專利名稱：背光組件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種能夠減小體積并降低制造成本的背光組件。
背景技術(shù)：
通常，顯示設(shè)備包括產(chǎn)生光的背光組件和利用該光顯示圖像的顯示面板。對(duì)于液晶面板本身不發(fā)光的液晶顯示(LCD)裝置尤其是這樣。最近已經(jīng)開發(fā)了應(yīng)用發(fā)光二極管作為其光源的背光組件。發(fā)光二極管通常具有比替換形式的照明(例如冷陰極熒光燈(CCFL)等)優(yōu)良的發(fā)光效率，從而降低驅(qū)動(dòng)顯示設(shè)備所需的電功率。然而，由于發(fā)光二極管的價(jià)格與CCFL相比較貴，所以當(dāng)背光組件使用發(fā)光二極管作為其光源時(shí)，背光組件的制造成本增加。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的示例性實(shí)施例提供一種能夠減小體積并降低制造成本的背光組件。本發(fā)明的示例性實(shí)施例提供一種具有該背光組件的顯示設(shè)備。根據(jù)示例性實(shí)施例，一種背光組件包括光源，包括發(fā)光表面，光穿過發(fā)光表面出射；光學(xué)構(gòu)件，包括鄰近光源設(shè)置的第一表面和設(shè)置成基本上背對(duì)第一表面的第二表面，其中，光學(xué)構(gòu)件覆蓋光源并引導(dǎo)光穿過光學(xué)構(gòu)件。在一個(gè)示例性實(shí)施例中，光學(xué)構(gòu)件包括入射表面，光入射到所述入射表面，入射表面連接到第一表面并對(duì)應(yīng)于光源；光學(xué)圖案，設(shè)置在第二表面上并與光源對(duì)應(yīng)，光學(xué)圖案利用全內(nèi)反射來反射穿過入射表面入射光中的第一光；導(dǎo)光圖案，設(shè)置在第一表面上，其中，導(dǎo)光圖案引導(dǎo)反射的第一光出射到光學(xué)構(gòu)件的外部。


通過參照下面結(jié)合附圖考慮的詳細(xì)描述，本發(fā)明的上述和其它優(yōu)點(diǎn)將變得易于清楚，在附圖中圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的背光組件的示例性實(shí)施例的分解透視圖；圖2A是沿圖1的線1-1’截取的剖視圖；圖2B和圖2C是示出根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)構(gòu)件的示例性實(shí)施例的透視圖；圖3是示出利用圖2A的光學(xué)構(gòu)件的示例性實(shí)施例引導(dǎo)光的原理的剖視圖；圖4是示出圖3的第一光學(xué)圖案的結(jié)構(gòu)的放大剖視圖；圖5是示出圖4的光學(xué)構(gòu)件的最大厚度與第一角之間的相互關(guān)系的曲線圖；圖6是示出根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)構(gòu)件的另一示例性實(shí)施例的第二光學(xué)圖案的放大剖視圖7是示出根據(jù)本發(fā)明的顯示設(shè)備的示例性實(shí)施例的分解透視圖。
具體實(shí)施例方式在下文中，現(xiàn)在將參照附圖更充分地描述本發(fā)明，在附圖中示出了本發(fā)明的實(shí)施例。然而，本發(fā)明可以以許多不同的形式來實(shí)施，且不應(yīng)被理解為局限于在此提出的實(shí)施例。相反，提供這些實(shí)施例使得本公開將是徹底和完全的，且將把本發(fā)明的范圍充分地傳達(dá)給本領(lǐng)域的技術(shù)人員。相同的標(biāo)號(hào)始終表示相同的元件。應(yīng)該理解的是，當(dāng)元件或?qū)颖环Q作“在”另一元件或?qū)印吧稀薄ⅰ斑B接到”或“結(jié)合到”另一元件或?qū)訒r(shí)，該元件或?qū)涌梢灾苯釉诹硪辉驅(qū)由稀⒅苯舆B接或直接結(jié)合到另一元件或?qū)?，或者可以存在中間元件或中間層。