專利名稱：用于光致抗蝕劑的交聯(lián)單體,及使用其制備光致抗蝕劑聚合物的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于光致抗蝕劑聚合物的交聯(lián)單體，及使用其制備光致抗蝕劑聚合物的方法。更具體地說，本發(fā)明涉及用于能明顯改善光致抗蝕劑共聚物的聚合比例的光致抗蝕劑聚合物的交聯(lián)單體，及使用其制備光致抗蝕劑共聚物的方法。
近來，化學(xué)放大型DUV(深紫外)光致抗蝕劑已被證明在半導(dǎo)體制造的制備微線路方法上具有非常高的敏感性。這些光致抗蝕劑是將光酸產(chǎn)生劑與具有酸不穩(wěn)定結(jié)構(gòu)的聚合物基質(zhì)大分子混合而制備的。
依據(jù)這樣一種光致抗蝕劑的反應(yīng)機(jī)制，當(dāng)受到光源照射時(shí)光酸產(chǎn)生劑會產(chǎn)生酸，聚合物基質(zhì)的主鏈或支鏈上的曝光部分和所產(chǎn)生的酸反應(yīng)，因而分解或交聯(lián)，如此聚合物的極性會明顯地改變。這種極性改變會導(dǎo)致在顯影溶液中曝光區(qū)或未曝光區(qū)溶解度的不同，因此在基材上形成一正或負(fù)掩模圖像。
在一些光致抗蝕劑中，在聚合物的主鏈或支鏈上的官能基是與基質(zhì)中其它聚合物的主鏈或支鏈產(chǎn)生交聯(lián)的，因此，可在光致抗蝕劑中加入一交聯(lián)劑以促進(jìn)聚合物間的交聯(lián)。
然而，交聯(lián)單體也可用于促進(jìn)組成光致抗蝕劑聚合物單體間的鏈結(jié)，如此可增加光致抗蝕劑聚合物的產(chǎn)率。例如，當(dāng)在聚合反應(yīng)時(shí)使用20克的單體，而沒有使用交聯(lián)劑，約可產(chǎn)生分子量約6000的聚合物4.8克(產(chǎn)率24％)。當(dāng)單體的數(shù)量增加至40克時(shí)，所得聚合物的數(shù)量只有約6克(即產(chǎn)率突然降低至約15％)，如此，為了大量制備光致抗蝕劑聚合物，必須使用一交聯(lián)單體，以增加產(chǎn)率及可商業(yè)化生產(chǎn)光致抗蝕劑聚合物。
本發(fā)明的目的是提供一種用于光致抗蝕劑聚合物的交聯(lián)單體，其能明顯地改善光致抗蝕劑聚合物的聚合產(chǎn)率。
本發(fā)明的另一目的是提供一種使用所述交聯(lián)單體制備光致抗蝕劑聚合物的方法，及由其所制得的光致抗蝕劑聚合物。
本發(fā)明的另一目的是提供使用上述交聯(lián)單體所形成的聚合物制備而得的光致抗蝕劑組合物。
本發(fā)明的又另一目的是提供使用上述光致抗蝕劑組合物所制得的半導(dǎo)體元件。


圖1是實(shí)施例3所得的光致抗蝕劑圖像；圖2是實(shí)施例4所得的光致抗蝕劑圖像。
為了達(dá)到上述的目的，本發(fā)明提供一種下述化學(xué)式1的交聯(lián)單體<化學(xué)式1>
其中R′和R″分別為氫或甲基；m是一從1至10的數(shù)；及R是選自直鏈或支鏈的C1-C10烷基，直鏈或支鏈的C1-C10酯，直鏈或支鏈的C1-C10酮，直鏈或支鏈的C1-C10羧酸，直鏈或支鏈的C1-C10縮醛，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10烷基，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10酯，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10酮，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10羧酸，及直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10縮醛。
為了達(dá)到本發(fā)明的另一目的，提供一種制備一光致抗蝕劑共聚物的方法，包括步驟(a)將兩種或多種光致抗蝕劑共聚單體及化學(xué)式1的交聯(lián)單體溶解于一有機(jī)溶劑中，及(b)向所得溶液中加入一種聚合引發(fā)劑或聚合催化劑，以誘發(fā)聚合反應(yīng)。
