本發(fā)明涉及顯影液濃度調(diào)配方法，特別涉及一種圖像顯影過程中顯影液濃度調(diào)配方法。
背景技術(shù)：
：顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)內(nèi)有濃度測量計(jì)和ABS測量計(jì)，顯影液濃度測量計(jì)由導(dǎo)電率計(jì)、超聲波濃度計(jì)和溫度計(jì)組成，SamplingPump從DeveloperTank內(nèi)取樣到顯影液濃度測量計(jì)和ABS測量計(jì)，其中導(dǎo)電率計(jì)和超聲波濃度計(jì)均能測量出氫氧化四甲銨(TMAH)、光阻PR和整體濃度，二者結(jié)合，計(jì)算出氫氧化四甲銨TMAH濃度(C1)及光阻的濃度(C2)；ABS測量計(jì)能夠測出光阻PR濃度(UVABS)，即可得的濃度,計(jì)算公式為：光阻PR濃度。在顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)的報(bào)警裝置中可以設(shè)置的濃度的上限，現(xiàn)在制程中所使用的濃度為2.38％顯影液中保持在1500ppm(即0.15％)時(shí)，顯影后的圖形臨界尺寸CD符合設(shè)定范圍值，所以在顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)報(bào)警裝置中設(shè)置為2000ppm(即0.2％)產(chǎn)生報(bào)警，超過2500ppm(即0.25％)則會(huì)產(chǎn)生報(bào)警使設(shè)備當(dāng)機(jī)。在顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)控制系統(tǒng)中SamplingPump會(huì)連續(xù)不斷的進(jìn)行取樣測量，當(dāng)測量濃度達(dá)到2500ppm(即0.25％)時(shí)開始從DRSSupplyTank進(jìn)行補(bǔ)充2.38％顯影液到DeveloperTank，液位達(dá)到Overflow時(shí)顯影液就會(huì)被Drain掉，直到測量濃度達(dá)到2400ppm(即0.24％)時(shí)停止DRS補(bǔ)液。還有當(dāng)DeveloperTank液位低時(shí)也會(huì)從DRSSupplyTank進(jìn)行補(bǔ)充2.38％顯影液。DRSSupplyTank內(nèi)2.38％顯影液濃度一般維持在1650ppm(即0.165％)。正常情況下DRSSupplyTank內(nèi)2.38％顯影液濃度一般維持在1650ppm(即0.165％),但是在DRS一段時(shí)間停機(jī)、Tank內(nèi)溫度異?；蛘逿ank內(nèi)保護(hù)氣體N2壓力低等很多情況下都會(huì)導(dǎo)致DRSSupplyTank內(nèi)2.38％顯影液濃度管理異常，使?jié)舛雀哂贒eveloperTank內(nèi)顯影液濃度導(dǎo)致DeveloperTank內(nèi)顯影液越補(bǔ)濃度越高超上限則報(bào)警；甚至高于顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)中濃度設(shè)置的報(bào)警值，一直補(bǔ)液濃度也不會(huì)下降，設(shè)備會(huì)產(chǎn)生當(dāng)機(jī)，產(chǎn)品也會(huì)因濃度導(dǎo)致圖形臨界尺寸CD異常，同時(shí)一直補(bǔ)液也會(huì)浪費(fèi)大量顯影液。在半導(dǎo)體液晶顯示行業(yè)，在定義圖形的曝光顯影制程中，使用的顯影液主要成分是以氫氧化四甲氨(TAMH)為主的一種堿性水溶液。制程中要求使用顯影液濃度為2.38％，是通過DDS(DeveloperDilutionSystem)將25％原液稀釋成濃度為2.38％的顯影液供給顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)(DeveloperControlSystem)，然后通過顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)將濃度為2.38％的顯影液供到DeveloperTank，用于顯影制程段進(jìn)行圖形顯影，最后通過DRS(DeveloperRecycleSystem)將使用過的2.38％顯影液進(jìn)行回收，過濾掉其中的光阻(PR)重新供給顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)。然而隨著顯影液的重復(fù)使用，空氣中的會(huì)溶解在顯影液中，使顯影液的顯影能力下降，導(dǎo)致顯影后的圖形的臨界尺寸CD(CriticalDimension)偏離設(shè)定范圍值，影響圖形的定義。在液晶基板、印刷電路板等的制造工程中的光致抗蝕劑顯影處理中，作為顯影液，使用以氫氧化四甲銨(TMAH)等為主要成分的堿性水溶液。