相反，當(dāng)元件被稱作“直接在”另一元件或?qū)?“上”、“直接連接到”或“直接結(jié)合到”另一元件或?qū)訒r(shí)，不存在中間元件或中間層。相同的標(biāo)號(hào)始終表示相同的元件。如在這里使用的，術(shù)語“和/或”包括一個(gè)或多個(gè)相關(guān)所列項(xiàng)的任意和所有組合。應(yīng)該理解的是，盡管在這里可使用術(shù)語第一、第二等來描述不同的元件、組件、區(qū)域、層和/或部分，但是這些元件、組件、區(qū)域、層和/或部分不應(yīng)該受這些術(shù)語的限制。這些術(shù)語僅是用來將一個(gè)元件、組件、區(qū)域、層或部分與另一個(gè)元件、組件、區(qū)域、層或部分區(qū)分開來。因此，在不脫離本發(fā)明的教導(dǎo)的情況下，下面討論的第一元件、組件、區(qū)域、層或部分可被命名為第二元件、組件、區(qū)域、層或部分。為了方便描述，在這里可使用空間相對(duì)術(shù)語，如“在...之下”、“在...下方”、“下面的”、“在...上方”、“上面的”等，用來描述在圖中所示的一個(gè)元件或特征與其它元件或特征的關(guān)系。應(yīng)該理解的是，空間相對(duì)術(shù)語意在包含除了在附圖中描述的方位之外的裝置在使用或操作中的不同方位。例如，如果在附圖中的裝置被翻轉(zhuǎn)，則描述為“在”其它元件或特征“下方”或“之下”的元件隨后將被定位為“在”其它元件或特征“上方”。因而，示例性術(shù)語“在...下方”可包括“在...上方”和“在...下方”兩種方位。所述裝置可被另外定位(旋轉(zhuǎn)90度或者在其它方位)，并對(duì)在這里使用的空間相對(duì)描述符做出相應(yīng)的解釋。這里使用的術(shù)語僅為了描述特定實(shí)施例的目的，而不意圖限制本發(fā)明。如這里所使用的，除非上下文另外明確指出，否則單數(shù)形式也意圖包括復(fù)數(shù)形式。還應(yīng)理解的是，當(dāng)在本說明書中使用術(shù)語“包含”和/或“包括”時(shí)，說明存在所述特征、整體、步驟、操作、元件和/或組件，但不排除存在或附加一個(gè)或多個(gè)其它特征、整體、步驟、操作、元件、組件和/ 或它們的組。除非另有定義，否則這里使用的所有術(shù)語(包括技術(shù)術(shù)語和科學(xué)術(shù)語)具有與本發(fā)明所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員所通常理解的意思相同的意思。還將理解的是，除非這里明確如此定義，否則術(shù)語(例如在通用的字典中定義的術(shù)語)應(yīng)該被解釋為具有與相關(guān)領(lǐng)域的環(huán)境中它們的意思一致的意思，而不將理想地或者過于正式地解釋它們的意思。在此參照作為本發(fā)明的理想實(shí)施例的示意圖的剖視圖來描述本發(fā)明的示例性實(shí)施例。這樣，預(yù)計(jì)會(huì)出現(xiàn)例如由制造技術(shù)和/或公差引起的圖示的形狀的變化。因此，本發(fā)明的實(shí)施例不應(yīng)該被理解為局限于在此示出的區(qū)域的特定形狀，而將包括例如由制造導(dǎo)致的形狀偏差。例如，示出為或描述為平坦的區(qū)域通?？删哂写植诘暮?或非線性的特征。此外，示出的尖角可以被倒圓。因此，在圖中示出的區(qū)域?qū)嶋H上是示意性的，它們的形狀并不意圖示出區(qū)域的精確形狀，也不意圖限制本發(fā)明的范圍。除非在此另外指出或上下文另外清楚地表明與之相矛盾，否則這里描述的所有方法能夠以合適的順序執(zhí)行。除非另有聲明，否則使用的任何示例和全部示例，或者示例性語言(例如“例如”)僅意圖更好地解釋本公開，而不意圖限制本發(fā)明的范圍。如在這里使用的，說明書的語言均不應(yīng)理解為表示任何未聲明的元件是實(shí)施實(shí)施例所必須的。在下文中，將參照附圖詳細(xì)解釋本發(fā)明。圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的背光組件的示例性實(shí)施例的分解透視圖，圖2A是沿圖1 的線1-1’截取的剖視圖，圖2B和圖2C是示出光學(xué)構(gòu)件的示例性實(shí)施例的透視圖。參照?qǐng)D1和圖2A，背光組件200包括容器10、反射板20、設(shè)置在反射板20上的多個(gè)光源50、光學(xué)構(gòu)件100、漫射板130和光學(xué)片180。容器10包括底部11和從底部11延伸的側(cè)壁12，以提供容納反射板20、光源50、 光學(xué)構(gòu)件100、漫射板130和光學(xué)片180的容納空間。反射板20設(shè)置在底部11上。反射板20可包括反光材料，例如，聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、鋁或具有相似特性的其它材料。因此，反射板20反射從光源50產(chǎn)生的向底部11行進(jìn)的光，反射板20反射的光是朝光學(xué)構(gòu)件100反射。光源50發(fā)射光并且該光穿過每個(gè)光源50的發(fā)光表面輸出。此外，光源50沿第一方向Dl和與第一方向Dl基本垂直的第二方向D2均勻地布置，以在整個(gè)反射板20范圍內(nèi)具有基本均勻的數(shù)量密度。在圖1和圖2A中示出的本示例性實(shí)施例中，光源50可以是點(diǎn)光源，例如，發(fā)光二極管、有機(jī)發(fā)光二極管和各種其它相似的裝置。光學(xué)構(gòu)件100可包括折射率為大約1. 2至大約1. 8的材料，例如聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯或具有相似特性的其它材料。光學(xué)構(gòu)件100設(shè)置在反射板20上以覆蓋光源50， 并將光源50提供的光引導(dǎo)到漫射板130。光學(xué)構(gòu)件100包括容納凹陷111、第一光學(xué)圖案110和導(dǎo)光圖案102。在下文中， 將參照?qǐng)D2B和圖2C詳細(xì)描述容納凹陷111和第一光學(xué)圖案110。圖2B示出了光學(xué)構(gòu)件100的第一表面106，圖2C示出了光學(xué)構(gòu)件100的第二表面 107。參照?qǐng)D2A、圖2B和圖2C，光學(xué)構(gòu)件100包括鄰近反射板20的第一表面106和背對(duì)第一表面106的第二表面107，容納凹陷111形成在第一表面106中，例如，通過去除第一表面106的與光源50對(duì)應(yīng)的一部分來形成容納凹陷111。由于光源50中的一個(gè)光源容納在容納凹陷111中，所以所述一個(gè)光源發(fā)射的光穿過光學(xué)構(gòu)件100的與第一表面106連接的內(nèi)表面入射到光學(xué)構(gòu)件100中。相應(yīng)地，光學(xué)構(gòu)件100的內(nèi)表面包括第一入射表面105A和第二入射表面105B。如圖2B所示，可通過去除第一表面106以形成圓錐形狀來形成限定容納凹陷111 的內(nèi)表面，因此第一入射表面105A可與第二入射表面105B連接。然而，為了便于解釋，第一入射表面105A和第二入射表面105B將被稱作具有相對(duì)于發(fā)光表面55的中心的傾斜形狀，如圖2A所示。第一光學(xué)圖案110通過全內(nèi)反射來反射穿過第一入射表面105A和第二入射表面 105B入射并提供到第一光學(xué)圖案110的光。將參照?qǐng)D3和圖4詳細(xì)描述第一光學(xué)圖案110。導(dǎo)光圖案102形成在第一表面106上并被設(shè)置為鄰近光源50 (例如，在兩個(gè)相鄰的光源之間)。導(dǎo)光圖案102改變從光學(xué)構(gòu)件100通過全內(nèi)反射反射的光的光路，使得通過全內(nèi)反射反射的光從光學(xué)構(gòu)件100出射。漫射板130設(shè)置在光學(xué)構(gòu)件100上。漫射板130使從光學(xué)構(gòu)件100出射的光漫射。 