專利名稱：彩色陰極射線管的蔭罩組件的制作方法
背景技術(shù)：
本發(fā)明涉及到彩色陰極射線管(CRT)的蔭罩組件。本發(fā)明特別涉及到一種彩色陰極射線管的蔭罩組件，其中，采用調(diào)節(jié)主框架的厚度，寬度和高度與陰影掩模之厚度的比例的方式，防止用于對(duì)陰影掩模施加的張力的主框架因高溫處理過程中的蠕變而產(chǎn)生變形，從而使對(duì)陰影掩模施加的張力的量變小。
有關(guān)的現(xiàn)有技術(shù)

圖1表示一種普通彩色陰極射線管(CRT)結(jié)構(gòu)的局部截面圖。參見圖1，彩色CRT是諸如電視監(jiān)視器或計(jì)算機(jī)監(jiān)視器等圖像顯示裝置中用來顯示圖像的主要組成部分。這種CRT是由設(shè)在正面方向的面板1和設(shè)在面板1后面的一個(gè)漏斗2組成的。
在上述面板1和漏斗2內(nèi)部還限定了一個(gè)內(nèi)部空間，CRT還包括發(fā)射熒光的熒光面4，嵌入所述漏斗2的頸部、用來產(chǎn)生撞擊上述熒光面4的電子束6的一個(gè)電子槍，用來識(shí)別熒光面4最終產(chǎn)生的熒光顏色的陰影掩模3，由對(duì)陰影掩模3施加張力的主框架7和支撐所述主框架7的副框架15組成的一個(gè)框架，設(shè)在所述主框架的側(cè)面將所述主框架7連接到所述面板1上的一個(gè)彈簧9，焊接固定在所述副框架15上用來屏蔽外部地球磁場(chǎng)的一個(gè)內(nèi)部屏蔽8，以及設(shè)在上述面板1的側(cè)面用來承受外部沖擊的一個(gè)加強(qiáng)帶12。
這種CRT還包括用來向上下左右偏轉(zhuǎn)電子槍(未示出)發(fā)射的電子束6的一個(gè)偏轉(zhuǎn)磁軛5，以及用來指引射束的軌跡最終進(jìn)入某一種熒光材料的2，4，6極磁鐵11，以防止彩色純度發(fā)生惡化。
以下要解釋圖1所示的彩色陰極射線管的工作原理。由嵌入面板2頸部的電子槍發(fā)出的電子束6在施加到陰極射線管上的陽極電壓作用下撞擊設(shè)在面板1內(nèi)側(cè)的熒光面4，這一電子束在到達(dá)熒光面4之前被偏轉(zhuǎn)磁軛5朝上下左右偏轉(zhuǎn)，從而形成一個(gè)象素。
陰極射線管處在高真空狀態(tài)，受到外力沖擊容易發(fā)生爆炸現(xiàn)象。為此要將面板1設(shè)計(jì)成具有足以承受大氣壓力的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度，以避免這種現(xiàn)象。
另外，耐沖擊能力是這樣保證的，用安裝在面板1裙邊外表面上的一個(gè)加強(qiáng)帶12來分散高真空狀態(tài)下的陰極射線管所承受的應(yīng)力。
另外，如果對(duì)陰影掩模施加張力的主框架7是焊接的，還可以通過變形使陰影掩模3和主框架7達(dá)到平衡狀態(tài)。
在這種情況下，施加在對(duì)陰影掩模3施加張力的主框架7上的應(yīng)力應(yīng)該低于材料的破壞強(qiáng)度，這樣就不會(huì)出現(xiàn)與硬度有關(guān)的問題。
同時(shí)，如果施加在所述主框架7上的應(yīng)力低于材料的破壞強(qiáng)度，就不會(huì)出現(xiàn)硬度方面的問題，但是，由高溫處理過程中的蠕變?cè)斐傻淖冃螘?huì)在陰影掩模中產(chǎn)生張力變形現(xiàn)象的問題。
