一種彩膜基板的制備方法、顯示面板、顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種彩膜基板的制備方法、顯示面板、顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來，隨著數(shù)字電視的普及，傳統(tǒng)“陰極射線顯像管顯示器由于其數(shù)字化困難，以及體積大，重量大，有輻射等缺點，已經(jīng)出現(xiàn)了被新一代顯示技術(shù)取代的趨勢，代表性的顯示技術(shù)有等離子顯示、有機電激光顯示、液晶顯示等，其中液晶顯示由于具有重量輕、體積薄、無輻射、低耗電、顯示效果好等優(yōu)點已經(jīng)開始大量的普及，成為主流產(chǎn)品。
[0003]液晶顯示面板包括陣列基板和彩膜基板以及設(shè)置在陳列基板和彩膜基板之間的液晶層；背光源發(fā)出的光從陣列基板側(cè)入射，通過陣列基板控制液晶層的偏轉(zhuǎn)后選擇性的將光透過、經(jīng)過彩膜基板后合成相應(yīng)顏色像素的光。
[0004]在制備液晶顯示面板是通常需要將陣列基板和彩膜基板進行對盒，從而將液晶層密封在陣列基板和彩膜基板之間。但是，由于液晶層需要預(yù)先取向，因此在彩膜基板的入光側(cè)(靠近液晶層的一側(cè))需要形成取向?qū)樱∠驅(qū)拥娜∠蛞话悴捎媚Σ寥∠?，但光照配向法具有取向簡單的?yōu)勢，發(fā)展勢頭迅猛，大有徹底替換常規(guī)摩擦取向的趨勢。
[0005]目前常用光照配向法有光降解、光異構(gòu)、光聚合型等方式，其中，光降解型取向?qū)拥膽?yīng)用較為廣泛。但是由于彩膜出光側(cè)的功能層制備完成后，上述光降解型取向?qū)邮峭扛苍诓誓せ宓某鋈牍鈧?cè)功能層上，由于彩膜基板的出入光側(cè)功能層多數(shù)都是采用有機材料制備的，包括對紫外光敏感的易分解基團；
[0006]在對光降解型取向?qū)舆M行光照配向時，這些對紫外光敏感的易分解基團也會發(fā)生降解，但由于光降解型取向?qū)拥母采w無法及時釋放出來，在后續(xù)彩膜基板和陣列基板對盒后，逐步釋放進入到液晶層中形成異物亮點、嚴重的影響了畫面的品質(zhì)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的目的是解決現(xiàn)有技術(shù)的彩膜基板的制備方法、顯示面板、顯示裝置中在對取向?qū)舆M行紫外光照取向時，在取向?qū)又爸苽涞挠袡C材料功能層發(fā)生降解、并逐步釋放到液晶層中產(chǎn)生異物亮點的問題。
[0008]解決本發(fā)明技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種彩膜基板的制備方法，包括:
[0009]對在襯底上通過構(gòu)圖工藝依次形成的出光側(cè)的功能層進行第一次紫外光輻照和加熱處理的步驟，用于去除所述功能層中有機材料由于紫外照射產(chǎn)生的分解物；
[0010]在所述功能層上形成取向?qū)拥牟襟E；
[0011]對所述取向?qū)舆M行第二次紫外光輻照進行取向的步驟。
[0012]優(yōu)選的，所述功能層包括:彩膜層以及與所述彩膜層同層設(shè)置的黑矩陣層；及在設(shè)置所述彩膜層上依次設(shè)置的平坦化層、對盒支撐層。
[0013]優(yōu)選的，所述第一次紫外光輻照和第二次紫外光輻照的紫外光的波長相同。
[0014]優(yōu)選的，所述第一次紫外光輻照和第二次紫外光輻照的紫外光的波長范圍為150_350nm。
[0015]優(yōu)選的，所述第一次紫外光輻照的照度大于等于所述第二次紫外光輻照的照度。
[0016]優(yōu)選的，所述第二次紫外光輻照的照度范圍為200-1000勒克斯。
[0017]優(yōu)選的，所述加熱處理的溫度范圍為200_250°C。
