一種曝光設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種曝光設(shè)備，尤其涉及一種接近式曝光設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，現(xiàn)有的接近式曝光設(shè)備在曝光過程中，其曝光精度會(huì)受到環(huán)境溫度、光罩(Mask)形變以及曝光承載平臺(tái)平坦度等因素的影響。
[0003]而在現(xiàn)有的液晶面板的制作過程中，通常利用接近式曝光設(shè)備在玻璃基板上曝光形成預(yù)定圖案。由于現(xiàn)有的接近式曝光設(shè)備的曝光精度受到上述因素的影響，所以利用這樣的接近式曝光設(shè)備在玻璃基板上曝光形成的預(yù)定圖案的周邊會(huì)出現(xiàn)不規(guī)則的現(xiàn)象。這樣，在之后的對盒形成液晶面板的過程中，陣列基板上的薄膜晶體管與彩色濾光片基板上的像素之間會(huì)出現(xiàn)偏差，當(dāng)這個(gè)偏差達(dá)到3 μπι以上時(shí)，對盒形成的液晶面板就會(huì)出現(xiàn)漏光和對比度下降等不良現(xiàn)象，嚴(yán)重影響產(chǎn)品的品質(zhì)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，本發(fā)明的目的在于提供一種曝光設(shè)備，光照射系統(tǒng)，用于照射出光線；光優(yōu)化系統(tǒng)，用于接收所述光線，并對所述光線進(jìn)行光線均勻化；光會(huì)聚系統(tǒng)，用于接收經(jīng)光線均勻化后的光線，并對經(jīng)光線均勻化后的光線進(jìn)行會(huì)聚；微位移調(diào)整系統(tǒng)，用于對所述光會(huì)聚系統(tǒng)的邊緣區(qū)域進(jìn)行微位移調(diào)整，從而對處于所述光會(huì)聚系統(tǒng)的邊緣區(qū)域的光線進(jìn)行光路調(diào)整；光反射系統(tǒng)，用于接收經(jīng)會(huì)聚后的光線，并將經(jīng)會(huì)聚后的光線反射至曝光面。
[0005]進(jìn)一步地，所述光會(huì)聚系統(tǒng)為球面聚光鏡。
[0006]進(jìn)一步地，所述微位移調(diào)整系統(tǒng)為壓電陶瓷微位移驅(qū)動(dòng)器；其中，在所述球面聚光鏡的各角落處及各邊中心位置處均設(shè)置壓電陶瓷微位移驅(qū)動(dòng)器。
[0007]進(jìn)一步地，所述球面聚光鏡的各角落處的壓電陶瓷微位移驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)所述球面聚光鏡的各角落在具有預(yù)定半徑的圓形區(qū)域內(nèi)微位移移動(dòng)。
[0008]進(jìn)一步地，所述預(yù)定半徑不大于1.4 μ m。
[0009]進(jìn)一步地，所述球面聚光鏡的各邊中心位置處的壓電陶瓷微位移驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)所述球面聚光鏡的各邊在具有預(yù)定距離范圍的直線區(qū)域內(nèi)微位移移動(dòng)。
[0010]進(jìn)一步地，所述預(yù)定距離范圍不小于-1.4 μπι且不大于1.4 μπι。
[0011]進(jìn)一步地，所述光照射系統(tǒng)包括:聚光罩，其截面形狀呈拋物線形；光源，設(shè)置于所述拋物線的頂點(diǎn)處；其中，所述聚光罩對所述光源產(chǎn)生的光線進(jìn)行會(huì)聚；第一反射鏡，用于將經(jīng)所述聚光罩會(huì)聚后的光線反射至所述光優(yōu)化系統(tǒng)。
[0012]進(jìn)一步地，所述光優(yōu)化系統(tǒng)包括:控制開關(guān)，用于根據(jù)控制指令打開或關(guān)閉；集光器，用于當(dāng)所述控制開關(guān)打開時(shí)，對經(jīng)由處于打開狀態(tài)的所述控制開關(guān)通過的光線進(jìn)行光線均勻化。