發(fā)明概述為此，本發(fā)明的目的是提供一種陰極射線管的蔭罩組件，它通過調(diào)節(jié)主框架的厚度，寬度和高度與陰影掩模之厚度的比例來防止主框架因高溫?zé)崽幚磉^程中的蠕變?cè)斐傻淖冃卧陉幱把谀Ｖ挟a(chǎn)生的張力減少。
一種陰極射線管包括一個(gè)內(nèi)側(cè)設(shè)有熒光面的面板，設(shè)置在所述面板的后側(cè)用燒結(jié)玻璃粘合到所述面板上的一個(gè)漏斗，連接在所述面板內(nèi)側(cè)的陰影掩模，在其中形成多個(gè)對(duì)電子束執(zhí)行彩色鑒別的電子通孔，以及由焊接在陰影掩模上用于面向面板支撐所述陰影掩模的主框架和支撐所述主框架的副框架組成的一個(gè)框架，對(duì)于這種射線管，用來實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的的優(yōu)選實(shí)施例的特征在于滿足T/t≥45的關(guān)系，t是陰影掩模的厚度，而T是主框架焊接在陰影掩模的那一部分的厚度。
一種陰極射線管包括一個(gè)內(nèi)側(cè)設(shè)有熒光面的面板，設(shè)置在所述面板的后側(cè)用燒結(jié)玻璃粘合到所述面板上的一個(gè)漏斗，連接在所述面板內(nèi)側(cè)的陰影掩模，在其中形成多個(gè)對(duì)電子束執(zhí)行彩色鑒別的電子通孔，以及由焊接在陰影掩模上用于面向面板支撐所述陰影掩模的主框架和支撐所述主框架的副框架組成的一個(gè)框架，對(duì)于這種射線管，本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的特征在于滿足W/t≥270的關(guān)系，t是陰影掩模的厚度，而W是附著在框架的副框架上的那一部分的寬度。
一種陰極射線管包括一個(gè)內(nèi)側(cè)設(shè)有熒光面的面板，設(shè)置在所述面板的后側(cè)用燒結(jié)玻璃粘合到所述面板上的一個(gè)漏斗，連接在所述面板內(nèi)側(cè)的陰影掩模，在其中形成多個(gè)對(duì)電子束執(zhí)行彩色鑒別的電子通孔，以及由焊接在陰影掩模上用于面向面板支撐所述陰影掩模的主框架和支撐所述主框架的副框架組成的一個(gè)框架，對(duì)于這種射線管，本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的特征在于滿足H/t≥270的關(guān)系，t是陰影掩模的厚度，而H是主框架從上述陰影掩模到副框架的長(zhǎng)度。
一種陰極射線管包括一個(gè)內(nèi)側(cè)設(shè)有熒光面的面板，設(shè)置在所述面板的后側(cè)用燒結(jié)玻璃粘合到所述面板上的一個(gè)漏斗，連接在所述面板內(nèi)側(cè)的陰影掩模，在其中形成多個(gè)對(duì)電子束執(zhí)行彩色鑒別的電子通孔，以及由焊接在陰影掩模上用于面向面板支撐所述陰影掩模的主框架和支撐所述主框架的副框架組成的一個(gè)框架，本發(fā)明的另一個(gè)最佳實(shí)施例的特征在于焊接有上述陰影掩模的上述主框架的強(qiáng)度低于高溫破壞強(qiáng)度的72％，并且還低于室溫破壞強(qiáng)度的65％。
