專利名稱：一種陰極均勻性修正擋板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及玻璃制造，特別是，涉及一種陰極均勻性修正擋板。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)的磁控濺射鍍膜中使用的陰極擋板多是平板狀(如附圖1所示)，在磁控濺射鍍膜過程中，受陰極結(jié)構(gòu)的影響，兩端的濺射速率要大于中間部分的濺射速率，由此造成玻璃兩端所鍍膜層偏厚，膜層均勻性比較差。為解決此問題，通常的做法是將陰極端部的磁場(chǎng)減弱，降低磁控濺射速率，這樣做帶來的負(fù)面影響就是使濺射的效率降低了，有些得不償失。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種解決磁控濺射陰極兩端均勻性差的陰極均勻性修正檔板。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案一種陰極均勻性修正擋板，包括相平行設(shè)置的第一擋板本體和第二擋板本體，所述的第一擋板本體與所述的第二擋板本體之間形成濺射區(qū)域，所述的第一擋板本體與所述的第二擋板本體相對(duì)的側(cè)面的兩端分別具有凸棱，所述的濺射區(qū)域呈兩端縮頸的空間。其中，所述的凸棱由對(duì)應(yīng)的所述的第一擋板本體或第二擋板本體相對(duì)延伸而形成，所述的凸棱的表面與其所在的所述的第一擋板本體或第二擋板本體的表面之間的二面角為鈍角。其中，所述的第一擋板本體與所述的第二擋板本體相對(duì)稱分布。本實(shí)用新型的有益效果是通過在兩擋板本體的相對(duì)面的兩端分別加上凸棱，對(duì)端部鍍膜進(jìn)行部分阻擋，有效地解決了鍍膜邊緣與中部的均勻性差距的問題，并且改進(jìn)的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易加工，并且不會(huì)降低原有的濺射效率，適合在磁控濺射鍍膜領(lǐng)域推廣使用。

附圖1為傳統(tǒng)技術(shù)中的陰極擋板的結(jié)構(gòu)示意圖；附圖2為本實(shí)用新型的陰極均勻性修正檔板的結(jié)構(gòu)示意圖。附圖中1、第一擋板本體；2、第二擋板本體；3、濺射區(qū)域；4、凸棱。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖所示的實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作以下詳細(xì)描述如附圖2所示，本實(shí)用新型的陰極均勻性修正檔板包括相平行設(shè)置的第一擋板本體1和第二擋板本體2，第一擋板本體1與第二擋板本體2之間形成濺射區(qū)域3，第一擋板本體1與第二擋板本體2相對(duì)的側(cè)面的兩端分別具有凸棱4，濺射區(qū)域3呈兩端縮頸的空間，凸棱4由對(duì)應(yīng)的第一擋板本體1或第二擋板本體2相對(duì)延伸而形成，凸棱4的表面與其所在的第一擋板本體1或第二擋板本體2的表面之間的二面角為鈍角，第一擋板本體1與第二擋板本體2相對(duì)稱分布。本實(shí)用新型通過在兩擋板本體的相對(duì)面的兩端分別加上凸棱4，對(duì)端部鍍膜進(jìn)行部分阻擋，有效地解決了鍍膜邊緣與中部的均勻性差距的問題，并且改進(jìn)的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易加工，并且不會(huì)降低原有的濺射效率，適合在磁控濺射鍍膜領(lǐng)域推廣使用。上述實(shí)施例只為說明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。 凡根據(jù)本實(shí)用新型精神所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種陰極均勻性修正擋板，其特征在于包括相平行設(shè)置的第一擋板本體和第二擋板本體，所述的第一擋板本體與所述的第二擋板本體之間形成濺射區(qū)域，所述的第一擋板本體與所述的第二擋板本體相對(duì)的側(cè)面的兩端分別具有凸棱，所述的濺射區(qū)域呈兩端縮頸的空間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陰極均勻性修正擋板，其特征在于所述的凸棱由對(duì)應(yīng)的所述的第一擋板本體或第二擋板本體相對(duì)延伸而形成，所述的凸棱的表面與其所在的所述的第一擋板本體或第二擋板本體的表面之間的二面角為鈍角。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陰極均勻性修正擋板，其特征在于所述的第一擋板本體與所述的第二擋板本體相對(duì)稱分布。
專利摘要本實(shí)用新型公開一種陰極均勻性修正擋板，包括相平行設(shè)置的第一擋板本體和第二擋板本體，所述的第一擋板本體與所述的第二擋板本體之間形成濺射區(qū)域，所述的第一擋板本體與所述的第二擋板本體相對(duì)的側(cè)面的兩端分別具有凸棱，所述的濺射區(qū)域呈兩端縮頸的空間。本實(shí)用新型通過在兩擋板本體的相對(duì)面的兩端分別加上凸棱，對(duì)端部鍍膜進(jìn)行部分阻擋，有效地解決了鍍膜邊緣與中部的均勻性差距的問題，并且改進(jìn)的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易加工，并且不會(huì)降低原有的濺射效率，適合在磁控濺射鍍膜領(lǐng)域推廣使用。
文檔編號(hào)H01J37/34GK202352611SQ201120450670
公開日2012年7月25日 申請(qǐng)日期2011年11月15日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月15日
發(fā)明者武瑞軍, 田富, 程立華 申請(qǐng)人:吳江南玻華東工程玻璃有限公司