[0013]進(jìn)一步地，所述光反射系統(tǒng)包括:第二反射鏡，用于接收經(jīng)所述光會(huì)聚系統(tǒng)會(huì)聚后的光線，并將經(jīng)會(huì)聚后的光線反射至曝光面；照度計(jì)，設(shè)置于所述第二反射鏡之下，用于量測照射至所述第二反射鏡的光線的照度。
[0014]本發(fā)明的有益效果:在聚光鏡的各角落處和各邊的中心位置處設(shè)置壓電陶瓷微位移驅(qū)動(dòng)器，利用該壓電陶瓷微位移驅(qū)動(dòng)器對聚光鏡的角落及邊緣進(jìn)行微位移調(diào)整，使得處于聚光鏡的邊緣區(qū)域中的光線的光路被進(jìn)行微調(diào)節(jié)，優(yōu)化了照射到光罩上的部分光路，實(shí)現(xiàn)對曝光精度的補(bǔ)正。利用根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的曝光設(shè)備在玻璃基板上曝光形成預(yù)定圖案時(shí)，可以適當(dāng)修正預(yù)定圖案的位置，從而在對盒形成液晶面板時(shí)，陣列基板上的薄膜晶體管與彩色濾光片基板上的像素之間出現(xiàn)的偏差減小或者不會(huì)出現(xiàn)偏差，進(jìn)而使對盒形成的液晶面板不出現(xiàn)漏光現(xiàn)象，以提升產(chǎn)品的品質(zhì)。
【附圖說明】
[0015]通過結(jié)合附圖進(jìn)行的以下描述，本發(fā)明的實(shí)施例的上述和其它方面、特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)將變得更加清楚，附圖中:
[0016]圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的曝光設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的利用壓電陶瓷微位移驅(qū)動(dòng)器對球面聚光鏡進(jìn)行微位移調(diào)整的示意圖；
[0018]圖3是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的曝光光線被微調(diào)整前后的對曝光圖案的修正示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0019]以下，將參照附圖來詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例。然而，可以以許多不同的形式來實(shí)施本發(fā)明，并且本發(fā)明不應(yīng)該被解釋為限制于這里闡述的具體實(shí)施例。相反，提供這些實(shí)施例是為了解釋本發(fā)明的原理及其實(shí)際應(yīng)用，從而使本領(lǐng)域的其他技術(shù)人員能夠理解本發(fā)明的各種實(shí)施例和適合于特定預(yù)期應(yīng)用的各種修改。
[0020]在附圖中，相同的標(biāo)號在整個(gè)說明書和附圖中可用來表示相同的元件。
[0021]將理解的是，盡管在這里可使用術(shù)語“第一”、“第二”等來描述各種元件，但是這些元件不應(yīng)受這些術(shù)語的限制。這些術(shù)語僅用于將一個(gè)元件與另一個(gè)元件區(qū)分開來。
[0022]圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的曝光設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]參照圖1，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的曝光設(shè)備包括:光照射系統(tǒng)10、光優(yōu)化系統(tǒng)20、光會(huì)聚系統(tǒng)30、微位移調(diào)整系統(tǒng)40以及光反射系統(tǒng)50。
[0024]光照射系統(tǒng)10照射出光線L。進(jìn)一步地，在本實(shí)施例中，光照射系統(tǒng)10照射出的光線L為紫外光線，但本發(fā)明并不限制于此。
[0025]光優(yōu)化系統(tǒng)20接收光照射系統(tǒng)10照射出的光線L，并對所述光線L進(jìn)行照度均勻及光線均一。光優(yōu)化系統(tǒng)20將經(jīng)照度均勻和光線均一后的光線L出射至光會(huì)聚系統(tǒng)30。