附圖簡(jiǎn)介根據(jù)以下參照附圖的詳細(xì)說明就能理解本發(fā)明的上述及其它目的，特征和其它優(yōu)點(diǎn)，在附圖中圖1是表示普通彩色陰極射線管的構(gòu)造的局部截面圖；圖2a表示主框架的壓制步驟；
圖2b表示在主框架壓制步驟之后在主框架上焊接陰影掩模的狀態(tài)；圖2c表示陰影掩模和主框架在主框架的壓力負(fù)荷消除之后的平衡狀態(tài)；圖3是圖2c的一個(gè)等效模型，表示主框架對(duì)陰影掩模施加拉力的狀態(tài)；圖4是將陰影掩模焊接在主框架上的結(jié)構(gòu)的截面圖；圖5表示與主框架應(yīng)力有關(guān)的蠕動(dòng)測(cè)試(條件是440℃，160分鐘)結(jié)果；圖6表示按照常規(guī)技術(shù)和本發(fā)明兩種情況在主框架應(yīng)力和主框架厚度與陰影掩模厚度的比例之間的關(guān)系；圖7表示按照常規(guī)技術(shù)和本發(fā)明兩種情況在主框架應(yīng)力和主框架寬度與陰影掩模厚度的比例之間的關(guān)系；圖8表示按照常規(guī)技術(shù)和本發(fā)明兩種情況在主框架應(yīng)力和主框架寬度與陰影掩模厚度的比例之間的關(guān)系；以及圖9表示按照常規(guī)技術(shù)和本發(fā)明兩種情況相對(duì)于陰影掩模的各個(gè)位置進(jìn)行熱處理后頻率的減少量。
最佳實(shí)施例的說明以下要參照附圖具體說明本發(fā)明為實(shí)現(xiàn)上述目的的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例。
圖2a到2c表示在主框架7上安裝陰影掩模3的步驟。
圖2a表示主框架7的壓制步驟，使陰影掩模3的曲率維持在設(shè)計(jì)的范圍，圖2b表示陰影掩模3被焊接在主框架7上的狀態(tài)，而圖2c表示陰影掩模3和主框架7在主框架的壓力負(fù)荷消除之后的平衡狀態(tài)。
特別應(yīng)注意到圖2c，上述平衡狀態(tài)具有這樣的配置，它使主框架7對(duì)陰影掩模3產(chǎn)生拉力。
圖3表示圖2c的一個(gè)等效模型，說明主框架7對(duì)陰影掩模3產(chǎn)生拉力的狀態(tài)。
參見圖3，主框架7和陰影掩模3在陰影掩模變形為δM而主框架變形為δF時(shí)達(dá)到平衡狀態(tài)。
以下描述了在主框架受壓，焊接好掩模，并且主框架負(fù)荷被消除時(shí)的平衡公式。
T＝KM×δM＝KF×δF式中的T代表施加在陰影掩模3上的拉力，KM是陰影掩模3的剛性，KF是主框架的剛性，δM是陰影掩模3的變形，而δF是主框架7的變形。
這樣就能用陰影掩模的變形來確定施加在陰影掩模3上的力。陰影掩模變形越大，施加在陰影掩模3上的力就越大，而陰影掩模變形越小，施加在陰影掩模3上的力也就越小。
也就是說，施加在陰影掩模3上的拉力隨著陰影掩模3變形的減小而減小，這是因?yàn)闋恳幱把谀?的力由于在高溫?zé)崽幚磉^程中產(chǎn)生的蠕動(dòng)使主框架7的剛性下降而減小了。這樣就能用陰影掩模和主框架的剛性來確定施加在陰影掩模3上的拉力。
圖4的截面圖表示陰影掩模3被焊接在主框架7上的狀態(tài)，在圖中標(biāo)出了陰影掩模的厚度，以及主框架的厚度，寬度和高度。
上述陰影掩模3的剛性與陰影掩模的厚度有關(guān)，而上述主框架7的剛性與主框架的厚度，寬度和高度有關(guān)。
這樣就能用陰影掩模3的厚度以及主框架7的厚度，寬度和高度來確定施加在陰影掩模3上的拉力。