發(fā)明人進(jìn)行了大量深入細(xì)致的研究以達(dá)到本發(fā)明的上述目的，發(fā)現(xiàn)化學(xué)式1的化合物通過使光致抗蝕劑聚合物和另一聚合物交聯(lián)，而改善了聚合物的聚合產(chǎn)率。本發(fā)明的交聯(lián)單體對于改善具有脂環(huán)烯烴主鏈的共聚物的聚合產(chǎn)率特別有效。
化學(xué)式1所表示的化合物具有兩個(gè)雙鍵，且每一個(gè)雙鍵和其它光致抗蝕劑單體結(jié)合形成交聯(lián)，因此提高光致抗蝕劑聚合物的聚合產(chǎn)率。
化學(xué)式1的交聯(lián)單體優(yōu)選的是化學(xué)式2表示的1，3-丁二醇二丙烯酸酯或化學(xué)式3表示的1，4-丁二醇二丙烯酸酯
<化學(xué)式2>
<化學(xué)式3>
依據(jù)本發(fā)明，光致抗蝕劑聚合的方法是在合成傳統(tǒng)光致抗蝕劑共聚物的程序中向其它光致抗蝕劑單體中加入一種化學(xué)式1的交聯(lián)單體而完成。
例如，在由如下述化學(xué)式4的脂環(huán)族烯烴衍生物制備光致抗蝕劑共聚物的情況下，聚合反應(yīng)是由將兩種或多種化學(xué)式4的化合物及一種化學(xué)式1的交聯(lián)單體溶解于一種有機(jī)溶劑中，及向上述所得溶液中加入一種自由基引發(fā)劑或金屬催化劑以誘發(fā)聚合反應(yīng)
<化學(xué)式4>
其中k和n分別為1或2；p是0至5的數(shù)；R5和R6分別代表氫或甲基；R1，R2，R3和R4分別代表氫，直鏈或支鏈的C1-C10烷基，直鏈或支鏈的C1-C10酯，直鏈或支鏈的C1-C10酮，直鏈或支鏈的C1-C10羧酸，直鏈或支鏈的C1-C10縮醛，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10烷基，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10酯，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10酮，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10羧酸，及直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10縮醛。
該聚合反應(yīng)需要在溫度為60℃和130℃之間，及在氮?dú)饣驓鍤夥諌毫?.0001和5atm之間進(jìn)行。
本體聚合反應(yīng)或溶液聚合反應(yīng)也可用作聚合的方法，并且環(huán)己酮，甲基乙基酮，苯，甲苯，二噁烷，四氫呋喃，丙二醇甲基醚乙酸酯，和/或二甲基甲酰胺，或其混合物可用作聚合反應(yīng)溶劑。聚合反應(yīng)引發(fā)劑可為苯甲酰過氧化物，2，2′-偶氮二異丁腈(AIBN)，乙酰過氧化物，月桂基過氧化物，過乙酸叔丁基酯，叔丁基過氧化氫，二叔丁基過氧化物，或類似物。
依據(jù)本發(fā)明的聚合方法制得的所需光致抗蝕劑聚合物可由下述化學(xué)式5表示
其中k和n分別代表數(shù)字1或2；m代表一個(gè)從1至10的數(shù)；p代表從0至5的數(shù)；R′，R″，R5和R6分別代表氫或甲基；R是選自直鏈或支鏈的C1-C10烷基，直鏈或支鏈的C1-C10酯，直鏈或支鏈的C1-C10酮，直鏈或支鏈的C1-C10羧酸，直鏈或支鏈的C1-C10縮醛，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10烷基，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10酯，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10酮，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10羧酸，及直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10縮醛；R