[0026]光會(huì)聚系統(tǒng)30接收光優(yōu)化系統(tǒng)20出射的經(jīng)照度均勻和光線均一后的光線L，并對經(jīng)照度均勻和光線均一后的光線L進(jìn)行會(huì)聚。
[0027]在光會(huì)聚系統(tǒng)30對經(jīng)照度均勻和光線均一后的光線L進(jìn)行會(huì)聚之時(shí)或之后，微位移調(diào)整系統(tǒng)40對光會(huì)聚系統(tǒng)30的邊緣區(qū)域進(jìn)行微位移調(diào)整，從而完成對處于光會(huì)聚系統(tǒng)30的邊緣區(qū)域的經(jīng)會(huì)聚后的光線L進(jìn)行調(diào)整。應(yīng)當(dāng)說明的是，在這個(gè)調(diào)整過程中，微位移調(diào)整系統(tǒng)40不會(huì)產(chǎn)生對光會(huì)聚系統(tǒng)30的中心區(qū)域的微位移調(diào)整，從而也就不會(huì)產(chǎn)生對處于光會(huì)聚系統(tǒng)30的中心區(qū)域的經(jīng)會(huì)聚后的光線L的調(diào)整，進(jìn)而能夠保證處于光會(huì)聚系統(tǒng)30的中心區(qū)域的經(jīng)會(huì)聚后的光線L的光量，即能夠保證中心光路的光線L的光量。光會(huì)聚系統(tǒng)30將經(jīng)會(huì)聚后的光線L(其中包括經(jīng)微位移調(diào)整系統(tǒng)40調(diào)整的光線L)出射至光反射系統(tǒng)50。
[0028]光反射系統(tǒng)50接收光會(huì)聚系統(tǒng)30出射的經(jīng)會(huì)聚后的光線L，并將經(jīng)會(huì)聚后的光線L反射至光罩(即曝光面)60。
[0029]具體地，在本實(shí)施例中，照射光系統(tǒng)10包括:聚光罩11、光源12及第一反射鏡13。聚光罩11的截面形狀呈拋物線形，光源12設(shè)置于拋物線的頂點(diǎn)處。在本實(shí)施例中，優(yōu)選地，光源12采用超高壓水銀燈泡，但本發(fā)明并不限制于此。光源12產(chǎn)生的光線L經(jīng)聚光罩11會(huì)聚后出射至第一反射鏡13，第一反射鏡13對經(jīng)聚光罩11會(huì)聚后的光線L反射出射至光優(yōu)化系統(tǒng)20。
[0030]光優(yōu)化系統(tǒng)20包括:控制開關(guān)21及集光器22。在本實(shí)施例中，控制開關(guān)21可根據(jù)控制指令(其可由曝光設(shè)備的控制系統(tǒng)發(fā)出)打開或關(guān)閉；其中，當(dāng)控制開關(guān)21根據(jù)打開控制指令打開時(shí)，光線L經(jīng)由控制開關(guān)21通過。光線L經(jīng)由處于打開狀態(tài)的控制開關(guān)21通過后，照射到集光器22上，集光器22對光線L進(jìn)行照度均勻和光線均一。集光器22將經(jīng)照度均勻和光線均一后的光線L出射至光會(huì)聚系統(tǒng)30。
[0031]在本實(shí)施例中，優(yōu)選地，光會(huì)聚系統(tǒng)30由聚光鏡構(gòu)成，該聚光鏡可例如是球面聚光鏡，但本發(fā)明并不限制于此；例如，光會(huì)聚系統(tǒng)30也可以是其他合適類型的能夠會(huì)聚光的元器件構(gòu)成。球面聚光鏡30接收集光器22出射的經(jīng)照度均勻和光線均一后的光線L，并對經(jīng)照度均勻和光線均一后的光線L進(jìn)行會(huì)聚。
[0032]在本實(shí)施例中，優(yōu)選地，微位移調(diào)整系統(tǒng)40由壓電陶瓷微位移驅(qū)動(dòng)器構(gòu)成，但本發(fā)明并不限制于此；例如，微位移調(diào)整系統(tǒng)40也可以由其他合適類型的能夠?qū)η蛎婢酃忡R30的局部進(jìn)行微小位移調(diào)整的元器件。
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