圖5的曲線表示與主框架應(yīng)力有關(guān)的蠕動(dòng)測(cè)試(條件是440℃，160分鐘)結(jié)果。
圖中的σy代表失去的剛性，σ代表當(dāng)前受到的拉力，σ/σy是當(dāng)前拉力與失去的剛性之比，而應(yīng)變(％)代表蠕動(dòng)造成的變形量。
參見圖5，在拉力低于72％時(shí)，主框架7的變形不大，但是，在拉力超過72％時(shí)，蠕動(dòng)會(huì)使變形大大增加。
圖6的曲線表示常規(guī)技術(shù)與本發(fā)明之間有關(guān)陰影掩模厚度t與主框架厚度T的比例T/t和主框架拉力σ/σy之間關(guān)系的比較結(jié)果。
參見圖6，主框架與陰影掩模的厚度比例通常在45以下。在這種情況下，施加在主框架7上的常規(guī)拉力與室溫下的破壞強(qiáng)度相比處在62％的等級(jí)，而與高溫下的破壞強(qiáng)度相比處在76％的等級(jí)。
然而，本發(fā)明減少蠕動(dòng)造成的變形的方式是將主框架與陰影掩模厚度的比例調(diào)節(jié)到45以上，從而使變形造成的應(yīng)力降到72％以下。
圖7的曲線表示常規(guī)技術(shù)與本發(fā)明之間有關(guān)主框架寬度W與陰影掩模厚度t的比例W/t和施加在主框架7上的拉力σ/σy之間關(guān)系的比較結(jié)果。
參見圖7，主框架寬度與陰影掩模的厚度比例通常在270以下，此時(shí)，施加在主框架7上的拉力與室溫下的破壞強(qiáng)度相比處在65％的等級(jí)，而與高溫下的破壞強(qiáng)度相比處在72％的等級(jí)。
然而，本發(fā)明減少蠕動(dòng)造成的變形的方式是將主框架寬度與陰影掩模厚度的比例調(diào)節(jié)到270以上，從而使變形造成的拉力降到72％以下。
圖8的曲線表示本發(fā)明與常規(guī)技術(shù)之間有關(guān)主框架高度H與陰影掩模厚度t的比例H/t和施加在主框架7上的拉力σ/σy之間關(guān)系的比較結(jié)果。
參見圖8，主框架寬度與陰影掩模的厚度比例通常在270以下，此時(shí)，施加在主框架7上的拉力與室溫下的破壞強(qiáng)度相比處在58％的等級(jí)，而與高溫下的破壞強(qiáng)度相比處在72％的等級(jí)。
然而，本發(fā)明減少蠕動(dòng)造成的變形的方式是將主框架寬度與陰影掩模厚度的比例調(diào)節(jié)到270以上，從而使變形造成的拉力降到72％以下。
由此可見，按照常規(guī)技術(shù)的拉力等級(jí)處在72％以上，在這種情況下，蠕動(dòng)會(huì)使主框架7的變形明顯增大，如圖5所示。在這種情況下，在室溫下的破壞強(qiáng)度方面不會(huì)出現(xiàn)問題，但是，在高溫下的破壞強(qiáng)度方面，蠕動(dòng)會(huì)使變形增大。
然而，按照本發(fā)明，當(dāng)施加的拉力低于72％時(shí)，即使在高溫下的破壞強(qiáng)度方面也能降低蠕動(dòng)造成的變形。
圖9的曲線表示本發(fā)明與常規(guī)技術(shù)之間關(guān)于對(duì)陰影掩模的各個(gè)位置進(jìn)行熱處理后頻率的減少量之間的比較，用頻率減少量來測(cè)量陰影掩模的拉力。