在圖1和圖2A中示出的本示例性實(shí)施例中，漫射板130可與光學(xué)構(gòu)件100分開，同時(shí)在漫射板130與光學(xué)構(gòu)件100之間插入有氣隙部分AG?？蛇x的示例性實(shí)施例包括省略了氣隙部分AG的構(gòu)造。光學(xué)片180設(shè)置在漫射板130上。光學(xué)片180可包括棱鏡片，會(huì)聚穿過漫射板 130的光以提高前視亮度；漫射片，使穿過漫射板的光漫射；反射偏振片，根據(jù)光的振動(dòng)方向來選擇性地透射穿過漫射板130的光。可選的示例性實(shí)施例包括光學(xué)片180具有多個(gè)光學(xué)片的構(gòu)造以及省略了光學(xué)片180的構(gòu)造。圖3是示出利用圖2A的光學(xué)構(gòu)件100來引導(dǎo)光的原理的剖視圖。同時(shí)，在光學(xué)構(gòu)件100中設(shè)置多個(gè)容納凹陷111并設(shè)置多個(gè)第一光學(xué)圖案110以與多個(gè)光源50分別對(duì)應(yīng)， 然而，多個(gè)容納凹陷111具有相同的結(jié)構(gòu)和功能，并且多個(gè)第一光學(xué)圖案110具有相同的結(jié)構(gòu)和功能。因此，將在圖3中描述一個(gè)容納凹陷111和一個(gè)第一光學(xué)圖案110，并將省略對(duì)其余的容納凹陷111和光學(xué)圖案Iio的詳細(xì)描述。此外，將描述布置在反射板20上的多個(gè)光源50中的一個(gè)光源50作為代表示例。參照?qǐng)D3，光學(xué)構(gòu)件100包括容納凹陷111和第一光學(xué)圖案110。光源50容納在容納凹陷111中，第一光學(xué)圖案110位于與容納凹陷111和光源50對(duì)應(yīng)的位置。容納在容納凹陷111中的光源50發(fā)射光，光源50包括面對(duì)第一光學(xué)圖案110的發(fā)光表面55。在本示例性實(shí)施例中，通過去除第一表面106的一部分成為凹面形狀來形成容納凹陷111，光學(xué)構(gòu)件100的內(nèi)表面包括第一入射表面105A和第二入射表面105B。另外，第一入射表面105A與第二入射表面105B在第一交叉點(diǎn)IPl (例如，由容納凹陷111形成的錐體的頂點(diǎn))相交，第一入射表面105A和第二入射表面105B相對(duì)于發(fā)光表面55傾斜?？蛇x的示例性實(shí)施例包括通過其它方法(例如，通過將光學(xué)構(gòu)件100鑄造為包括容納凹陷111) 形成容納凹陷111的構(gòu)造。如參照?qǐng)D1所描述的，光學(xué)構(gòu)件100的折射率為大約1. 2至大約1. 8，未被光源50 填充的空間可稱作空氣層，空氣層的折射率為大約1. 0。因此，從發(fā)光表面55出射并穿過第一入射表面105A和第二入射表面105B入射到光學(xué)構(gòu)件100中的光沿包括第一方向Dl和第三方向D3作為其分量的矢量限定的方向行進(jìn)，這是由第一入射表面105A和第二入射表面105B的傾斜形狀以及空氣層的折射率和光學(xué)構(gòu)件100的折射率之間的差異造成的。如從剖視圖可見的，第一光學(xué)圖案110包括從中心點(diǎn)PO至第一點(diǎn)Pl限定的第一直線、從第一點(diǎn)Pl至第二點(diǎn)P2限定的第一曲線、從第二點(diǎn)P2至第三點(diǎn)P3限定的第二直線、 從中心點(diǎn)PO至第四點(diǎn)P4限定的第三直線、從第四點(diǎn)P4至第五點(diǎn)P5限定的第二曲線以及從第五點(diǎn)P5至第六點(diǎn)P6限定的第四直線。穿過第一入射表面105A入射的光利用從PO至Pl的第一直線、從Pl至P2的第一曲線和從P2至P3的第二直線通過全內(nèi)反射在光學(xué)構(gòu)件100中反射。相似地，穿過第二入射表面105B入射的光利用從PO至P4的第三直線、從P4至P5的第二曲線和從P5至P6的第四直線通過全內(nèi)反射在光學(xué)構(gòu)件100內(nèi)反射。