卻裝置在附圖中僅示意性示出。這使得可至少盡可能保持框架43的溫度恒定。為此，冷卻裝置48可包括控制電路。熱聯(lián)接到冷卻裝置48可通過(guò)固態(tài)連接或通過(guò)氣體界面或液體界面來(lái)實(shí)現(xiàn)。冷卻裝置48還可實(shí)施為簡(jiǎn)單的冷源或散熱片。
[0118]特別地，框架43的尺寸足夠大，以保證框架43內(nèi)的溫度梯度小到可忽略不計(jì)。
[0119]特別地，框架43的熱容量為光學(xué)元件45的熱容量大小的至少10倍、尤其至少100倍。
[0120]優(yōu)選地，框架43由一個(gè)或多個(gè)材料構(gòu)成，該材料的導(dǎo)熱性為至少100W/(mK)、尤其至少200W/(mK)、尤其至少300W/(mK)。這些指標(biāo)涉及0°C的溫度?？蚣?3可尤其由一個(gè)或多個(gè)這種材料構(gòu)成。特別地，銅、鋁、金鋼石或碳化硅適用于框架43的材料。
[0121]此外，框架43很穩(wěn)定，以至于其不會(huì)因光學(xué)元件45的熱應(yīng)力而扭曲?？蚣?3尤其實(shí)施為其在橫向方向44上的線(xiàn)性膨脹為至多0.01%、尤其至多0.001%、尤其至多0.0001%，即使在光學(xué)元件45在橫向方向44上的線(xiàn)性膨脹高達(dá)1%的情況下也如此?？蚣?3尤其實(shí)施成固定在框架43上或中的光學(xué)元件45的邊緣即使在熱負(fù)荷下仍保持固定。
[0122]光學(xué)元件45在橫向方向44上通過(guò)穩(wěn)定框架43的固定減少了尤其是遮擋元件41在橫向方向44上的最大可能偏移。因此，可以減少對(duì)傳輸損耗的溫度影響和外部光線(xiàn)的增加。
[0123]優(yōu)選地，框架43具有低熱膨脹?？蚣苡绕溆梢粋€(gè)或多個(gè)具有低線(xiàn)性膨脹系數(shù)的材料構(gòu)成。優(yōu)選地，光學(xué)元件45也由具有低線(xiàn)性膨脹系數(shù)的材料構(gòu)成。
[0124]下面參考圖8a和8b說(shuō)明布置在框架43中的光學(xué)元件45的功能。在冷態(tài)下，即在室溫20°C下，具有遮擋元件41的格柵46在邊緣上以平面方式夾在框架43中(見(jiàn)圖8a)。如果格柵46，尤其是遮擋元件41被引導(dǎo)入使用輻射10的光路中，則遮擋元件可因?qū)κ褂幂椛?0的吸收而變熱。對(duì)光學(xué)元件45的加熱導(dǎo)致熱膨脹。然而，由于光學(xué)元件45由于框架43而不會(huì)自由地膨脹，所以機(jī)械應(yīng)力由于過(guò)濾材料的熱膨脹而積聚。從臨界溫度開(kāi)始，所述應(yīng)力變得很高，使得光學(xué)元件45在傳播方向40上或在相反方向上凸起。還可預(yù)先確定限定的預(yù)定彎曲位置，其導(dǎo)致光學(xué)元件45在這些限定位置處彎曲。光學(xué)元件45在傳播方向40上或在與其相反方向上的凸起或彎曲導(dǎo)致遮擋元件41在垂直于傳播方向40的方向上(尤其在橫向方向44上)的偏移減少。遮擋元件41由此在垂直于傳播方向40的方向上以最大可能程度保持固定。
[0125]可顯示出，遮擋元件41在橫向方向上的定位基本上保持不變，只要光學(xué)元件45維持圖8a所示平面狀態(tài)即可。還可顯示出，與在一側(cè)夾住的光學(xué)元件45相比，由于光學(xué)元件45在框架43中的固定和光學(xué)元件45在傳播方向40或相反方向上的凸起，遮擋元件41在橫向方向44上的最大偏移可減少多于50%、尤其多于60%、尤其多于70%。
[0126]在上述示例性實(shí)施例中，光學(xué)元件45是封鎖濾波器36的一部分。然而，本發(fā)明總體上可用于由可彎曲的膜或板構(gòu)成或者包括膜或板的光學(xué)元件，以減少在垂直于傳播方向40的方向上的最大局部偏移。光學(xué)元件45可尤其包括相位或振幅濾波器，即強(qiáng)度濾波器，或者如此實(shí)施。光學(xué)元件45還可包括光譜濾波器或如此實(shí)施。
[0127]包括框架43和光學(xué)元件45的光學(xué)部件可有利地與微反射鏡陣列37組合，以形成光學(xué)組合裝置。光學(xué)部件可尤其與分面反射鏡組合以形成光學(xué)組合裝置。優(yōu)選地，在該情況下，每個(gè)輻射非透射遮擋元件41分配給微反射鏡陣列37的精確的一個(gè)微反射鏡39。然而，還可在各情況下將遮擋元件41的一個(gè)或多個(gè)分配給彼此鄰近布置的兩個(gè)或更多個(gè)微反射鏡39 ο
[0128]光學(xué)部件借助安裝框架布置在光學(xué)系統(tǒng)中，尤其是投射曝光設(shè)備1的照明光學(xué)單元4中。光學(xué)部件可尤其布置在場(chǎng)分面反射鏡13和光瞳分面反射鏡14之間的光路中。原則上，光學(xué)部件還可布置在輻射源3和場(chǎng)分面反射鏡13之間的光路中，尤其布置在中間焦平面12和場(chǎng)分面反射鏡13之間的光路中，或者布置在光瞳分面反射鏡14和物場(chǎng)15之間的光路中。還可將多個(gè)這種部件布置在投射曝光設(shè)備1的照明光學(xué)單元4中。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.用于有目標(biāo)地遮擋微反射鏡陣列的單獨(dú)微反射鏡的光學(xué)部件(36)，包括: a.至少一個(gè)光學(xué)元件(45)，關(guān)于第一方向(40)橫向地延伸；以及 b.框架(43)，用于安裝所述光學(xué)元件(45)， c.