最近，伴隨基板尺寸的大型化和制造工藝的進(jìn)步，大量地使用這樣的堿性顯影液。從降低制造成本等觀點(diǎn)來考慮，可以將已用過的堿性顯影液加以回收，經(jīng)再生后向顯影工序供給。然而，隨著顯影液的反復(fù)使用，因其在顯影處理停止等期間與光致抗蝕劑中的酸反應(yīng)并與空氣中的二氧化碳或氧反應(yīng)而使堿濃度降低。由此，在顯影處理中，抗蝕劑圖案的尺寸精度和未曝光部分的膜厚精度均降低。因此，管理堿濃度而使其保持一定至關(guān)重要。關(guān)于顯影液的濃度管理，例如，已公開一種“顯影液管理裝置”，該裝置用于管理在光致抗蝕劑顯影中使用的堿系顯影液，向該顯影裝置循環(huán)供給顯影液，并且，同時(shí)管理所循環(huán)的顯影液的堿濃度和顯影液中的溶解樹脂濃度這兩者，能夠防止顯影性能的惡化。在該顯影液管理裝置中，利用吸光度計(jì)檢測顯影液中的溶解樹脂濃度，并利用電導(dǎo)率計(jì)檢測顯影液的堿濃度，然后，或者排出裝置內(nèi)的顯影液且補(bǔ)充顯影液的原液和純水，或者補(bǔ)充新調(diào)制的顯影液，使得堿濃度、溶解樹脂濃度和裝置內(nèi)的顯影液的液位保持為一定。然而，在基板的制造中，雖然管理顯影液的堿濃度和顯影液中的溶解樹脂濃度而使其保持為一定，但是在進(jìn)行顯影處理和蝕刻處理的情況下，仍會(huì)發(fā)生一種所謂光掩膜或基板上所形成的電路等的圖案的線寬變動(dòng)的現(xiàn)象。實(shí)際上，如果再循環(huán)地使用顯影液，則存在一種由顯影處理在基板上形成的電路等的光致抗蝕劑圖案的臨界尺寸(CD值)逐漸偏離基準(zhǔn)值(設(shè)計(jì)值)的傾向。即，在顯影處理中，在反復(fù)進(jìn)行處理的過程中，顯影速度產(chǎn)生變動(dòng)，換言之，針對(duì)光致抗蝕劑的溶解速度產(chǎn)生變動(dòng)，所得到的抗蝕劑圖案的尺寸精度逐漸地降低。其結(jié)果是，對(duì)通過蝕刻在基板上形成的圖案的線寬產(chǎn)生影響。因此，期望一種在管理顯影液的供給時(shí)不會(huì)導(dǎo)致顯影速度變動(dòng)的有改進(jìn)的管理方法技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明的目的是為了解決空氣中的CO2會(huì)溶解在顯影液中導(dǎo)致顯影后的圖形CD(CriticalDimension臨界尺寸)偏離設(shè)定范圍值的問題而提出的一種圖像顯影過程中顯影液濃度調(diào)配方法。上述的發(fā)明目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：當(dāng)顯影液中濃度超過閾值時(shí)，按照更正關(guān)系調(diào)配顯影液的濃度Y；根據(jù)顯影液的濃度Y以及函數(shù)的補(bǔ)值計(jì)算得到顯影液目標(biāo)濃度M；根據(jù)得到的顯影液目標(biāo)濃度M使顯影后的圖形臨界尺寸符合設(shè)定值。為此，本發(fā)明提供了一種圖像顯影過程中顯影液濃度調(diào)配方法，其包括：當(dāng)顯影液中濃度超過閾值時(shí)，按照更正關(guān)系調(diào)配顯影液的濃度Y；根據(jù)顯影液的濃度Y以及函數(shù)的補(bǔ)值計(jì)算得到顯影液目標(biāo)濃度M；根據(jù)得到的顯影液目標(biāo)濃度M使顯影后的圖形臨界尺寸符合設(shè)定值。根據(jù)本發(fā)明方法，所述顯影液中濃度利用顯影液的控制系統(tǒng)內(nèi)顯影液濃度測量計(jì)進(jìn)行測量，顯影液的控制系統(tǒng)的報(bào)警裝置中設(shè)置的濃度的上限，現(xiàn)在制程中所使用的濃度為2.38％顯影液中保持在1500ppm時(shí)，顯影后的圖形臨界尺寸符合設(shè)定范圍值；在顯影液的控制系統(tǒng)的報(bào)警裝置中設(shè)置為2000ppm產(chǎn)生警告。在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，所述按照更正關(guān)系調(diào)配顯影液的濃度Y具體為：通過測量顯影液濃度和測量后顯影液濃度，按照能使顯影后圖形的臨界尺寸保持在設(shè)定值，得到顯影液濃度和顯影液濃度有近似的關(guān)系為：Y＝2.38+2×10-4X+8×10-8X2其中，Y為顯影液濃度wt％，X為顯影液中濃度ppm；制程中正常使用濃度為2.38％的顯影液中濃度為1500ppm～2000ppm時(shí)顯影后圖形臨界尺寸符合設(shè)定范圍值，所以更正關(guān)系式為：Y＝2.38+2×10-4(X-2000)+8×10-8(X-2000)2。本發(fā)明中，所述濃度為2.38％的顯影液是通過顯影劑稀釋系統(tǒng)DDS將25％原液稀釋成濃度為2.38％的顯影液供給顯影液的控制系統(tǒng)。