例如，當(dāng)假設(shè)第一光Li、第二光L2和第三光L3穿過在第一入射表面105A上的第七點(diǎn)P7入射到光學(xué)構(gòu)件100中時(shí)，第一光Ll被第一光學(xué)圖案110的第一直線全內(nèi)反射，第二光L2被第一光學(xué)圖案110的第一曲線全內(nèi)反射，第三光L3被第一光學(xué)圖案110的第二直線全內(nèi)反射。相似地，當(dāng)假設(shè)第四光L4、第五光L5和第六光L6穿過在第二入射表面105B 上的第八點(diǎn)P8入射到光學(xué)構(gòu)件100中時(shí)，第四光L4被第一光學(xué)圖案110的第三直線全內(nèi)反射，第五光L5被第一光學(xué)圖案110的第二曲線全內(nèi)反射，第六光L6被第一光學(xué)圖案110 的第四直線全內(nèi)反射。如上所述，為了使穿過第七點(diǎn)P7入射到光學(xué)構(gòu)件100中的光被光學(xué)圖案110全內(nèi)反射，在光和光學(xué)圖案110之間需要特定的臨界角具體地說，當(dāng)假設(shè)在第一入射表面 105A上限定的與發(fā)光表面55最接近的點(diǎn)被稱作第九點(diǎn)P9時(shí)，穿過第九點(diǎn)P9入射到光學(xué)構(gòu)件100中的光以第九點(diǎn)P9為基準(zhǔn)以輻射的方式傳播。在這種情況下，當(dāng)穿過第九點(diǎn)P9的光中在最外面?zhèn)鞑サ墓獗欢x為第七光L7時(shí)，第七光L7與第二表面107的法線之間的夾角θ ^可以是引起光在光學(xué)構(gòu)件100中的全內(nèi)反射的特定臨界角Θ —因此，由于法線和穿過第九點(diǎn)Ρ9入射到光學(xué)構(gòu)件100中的光之間的夾角大于角 θ Q，所以穿過第九點(diǎn)Ρ9入射到光學(xué)構(gòu)件100中的光可被光學(xué)圖案110全內(nèi)反射，因此，不僅穿過第九點(diǎn)Ρ9入射到光學(xué)構(gòu)件100中的光，而且穿過整個(gè)第一入射表面105Α入射到光學(xué)構(gòu)件100中的光可被光學(xué)圖案110全內(nèi)反射。另外，由于光學(xué)圖案110相對(duì)于垂直穿過光源50的軸具有大體對(duì)稱的凹面形狀， 所以穿過第二入射表面105Β入射到光學(xué)構(gòu)件100中的光可被光學(xué)圖案110全內(nèi)反射。同時(shí)，光學(xué)構(gòu)件100包括形成在第一表面106上的導(dǎo)光圖案102。在圖3中示出的本示例性實(shí)施例中，通過連續(xù)地去除第一表面106來形成導(dǎo)光圖案102，使得導(dǎo)光圖案102 的表面相對(duì)于第一表面106傾斜。導(dǎo)光圖案102改變?cè)诠鈱W(xué)構(gòu)件100內(nèi)部被全內(nèi)反射的光的光路，使得光可從光學(xué)構(gòu)件100出射?？蛇x的示例性實(shí)施例包括可利用其它方法(例如將光學(xué)構(gòu)件100鑄造成包括導(dǎo)光圖案10 形成導(dǎo)光圖案102的構(gòu)造。如圖3所示，在本示例性實(shí)施例中，如從俯視平面圖觀察的，導(dǎo)光圖案102不與第一光學(xué)圖案110疊置，然而本發(fā)明不限于此。即，導(dǎo)光圖案102可鄰近容納凹陷111使得導(dǎo)光圖案102與第一光學(xué)圖案110疊置。圖4是詳細(xì)示出圖3的第一光學(xué)圖案110的結(jié)構(gòu)的剖視圖。如上參照?qǐng)D3所述， 第一光學(xué)圖案110包括在光源50的右側(cè)的第一直線、第一曲線、第二直線并包括在光源50 的左側(cè)的第三直線、第二曲線和第四直線，包括第一直線、第一曲線和第二直線的線與包括第三直線、第二曲線和第四直線的線關(guān)于中心點(diǎn)PO對(duì)稱。因此，將省略對(duì)包括第三直線、第二曲線和第四直線的線的詳細(xì)描述。