其中，所述光學(xué)元件(45)在所述第一方向(40)的方向上在中心區(qū)域中是自由可接近的， d.其中，在相對(duì)于垂直于所述第一方向(40)取向的橫向方向(44)相對(duì)定位的至少兩個(gè)位置處，所述光學(xué)元件(45)由所述框架(43)在所述橫向方向(44)上固定，并且 e.其中，所述框架(43)實(shí)施為其在所述橫向方向(44)上具有至多0.01%的線(xiàn)性膨脹，即使所述光學(xué)元件在所述橫向方向(44)上的線(xiàn)性膨脹高達(dá)1%也如此。2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)部件(36)，其特征在于，所述光學(xué)元件(45)以膜狀方式實(shí)施。3.如上述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的光學(xué)部件(36)，其特征在于，所述光學(xué)元件(45)實(shí)施為相位和/或強(qiáng)度濾波器。4.如上述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的光學(xué)部件(36)，其特征在于，所述光學(xué)元件(45)包括至少區(qū)域性的輻射透射載體(46)，輻射非透射區(qū)域(41)布置在所述至少區(qū)域性的輻射透射載體上。5.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)部件(36)，其特征在于，所述光學(xué)元件(45)包括格柵(46)，所述格柵具有寬度處于Ιμπι至ΙΟΟμπι的范圍中的連接片(47)。6.如上述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的光學(xué)部件(36)，其特征在于，所述框架(43)沿所述第一方向(40)的厚度為所述光學(xué)元件(45)的厚度大小的至少十倍。7.如上述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的光學(xué)部件(36)，其特征在于，所述框架(43)熱聯(lián)接到冷卻裝置(48)。8.如上述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的光學(xué)部件(36)，其特征在于，所述框架(43)的熱容量為所述光學(xué)元件(45)的熱容量大小的至少十倍。9.如上述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的光學(xué)部件(36)，其特征在于，所述框架(43)包括具有至少10 0 W/ (mK)的導(dǎo)熱性的材料。10.光學(xué)組合裝置，包括: a.微反射鏡陣列(37; 13，14; 26，28)，具有多個(gè)微反射鏡(39; 27，29);以及 b.如上述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的光學(xué)部件(36)， c.其特征在于，所述輻射非透射區(qū)域(41)中的每一個(gè)分別分配給一個(gè)微反射鏡(39 ;27，29)或彼此鄰近的多個(gè)微反射鏡(39; 27，29)。11.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)組合裝置，其特征在于，所述輻射非透射區(qū)域(41)中的每一個(gè)分配給精確的一個(gè)微反射鏡(39; 27，29)。12.投射曝光設(shè)備(1)的照明光學(xué)單元(4)，包括如權(quán)利要求10或11所述的光學(xué)組合裝置。13.投射曝光設(shè)備(1)的照明系統(tǒng)(2)，包括如權(quán)利要求12所述的照明光學(xué)單元(4)和EUV輻射源(3)。14.微光刻的投射曝光設(shè)備(1)，包括: a.如權(quán)利要求12所述的照明光學(xué)單元(4);以及 b.投射光學(xué)單元(7)。15.制造微結(jié)構(gòu)或納米結(jié)構(gòu)部件的方法，包括以下步驟: a.提供如權(quán)利要求14所述的投射曝光設(shè)備(1); b.提供基底，其至少被部分地施加由光敏材料構(gòu)成的層； c.提供具有要成像的結(jié)構(gòu)的掩模母版(30); d.通過(guò)所述投射曝光設(shè)備(1)將所述掩模母版(30)的至少一部分投射在所述光敏層的區(qū)域上； e.顯影曝光的光敏層。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及一種光學(xué)部件(36)。在所述光學(xué)部件(36)中，光學(xué)元件(45)在橫向方向(44)上固定在框架(43)中，所述框架(43)設(shè)計(jì)為其在橫向方向(44)上的線(xiàn)性膨脹為至多0.01％，即使在光學(xué)元件(45)在橫向方向(44)上的線(xiàn)性膨脹高達(dá)1％也如此。
【IPC分類(lèi)】G02B26/08, G03F1/22, G03F7/20
【公開(kāi)號(hào)】CN105474100
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480045507
【發(fā)明人】J.艾森門(mén)格
【申請(qǐng)人】卡爾蔡司Smt有限責(zé)任公司
【公開(kāi)日】2016年4月6日
【申請(qǐng)日】2014年7月7日
【公告號(hào)】DE102013213842A1, US20160109807, WO2015007557A1