1，R2，R3和R4分別選自氫，直鏈或支鏈的C1-C10烷基，直鏈或支鏈的C1-C10酯，直鏈或支鏈的C1-C10酮，直鏈或支鏈的C1-C10羧酸，直鏈或支鏈的C1-C10縮醛，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10烷基，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10酯，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10酮，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10羧酸，及直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10縮醛；及a∶b∶c的比例優(yōu)選的是1-50摩爾％∶10-50摩爾％∶0.1-20摩爾％。
化學(xué)式5所代表的光致抗蝕劑聚合物的分子量優(yōu)選的是從3000至100000之間。
依據(jù)本發(fā)明所制得的光致抗蝕劑聚合物在照像制版的效能上和沒有交聯(lián)單體所形成的聚合物差別不大，然而，當(dāng)使用本發(fā)明的交聯(lián)單體時(shí)，聚合反應(yīng)的產(chǎn)率明顯地增加。
例如，在聚合反應(yīng)時(shí)，當(dāng)使用20克的共聚單體而沒有使用交聯(lián)劑，可得約4.8克的具有分子量約6000的聚合物(產(chǎn)率24％)。當(dāng)所述共聚單體的數(shù)量增加至40克時(shí)，所得聚合物的量只有約6克(亦即，當(dāng)使用更大量的反應(yīng)物時(shí)，產(chǎn)率突然降低至約15％)。因此，單純地只增加反應(yīng)物的量并不適合大量制造共聚物的方法。
另一方面，在使用本發(fā)明的交聯(lián)單體進(jìn)行相同的聚合反應(yīng)過程的情況下，聚合反應(yīng)時(shí)使用20克的共聚單體，可得約7克具有分子量約12000的聚合物(產(chǎn)率35％)；當(dāng)共聚單體增加至40克時(shí)，所得聚合物的量為約14克(產(chǎn)率35％，亦即在聚合反應(yīng)產(chǎn)率上沒有明顯的變化)。所得光致抗蝕劑共聚物的分子量為12000，其多分散性約為2。
如上所述，當(dāng)使用本發(fā)明的交聯(lián)單體進(jìn)行聚合反應(yīng)時(shí)可得到較高的產(chǎn)率，因此可大規(guī)模地制備光致抗蝕劑聚合物。
依據(jù)本發(fā)明，光致抗蝕劑組合物可通過將本發(fā)明的光致抗蝕劑聚合物和一種有機(jī)溶劑混合而制備，可使用的溶劑為環(huán)己酮，3-甲氧基丙酸甲酯，3-乙氧基丙酸乙酯，丙二醇甲基醚乙酸酯，乙酸2-甲氧基乙酯，2-庚酮，異丁基甲基酮，或其它傳統(tǒng)有機(jī)溶劑。
任意地，少量的光酸產(chǎn)生劑也可加入到該光致抗蝕劑組合物中。合適的光酸產(chǎn)生劑的例子包括硫化物或鎓型式的光酸產(chǎn)生劑，如六氟化磷酸二苯碘葎、六氟化砷酸二苯碘葎、六氟化銻酸二苯碘葎、三氟甲磺酸二苯基對甲氧基苯基酯、三氟甲磺酸二苯基對亞芐基酯、三氟甲磺酸二苯基對異丁基苯基酯、三氟甲磺酸二苯基對叔丁基苯基酯、六氟化磷酸三苯基锍、六氟化砷酸三苯基锍、六氟化銻酸三苯基锍、三氟甲磺酸三苯基锍、和三氟甲磺酸二丁基萘基锍，及類似物。
依據(jù)本發(fā)明所制得的光致抗蝕劑組合物可旋轉(zhuǎn)涂覆至硅干膠片上，以形成一薄光致抗蝕劑薄膜，然后在一烤箱或熱盤上以溫度70℃至200℃，優(yōu)選80℃至150℃“軟烤(soft-baked)”1至5分鐘，之后使用深紫外線曝光器或激元激光曝光器在成像光下曝光。所使用的光源也可為ArF，KrF，E-光束，X-射線，EUV(遠(yuǎn)紫外)，DUV(深紫外)，或類似光源，曝光光源的能量優(yōu)選的是從1至100毫焦耳/平方厘米。
