shè)置。
[0051]本發(fā)明的背光模塊進一步可包含載板、背板或箱體；其中載板或背板于周緣可形成有側(cè)墻，圍構(gòu)成載板或背板的容納空間。其中載板、背板或箱體可供承載光源150，并可承載或容納光學(xué)調(diào)控膜200及擴散板300。在一實施例中，光源模塊的反射片400也設(shè)置于載板、背板或箱體上/內(nèi)，與光學(xué)調(diào)控膜200相對。如圖3A?圖3B所示，箱體160承載光源150與反射片400，并容納光學(xué)調(diào)控膜200與擴散板300，其中光學(xué)調(diào)控膜200優(yōu)選離開光源150 —距離D1。此外，反射片400至少部分與光源150大致位于同一平面或同一水平高度；換句話說，部分反射片400具有一片延伸方向，且該部分反射片400所在平面與光源150所在平面實質(zhì)相同，或者相互平行且接近。光源150的出光行經(jīng)該距離Dl所形成的夾層空間而抵達光學(xué)調(diào)控膜200 ;光學(xué)調(diào)控膜200上該些出光孔220分配來光并使光線穿射而出。通過光學(xué)調(diào)控膜200及其出光孔220分配來光并使光線穿射而出，減弱因距離光源150的遠與近發(fā)生的光量不均的現(xiàn)象；再者，光學(xué)調(diào)控膜200的調(diào)光作用還可加以光學(xué)調(diào)控膜200及其盆狀部250與光源150位置的分離程度(距離Dl)等因子調(diào)節(jié)之。
[0052]再者，如背光模塊10的實施例，離開光源150有距離Dl的光學(xué)調(diào)控膜200優(yōu)選與箱