頻率主要是根據(jù)施加在1維軸線上的拉力所確定的，因?yàn)檠谀Ｊ艿降睦缀跏茄刂?維軸線，盡管不是一條線。因此，適用于一條線的頻率和拉力之間的關(guān)系就同樣可以適用于這種陰影掩模。
頻率和拉力之間的關(guān)系如下f＝1/(2L)(T/ρ)式中的f代表頻率，T代表拉力，L是線的長(zhǎng)度，而ρ是線的線性密度。
按照這一公式可以看出，頻率與拉力的根值成比例，并且對(duì)于淹模也是如此。
另外，總的來說，耗散隨著頻率增高而變大，反之，耗散會(huì)隨著頻率下降而變小。也就是說，減小施加在陰影掩模上的拉力就意味著降低頻率，因此，隨著頻率降低幅度的增大就不容易發(fā)生耗散。
換句話說，不僅脫靶(miss-landing)會(huì)隨著這一幅度變大而變大，而且這種減少不能過快。這樣的結(jié)果在顯示器中會(huì)造成持續(xù)的振動(dòng)現(xiàn)象。
同時(shí)，參見圖9，按照常規(guī)，在熱處理后測(cè)得的頻率減少量在陰影掩模的中心位置是5％，而在外圍位置是30％，另一方面，按照本發(fā)明，在熱處理后測(cè)得的頻率減少量在陰影掩模的中心位置是3％，而在外圍位置是18％。
因此，本發(fā)明表明熱處理后的頻率減少量在陰影掩模的中心位置下降了2％，而在外圍位置下降了大約12％。
將本發(fā)明與常規(guī)技術(shù)相比就可以看出，由于頻率減少量大大下降，可以使拉力降低變小。
如上所述，按照本發(fā)明，通過調(diào)節(jié)主框架的厚度，寬度和高度與陰影掩模厚度的比例來防止主框架在高溫?zé)崽幚磉^程中的變形，從而減少陰影掩模的拉力降低現(xiàn)象。
結(jié)果就能防止由于施加在陰影掩模上的拉力下降使陰影掩模發(fā)生振動(dòng)，進(jìn)而導(dǎo)致在顯示器中發(fā)生嘯聲現(xiàn)象而造成顯示器質(zhì)量惡化的問題。
權(quán)利要求
1.彩色陰極射線管的一種蔭罩組件包括一個(gè)內(nèi)側(cè)設(shè)有熒光面的面板；設(shè)置在所述面板的后側(cè)用燒結(jié)玻璃粘合到所述面板上的一個(gè)漏斗；一個(gè)連接在所述面板內(nèi)側(cè)的陰影掩模，在其中形成有多個(gè)對(duì)電子束執(zhí)行彩色鑒別的電子通孔，以及由焊接在陰影掩模上用于面向面板支撐所述陰影掩模的主框架和支撐所述主框架的副框架組成的一個(gè)框架，其中滿足T/t≥45這樣的關(guān)系，t是陰影掩模的厚度，而T是主框架焊接到陰影掩模的那一部分的厚度。
2.按照權(quán)利要求1的蔭罩組件，其特征是滿足W/t≥270的關(guān)系，t是陰影掩模的厚度，而W是附著在框架的副框架上的那一部分的寬度。
3.按照權(quán)利要求1的蔭罩組件，其特征是滿足H/t≥270的關(guān)系，t是陰影掩模的厚度，而H是主框架從上述陰影掩模到副框架的長(zhǎng)度。
4.按照權(quán)利要求1的蔭罩組件，其特征是在上面焊接有所述陰影掩模的所述主框架的強(qiáng)度低于高溫破壞強(qiáng)度的72％，并低于室溫破壞強(qiáng)度的65％。
5.一種陰極射線管的蔭罩組件包括一個(gè)內(nèi)側(cè)設(shè)有熒光面的面板；設(shè)置在所述面板的后側(cè)用燒結(jié)玻璃粘合到所述面板上的一個(gè)漏斗；一個(gè)連接在所述面板內(nèi)側(cè)的陰影掩模，在其中形成有多個(gè)對(duì)電子束執(zhí)行彩色鑒別的電子通孔，以及由焊接在陰影掩模上用于面向面板支撐所述陰影掩模的主框架和支撐所述主框架的副框架組成的一個(gè)框架，其中滿足W/t≥270這樣的關(guān)系，t是陰影掩模的厚度，而W是附著在框架的副框架上的那一部分的寬度。