然后，將此薄光致抗蝕劑薄膜在溫度10℃至200℃之間，優(yōu)選的是在100℃至200℃間，“后烘烤(post-baked)”，結(jié)果所得物質(zhì)再以2.38重％或2.5重％的TMAH顯像水溶液浸漬一預(yù)定的時(shí)間，優(yōu)選的是40秒鐘，如此可得一超微圖像。
具有高度集成的半導(dǎo)體元件可使用本發(fā)明的光致抗蝕劑圖像制造。
上述的說明只揭示了關(guān)于使用一種交聯(lián)單體制備一光致抗蝕劑共聚物或光致抗蝕劑組合物方法的某些具體的實(shí)施方式，必須了解的是本發(fā)明并不局限于這些例子，同時(shí)也包括了將本發(fā)明的交聯(lián)單體用于制備傳統(tǒng)光致抗蝕劑共聚物或光致抗蝕劑組合物的任何方法。
本發(fā)明將以下述實(shí)施例更詳細(xì)地描述，但必須提醒的是本發(fā)明并不局限于這些實(shí)施例。實(shí)施例1聚(順丁烯二酸酐/5-降冰片烯-2-羧酸2-羥基乙基酯/5-降冰片烯-2-羧酸叔丁基酯/5-降冰片烯-2-羧酸/1，3-丁二醇二丙烯酸酯)的合成首先將(i)5-降冰片烯-2-羧酸2-羥基乙基酯(0.1摩爾)，(ii)5-降冰片烯-2-羧酸叔丁基酯(0.85摩爾)，(iii)5-降冰片烯-2-羧酸(0.05摩爾)，(iv)1，3-丁二醇二丙烯酸酯(0.1摩爾)，其是化學(xué)式2范圍內(nèi)的交聯(lián)單體，及(v)順丁烯二酸酐(1.0摩爾)溶于四氫呋喃中。
向所得上述溶液中加入聚合反應(yīng)引發(fā)劑2，2′-偶氮二異丁腈(AIBN)(6.16克)，并且在氮?dú)饣驓鍤鈿夥罩?，以溫?7℃使混合物反應(yīng)10小時(shí)，所得聚合物從乙醚或己烷中沉淀出來，干燥后可得化學(xué)式6的聚(順丁烯二酸酐/5-降冰片烯-2-羧酸2-羥基乙基酯/5-降冰片烯-2-羧酸叔丁基酯/5-降冰片烯-2-羧酸/1，3-丁二醇二丙烯酸酯)(產(chǎn)率35％)<化學(xué)式6>
摩爾比例a1∶a2∶a3∶b∶c為0.405∶0.048∶0.024∶0.476∶0.047。實(shí)施例2聚(順丁烯二酸酐/5-降冰片烯-2-羧酸2-羥基乙基酯/5-降冰片烯-2-羧酸叔丁基酯/5-降冰片烯-2-羧酸/1，4-丁二醇二丙烯酸酯)的合成重復(fù)實(shí)施例1的步驟，但使用1，4-丁二醇二丙烯酸酯代替1，3-丁二醇二丙烯酸酯，如此可得化學(xué)式7的聚(順丁烯二酸酐/5-降冰片烯-2-羧酸2-羥基乙基酯/5-降冰片烯-2-羧酸叔丁基酯/5-降冰片烯-2-羥酸/1，4-丁二醇二丙烯酸酯)<化學(xué)式7>
摩爾比例a1∶a2∶a3∶b∶c為0.405∶0.048∶0.024∶0.476∶0.047。實(shí)施例3將實(shí)施例1所得的化學(xué)式6的光致抗蝕劑聚合物(3.57克)溶解于3-乙氧基丙酸乙酯中(25克)，并加入用作光酸產(chǎn)生劑的三氟甲磺酸三苯基锍(0.02克)，且以0.10μm的過濾器過濾所得混合物，以制得一光致抗蝕劑組合物。
將上述所制得的光致抗蝕劑組合物旋轉(zhuǎn)涂覆于硅干膠片上，且以110℃的溫度“軟烘烤”90秒鐘，然后用具有曝光能量0.1至40毫焦耳/平方厘米的ArF激光曝光器照射之后，以110℃的溫度再后烘烤該干膠片90秒。當(dāng)后烘烤完成后，將其置于2.38重％的TMAH水溶液中顯像40秒，可得0.14μm L/S的圖像(圖1)。實(shí)施例4重復(fù)實(shí)施例3的步驟，但使用實(shí)施例2制得的化學(xué)式7的光致抗蝕劑聚合物代替實(shí)施例1所得的聚合物，可形成一光致抗蝕劑圖像。圖2為0.14μm L/S的超微圖像。
權(quán)利要求
1.一種用于光致抗蝕劑聚合物的化學(xué)式1的交聯(lián)單體，<化學(xué)式1>