[0018]優(yōu)選的，所述加熱處理的加熱時間范圍為10-60min。
[0019]優(yōu)選的，還包括對經(jīng)過取向的取向?qū)舆M行烘干的步驟。
[0020]優(yōu)選的，所述烘干的溫度小于所述加熱處理的溫度。
[0021]優(yōu)選的，所述的第一次紫外光輻照采用第一紫外光源；所述第二次紫外光輻照采用能發(fā)射線性偏振光的第二紫外光源。
[0022]本發(fā)明的另一個目的還包括提供一種顯示面板，包括彩膜基板，所述彩膜基板是采用上述的彩膜基板的制備方法制備的。
[0023]本發(fā)明的另一個目的還包括提供一種顯示裝置，包括上述的顯示面板。
[0024]本發(fā)明的彩膜基板的制備方法、顯示面板、顯示裝置，通過在形成取向?qū)又皩Σ誓せ宄龉鈧?cè)的功能層進行第一次紫外光輻照和加熱處理的步驟，能夠使功能層中有機材料由于紫外照射產(chǎn)生的分解物揮發(fā)、從而去除，不會在涂覆取向?qū)雍蟆⒃谳椪杖∠驎r受到紫外輻照在陣列基板和彩膜基板對盒后逐步釋放到液晶層中形成異物亮點、從而影響顯示面板的顯不品質(zhì)。
【附圖說明】
[0025]圖1為本發(fā)明實施例1中形成出光側(cè)的功能層后彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026]圖2為本發(fā)明實施例1中對彩膜基板的進行第一次紫外光輻照的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0027]圖3為本發(fā)明實施例1中對取向?qū)幼贤夤廨椪杖∠驎r的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0028]其中:
[0029]1.襯底；2.黑矩陣層；3.彩膜層；4.平坦化層；5.對盒支撐層；6.加熱板；7.取向?qū)印?br>【具體實施方式】
[0030]為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】對本發(fā)明作進一步詳細描述。
[0031]實施例1
[0032]如圖1-3所示，本實施例提供彩膜基板的制備方法，其特征在于，包括:
[0033]對在襯底I上通過構(gòu)圖工藝依次形成的出光側(cè)的功能層進行第一次紫外光輻照和加熱處理的步驟，用于去除所述功能層中有機材料由于紫外照射產(chǎn)生的分解物；
[0034]在所述功能層上形成取向?qū)?的步驟；
[0035]對所述取向?qū)?進行第二次紫外光輻照進行取向的步驟。
[0036]本實施例中通過在形成取向?qū)?之前對彩膜基板出光側(cè)的功能層進行第一次紫外光輻照和加熱處理的步驟，能夠使功能層中有機材料由于紫外照射產(chǎn)生的分解物揮發(fā)、從而去除，不會在涂覆取向?qū)?后、在輻照取向時受到紫外輻照在陣列基板和彩膜基板對盒后逐步釋放到液晶層中形成異物亮點、從而影響顯示面板的顯示品質(zhì)。
[0037]具體地、采用以下步驟制備彩膜基板:
[0038]S1:在襯底I上通過構(gòu)圖工藝依次形成的出光側(cè)的功能層
[0039]如圖1所示，在襯底I上通過構(gòu)圖工藝依次形成的出光側(cè)的功能層，優(yōu)選的，所述功能層包括:彩膜層3以及與所述彩膜層3同層設(shè)置的黑矩陣層2 ;及在設(shè)置所述彩膜層3上依次設(shè)置的平坦化層4、對盒支撐層5。
[0040]應(yīng)當理解的是，由于彩膜基板的具體結(jié)構(gòu)可能會有變化，上述功能層還可以包括其它膜層，在此不作限定。
[0041]通過構(gòu)圖工藝形成上述功能層是現(xiàn)有技術(shù)范疇在此不再一一贅述。
[0042]S2:對上述的功能層進行第一次紫外光輻照和加熱處理的步驟，用于去除所