6.按照權(quán)利要求5的蔭罩組件，其特征在于滿足H/t≥270的關(guān)系，t是陰影掩模的厚度，而H是主框架從上述陰影掩模到副框架的長(zhǎng)度。
7.按照權(quán)利要求5的蔭罩組件，其特征在于焊接有上述陰影掩模的上述主框架的強(qiáng)度低于高溫破壞強(qiáng)度的72％，并且還低于室溫破壞強(qiáng)度的65％。
8.一種陰極射線管的蔭罩組件包括一個(gè)內(nèi)側(cè)設(shè)有熒光面的面板；設(shè)置在所述面板的后側(cè)用燒結(jié)玻璃粘合到所述面板上的一個(gè)漏斗；一個(gè)連接在所述面板內(nèi)側(cè)的陰影掩模，在其中形成有多個(gè)對(duì)電子束執(zhí)行彩色鑒別的電子通孔，以及由焊接在陰影掩模上用于面向面板支撐所述陰影掩模的主框架和支撐所述主框架的副框架組成的一個(gè)框架，其中滿足H/t≥270這樣的關(guān)系，t是陰影掩模的厚度，而H是主框架從上述陰影掩模到副框架的長(zhǎng)度。
9.按照權(quán)利要求8的蔭罩組件，其特征在于焊接有上述陰影掩模的上述主框架的強(qiáng)度低于高溫破壞強(qiáng)度的72％，并且還低于室溫破壞強(qiáng)度的65％。
10.一種陰極射線管的蔭罩組件包括一個(gè)內(nèi)側(cè)設(shè)有熒光面的面板；設(shè)置在所述面板的后側(cè)用燒結(jié)玻璃粘合到所述面板上的一個(gè)漏斗；一個(gè)連接在所述面板內(nèi)側(cè)的陰影掩模，在其中形成有多個(gè)對(duì)電子束執(zhí)行彩色鑒別的電子通孔，以及由焊接在陰影掩模上用于面向面板支撐所述陰影掩模的主框架和支撐所述主框架的副框架組成的一個(gè)框架，其中焊接有上述陰影掩模的上述主框架的強(qiáng)度低于高溫破壞強(qiáng)度的72％，并且還低于室溫破壞強(qiáng)度的65％。
全文摘要
本發(fā)明涉及到彩色陰極射線管(CRT)的一種蔭罩組件。本發(fā)明具體涉及到彩色陰極射線管的一種蔭罩組件，其中調(diào)節(jié)主框架的厚度，寬度和高度與陰影掩模厚度的比例，從而防止對(duì)陰影掩模施加拉力的主框架因高溫處理過程中的蠕動(dòng)而變形，減小施加在陰影掩模上的拉力的減少量。本發(fā)明公開了一種彩色陰極射線管的蔭罩組件。彩色陰極射線管包括由焊接在陰影掩模上用于面向面板支撐所述陰影掩模的主框架和支撐所述主框架的副框架組成的一個(gè)框架，其中滿足T/t≥45，W/t≥270和H/t≥270的關(guān)系，t是陰影掩模的厚度，T是主框架焊接在陰影掩模上的那一部分的厚度，W是附著在框架的副框架上的那一部分的寬度，而H是主框架從上述陰影掩模到副框架的長(zhǎng)度。
文檔編號(hào)H01J29/07GK1427440SQ0212221
公開日2003年7月2日 申請(qǐng)日期2002年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2001年5月31日
發(fā)明者黃仁赫 申請(qǐng)人:Lg飛利浦顯示器(韓國)株式會(huì)社