其中R′和R″分別為氫或甲基；m是一從1至10的數(shù)；及R是選自直鏈或支鏈的C1-C10烷基，直鏈或支鏈的C1-C10酯，直鏈或支鏈的C1-C10酮，直鏈或支鏈的C1-C10羧酸，直鏈或支鏈的C1-C10縮醛，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10烷基，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10酯，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10酮，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10羧酸，及直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10縮醛。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的交聯(lián)單體，該交聯(lián)單體選自化學(xué)式2及化學(xué)式3的化合物。<化學(xué)式2>
<化學(xué)式3>
3.一種光致抗蝕劑共聚物，該共聚物包括兩種或多種脂環(huán)族烯烴衍生物與根據(jù)權(quán)利要求1的交聯(lián)單體的聚合反應(yīng)產(chǎn)物。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的光致抗蝕劑共聚物，其中所述脂環(huán)族烯烴衍生物包括下式化學(xué)式4的化合物<化學(xué)式4>
其中k和n分別為1或2；p是0至5的數(shù)；R5和R6分別代表氫或甲基；R1，R2，R3和R4分別代表氫，直鏈或支鏈的C1-C10烷基，直鏈或支鏈的C1-C10酯，直鏈或支鏈的C1-C10酮，直鏈或支鏈的C1-C10羧酸，直鏈或支鏈的C1-C10縮醛，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10烷基，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10酯，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10酮，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10羧酸，及直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10縮醛。
5.根據(jù)權(quán)利要求3的光致抗蝕劑共聚物，其中所述聚合產(chǎn)物進(jìn)一步包括順丁烯二酸酐的重復(fù)單元。
6.根據(jù)權(quán)利要求3的光致抗蝕劑共聚物，該共聚物由下列化學(xué)式5所代表<化學(xué)式5>
其中k和n分別代表數(shù)字1或2；m代表一個(gè)從1至10的數(shù)；p代表從0至5的數(shù)；R′，R″，R5和R6分別代表氫或甲基；R是選自直鏈或支鏈的C1-C10烷基，直鏈或支鏈的C1-C10酯，直鏈或支鏈的C1-C10酮，直鏈或支鏈的C1-C10羧酸，直鏈或支鏈的C1-C10縮醛，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10烷基，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10酯，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10酮，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10羧酸，及直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10縮醛；R1，R2，R3和R4分別選自氫，直鏈或支鏈的C1-C10烷基，直鏈或支鏈的C1-C10酯，直鏈或支鏈的C1-C10酮，直鏈或支鏈的C1-C10羧酸，直鏈或支鏈的C1-C10縮醛，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10烷基，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10酯，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10酮，直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10羧酸，及直鏈或支鏈的含有至少一個(gè)羥基的C1-C10縮醛；及a∶b∶c的比例優(yōu)選的是1-50摩爾％∶10-50摩爾％∶0.1-20摩爾％。