雖然本詳細(xì)描述針對(duì)剖視圖，但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員應(yīng)該理解，如圖2B和圖2C所示，第一光學(xué)圖案110和容納凹陷111實(shí)際上具有基本上的錐形。另外，由于第一光學(xué)圖案110的中心點(diǎn)PO和容納凹陷111的第一交叉點(diǎn)IPl之間的距離較小并且對(duì)理解本設(shè)備是相對(duì)無關(guān)緊要的，因此在圖4中省略了中心點(diǎn)PO和第一交叉點(diǎn)IPl之間的距離。參照?qǐng)D4，為了將連接中心點(diǎn)PO和第一點(diǎn)Pl的第一直線、連接第一點(diǎn)Pl和第二點(diǎn) P2的第一曲線以及連接第二點(diǎn)P2和第三點(diǎn)P3的第二直線限定為等式，將與發(fā)光表面55基本平行的方向稱作χ軸，將發(fā)光表面陽的法線稱作y軸。此外，發(fā)光表面55的法線和第一入射表面105A之間的夾角稱作第一角Q1，第一直線和發(fā)光表面陽之間的夾角稱作第二角
θ 2。當(dāng)限定第一直線的函數(shù)被稱作f(x)時(shí)，函數(shù)f(x)可滿足下面的等式1?！吹仁?>/(χ) = tan(6>2) χ χ + °
2 χ tan(q )在等式1中，a表示光源50的直徑Dl。此外，可利用下面的等式2限定第一角Q1*第二角θ2。< 等式 2>
π6>2 = 2 χ ^0 + 6>,-—在等式2中，θ ^表示參照?qǐng)D3描述的臨界角。如圖2Α所示，由于光學(xué)構(gòu)件100與折射率為1. 0的空氣層接觸，所以可根據(jù)斯涅爾定律將涉及臨界角的等式3限定如下。< 等式 3>Sin(^0)=-
η在等式3中，η表示光學(xué)構(gòu)件100的折射率。當(dāng)限定第一輔助直線150的函數(shù)被稱作g(x)時(shí)，函數(shù)g(x)可滿足下面的等式4。< 等式 4> = tan(《+ 氏)x (x -尋)
λ因此，可利用等式1至等式4獲得第一點(diǎn)Pl的χ軸坐標(biāo)&和y軸坐標(biāo)如下面的等式5和等式6。< 等式 5>
權(quán)利要求
1.一種背光組件，所述背光組件包括光源和光學(xué)構(gòu)件，光源包括發(fā)光表面，光穿過發(fā)光表面出射，光學(xué)構(gòu)件包括設(shè)置成鄰近光源的第一表面和設(shè)置成背對(duì)第一表面的第二表面， 光學(xué)構(gòu)件覆蓋光源并引導(dǎo)光穿過光學(xué)構(gòu)件，其中，光學(xué)構(gòu)件包括入射表面，光入射到入射表面，入射表面連接到第一表面并對(duì)應(yīng)于光源；光學(xué)圖案，設(shè)置在第二表面上并與光源對(duì)應(yīng)，光學(xué)圖案通過全內(nèi)反射反射穿過入射表面入射的光中的第一光；導(dǎo)光圖案，設(shè)置在第一表面上，其中，導(dǎo)光圖案引導(dǎo)反射的第一光出射到光學(xué)構(gòu)件的外部。
2.如權(quán)利要求1所述的背光組件，其中，光學(xué)構(gòu)件設(shè)置有容納凹陷，容納凹陷形成在第一表面上以與光源對(duì)應(yīng)，其中，光源容納在容納凹陷中，其中，當(dāng)從剖視圖觀察時(shí)，限定容納凹陷的表面與入射表面連接。
3.如權(quán)利要求2所述的背光組件，其中，當(dāng)從剖視圖觀察時(shí)，入射表面朝發(fā)光表面的中心傾斜，穿過入射表面入射到光學(xué)構(gòu)件的光朝光學(xué)圖案行進(jìn)。
4.如權(quán)利要求3所述的背光組件，其中，光學(xué)圖案具有關(guān)于穿過光源的中心并與發(fā)光表面垂直的線對(duì)稱的凹面形狀。
5.如權(quán)利要求4所述的背光組件，其中，當(dāng)從剖視圖觀察時(shí)，光學(xué)圖案包括第一直線， 第一直線連接第一點(diǎn)和設(shè)置在光學(xué)構(gòu)件與發(fā)光表面的法線相交的位置的中心點(diǎn)，當(dāng)由入射表面和發(fā)光表面的法線限定的夾角被定義為第一角，光的臨界角被定義為使得穿過入射表面入射到光學(xué)構(gòu)件的光通過全內(nèi)反射被反射，與發(fā)光表面平行的軸被定義為χ軸，與所述法線平行的軸被定義為y軸，相對(duì)于χ軸和y軸限定第一直線的函數(shù)被定義為f(x)時(shí)，利用下面的等式1和等式2來限定函數(shù)f(x)等式1