7.根據(jù)權(quán)利要求6的光致抗蝕劑聚合物，該聚合物包括聚(順丁烯二酸酐/5-降冰片烯-2-羧酸2-羥基乙基酯/5-降冰片烯-2-羧酸叔丁基酯/5-降冰片烯-2-羧酸/1，3-丁二醇二丙烯酸酯)；或聚(順丁烯二酸酐/5-降冰片烯-2-羧酸2-羥基乙基酯/5-降冰片烯-2-羧酸叔丁基酯/5-降冰片烯-2-羧酸/1，4-丁二醇二丙烯酸酯)。
8.一種制備光致抗蝕劑共聚物的方法，該方法包括步驟(a)將兩種或多種光致抗蝕劑共聚單體及根據(jù)權(quán)利要求1的交聯(lián)單體溶解于一有機(jī)溶劑中，及(b)向所得溶液中加入一聚合引發(fā)劑或聚合催化劑，以誘發(fā)聚合反應(yīng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的制備光致抗蝕劑共聚物的方法，其中步驟(b)是在氮?dú)饣驓鍤夥罩逻M(jìn)行。
10.根據(jù)權(quán)利要求8的制備光致抗蝕劑共聚物的方法，其中步驟(b)是在溫度為60℃和130℃之間進(jìn)行。
11.根據(jù)權(quán)利要求8的制備光致抗蝕劑共聚物的方法，其中步驟(b)是在壓力為0.0001和5大氣壓之間進(jìn)行。
12.根據(jù)權(quán)利要求8的制備光致抗蝕劑共聚物的方法，其中用于聚合反應(yīng)的有機(jī)溶劑是一種或多種溶劑，選自環(huán)己酮，甲基乙基酮，苯，甲苯，二噁烷，四氫呋喃，丙二醇甲基醚乙酸酯，和二甲基甲酰胺。
13.根據(jù)權(quán)利要求8的制備光致抗蝕劑共聚物的方法，其中所述聚合反應(yīng)引發(fā)劑是一種或多種化合物，選自2，2′-偶氮二異丁腈(AIBN)，乙酰過氧化物，月桂基過氧化物，叔丁基過乙酸酯，叔丁基過氧化氫，叔丁基過氧化物。
14.一種光致抗蝕劑組合物，包括(i)一種根據(jù)權(quán)利要求3的光致抗蝕劑共聚物，及(ii)一種有機(jī)溶劑。
15.根據(jù)權(quán)利要求14的光致抗蝕劑組合物，該組合物還包括一種光酸產(chǎn)生劑。
16.根據(jù)權(quán)利要求15的光致抗蝕劑組合物，其中所述光酸產(chǎn)生劑是一種或多種化合物，選自六氟化磷酸二苯碘葎、六氟化砷酸二苯碘葎、六氟化銻酸二苯碘葎、三氟甲磺酸二苯基對甲氧基苯基酯、三氟甲磺酸二苯基對亞芐基酯、三氟甲磺酸二苯基對異丁基苯基酯、三氟甲磺酸二苯基對叔丁基苯基酯、六氟化磷酸三苯基锍、六氟化砷酸三苯基锍、六氟化銻酸三苯基锍、三氟甲磺酸三苯基锍、和三氟甲磺酸二丁基萘基锍。
17.一種形成光致抗蝕劑圖像的方法，該方法包括步驟(a)將根據(jù)權(quán)利要求14的光致抗蝕劑組合物涂覆至一干膠片上，步驟(b)使用曝光器將干膠片曝光于成像光下，及步驟(c)將曝光后的干膠片顯像。
18.根據(jù)權(quán)利要求17的形成光致抗蝕劑圖像的方法，其中步驟(b)是使用選自ArE，KrF，E-光束，X-射線，EUV(遠(yuǎn)紫外)及DUV(深紫外)的光源進(jìn)行。
19.根據(jù)權(quán)利要求18的方法，該方法還包括在(b)之前或之后的烘烤步驟。
20.根據(jù)權(quán)利要求19的方法，其中所述烘烤步驟是在溫度為50℃至200℃之間進(jìn)行。
21.根據(jù)權(quán)利要求17的方法，其中所述顯像步驟(c)是使用TMAH(四甲基氫氧化銨)水溶液進(jìn)行。
22.一種半導(dǎo)體元件，該元件是使用根據(jù)權(quán)利要求17的方法制得。
全文摘要
本發(fā)明揭示一種化學(xué)式1的交聯(lián)單體,使用該單體制備光致抗蝕劑聚合物的方法,及該光致抗蝕劑聚合物。
文檔編號G03F7/039GK1258670SQ9912668
公開日2000年7月5日 申請日期1999年12月24日 優(yōu)先權(quán)日1998年12月31日
發(fā)明者鄭載昌, 鄭旼鎬, 白基鎬, 孔根圭, 李根守 申請人:現(xiàn)代電子產(chǎn)業(yè)株式會社