6.如權(quán)利要求5所述的背光組件，其中，光學(xué)圖案還包括第一曲線，連接第一點(diǎn)和第二點(diǎn)，其中，第一曲線連接到第一直線；第二直線，連接第二點(diǎn)和第三點(diǎn)，其中，第二直線連接到第一曲線，第二直線與χ軸平行，其中，具有與光源的直徑的一半對(duì)應(yīng)的值作為X軸截距并與第一曲線相交的直線被定義為函數(shù)j (χ)，相對(duì)于X軸和y軸限定第一曲線的函數(shù)被定義為h(x)，函數(shù)j (χ)與函數(shù) h(x)相交的交點(diǎn)處的傾斜度函數(shù)被定義為h’ 00，限定函數(shù)11’ (χ)的傾斜度的角被定義為第三角，利用下面的等式3和等式4來限定函數(shù)j(x)和函數(shù)h’ (χ)等式3
7.如權(quán)利要求4所述的背光組件，其中，穿過入射表面入射到光學(xué)構(gòu)件的光中的第二光穿過光學(xué)圖案出射到外部。
8.如權(quán)利要求7所述的背光組件，其中，當(dāng)由入射表面和發(fā)光表面的法線限定的夾角被定義為第一角，光的臨界角被定義為使穿過入射表面入射到光學(xué)構(gòu)件的光通過全內(nèi)反射被反射，與發(fā)光表面平行的軸被定義為χ軸，與所述法線平行的軸被定義為y軸時(shí)，光學(xué)圖案包括第一直線，連接第一點(diǎn)和設(shè)置在光學(xué)構(gòu)件與發(fā)光表面的法線相交的位置的中心點(diǎn)；第一曲線，將第一點(diǎn)連接到第二點(diǎn)，其中，第一曲線連接到第一直線；第二直線，連接第二點(diǎn)和第三點(diǎn)，其中，第二直線連接到第一曲線，當(dāng)相對(duì)于χ軸和y軸限定第一直線的函數(shù)被定義為f(x)時(shí)，利用下面的等式6和等式7限定f(x)等式6
9.如權(quán)利要求1所述的背光組件，其中，設(shè)置多個(gè)光源，所述多個(gè)光源沿第一方向和與第一方向垂直的第二方向布置，同時(shí)彼此分隔開，光學(xué)構(gòu)件覆蓋所述多個(gè)光源并與所述多個(gè)光源對(duì)準(zhǔn)。
10.如權(quán)利要求1所述的背光組件，其中，第一光在光學(xué)構(gòu)件內(nèi)部最初被光學(xué)圖案通過全內(nèi)反射而反射。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種背光組件，所述背光組件包括光源和光學(xué)構(gòu)件，光源包括發(fā)光表面，光穿過發(fā)光表面出射，光學(xué)構(gòu)件包括設(shè)置成鄰近光源的第一表面和基本上背對(duì)第一表面設(shè)置的第二表面，光學(xué)構(gòu)件覆蓋光源并引導(dǎo)光穿過光學(xué)構(gòu)件，其中，光學(xué)構(gòu)件包括入射表面，光入射到入射表面，入射表面連接到第一表面并對(duì)應(yīng)于光源；光學(xué)圖案，設(shè)置在第二表面上并與光源對(duì)應(yīng)，光學(xué)圖案通過全內(nèi)反射反射穿過入射表面入射的光中的第一光；導(dǎo)光圖案，設(shè)置在第一表面上，其中，導(dǎo)光圖案向光學(xué)構(gòu)件的外部引導(dǎo)反射的第一光。
文檔編號(hào)F21V7/00GK102221163SQ20101057009
公開日2011年10月19日 申請(qǐng)日期2010年12月2日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月13日
發(fā)明者普羅德尼科夫·奧萊格, 鄭炳昊, 金局炫 申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社