在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，所述顯影液的控制系統(tǒng)顯影液的控制系統(tǒng)內(nèi)有濃度測量計(jì)和ABS測量計(jì)。本發(fā)明中，所述顯影液濃度測量計(jì)由導(dǎo)電率計(jì)、超聲波濃度計(jì)和溫度計(jì)組成。本發(fā)明中，顯影液的控制系統(tǒng)內(nèi)顯影液濃度測量計(jì)在測量顯影液濃度具體為：導(dǎo)電率計(jì)和超聲波濃度計(jì)均能測量出氫氧化四甲銨TMAH、光阻PR和整體濃度，二者結(jié)合，計(jì)算出光阻PR的濃度和的濃度C2；ABS測量計(jì)能夠測出光阻PR濃度，即得的濃度＝C2-光阻PR濃度。根據(jù)本發(fā)明，所述函數(shù)的補(bǔ)值為Offset函數(shù)的補(bǔ)值K；Offset函數(shù)補(bǔ)值K的計(jì)算方法為：M＝N+K-(Y-2.38)其中，N為理論顯影液濃度；M為顯影液目標(biāo)濃度；-(Y-2.38)值是隨濃度變化更新。在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，所述Offset函數(shù)的補(bǔ)值K為-0.002％。本發(fā)明中，所述顯影液的濃度是指顯影劑的相對(duì)含量，即NaOH和Na2SiO3的總含量。本發(fā)明的效果如下：本發(fā)明顯影液中濃度升高時(shí)，按照一定關(guān)系調(diào)配顯影液的濃度也一樣可以保持顯影后的圖形臨界尺寸CD保持在設(shè)定值范圍內(nèi)。通過測量顯影液濃度和顯影液中濃度按照能使顯影后圖形的臨界尺寸CD保持在設(shè)定值，得到顯影液的濃度和濃度有一種近似的關(guān)系為：Y＝2.38+2×10-4X+8×10-8X2顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)內(nèi)顯影液濃度測量計(jì)在測量顯影液濃度時(shí)存在一定機(jī)差，在設(shè)備調(diào)試前期都會(huì)對(duì)濃度測量計(jì)進(jìn)行校準(zhǔn)，進(jìn)行offset函數(shù)補(bǔ)值，消除機(jī)差。按照已有的顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)控制方法，濃度的上升變化會(huì)導(dǎo)致設(shè)備當(dāng)機(jī)，顯影液的浪費(fèi)，更重要的會(huì)使顯影后的圖形臨界尺寸CD異常。所以本發(fā)明目的是實(shí)現(xiàn)Offset函數(shù)的補(bǔ)值消除因濃度變化導(dǎo)致的臨界尺寸CD異常。在正常使用的2.38％顯影液濃度為1500ppm～2000ppm時(shí)，顯影后圖形臨界尺寸CD符合設(shè)定范圍值，所以更正關(guān)系式為：Y＝2.38+2×10-4(X-2000)+8×10-8(X-2000)2根據(jù)濃度的變化可以實(shí)現(xiàn)Offset函數(shù)的補(bǔ)值，即：M＝N+Offset(機(jī)差)-(Y-2.38)。從而實(shí)現(xiàn)Offset函數(shù)補(bǔ)值，能避免因濃度異常導(dǎo)致的產(chǎn)品圖形臨界尺寸CD異常，減小Reworkratio；同時(shí)也能避免DeveloperTank一直補(bǔ)液Overflow導(dǎo)致顯影液的浪費(fèi)。附圖說明圖1為具體實(shí)施方式二提出的顯影液供應(yīng)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為具體實(shí)施方式十提出的顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)內(nèi)顯影液濃度測量計(jì)測量顯影液濃度流程圖。具體實(shí)施方式具體實(shí)施方式一：本實(shí)施方式的一種圖像顯影過程中顯影液濃度調(diào)配方法，具體是按照以下步驟制備的：當(dāng)顯影液中濃度超過閾值時(shí)，按照更正關(guān)系調(diào)配顯影液的濃度Y；根據(jù)顯影液的濃度Y以及Offset函數(shù)補(bǔ)值計(jì)算得到顯影液目標(biāo)濃度M；顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)內(nèi)顯影液濃度測量計(jì)在測量顯影液濃度時(shí)存在一定機(jī)差，在設(shè)備調(diào)試前期都會(huì)對(duì)濃度測量計(jì)進(jìn)行校準(zhǔn)，進(jìn)行offset函數(shù)補(bǔ)值，消除機(jī)差即根據(jù)濃度的變化實(shí)現(xiàn)Offset函數(shù)補(bǔ)值，根據(jù)得到的顯影液目標(biāo)濃度M使顯影后的圖形臨界尺寸CD符合設(shè)定值。本實(shí)施方式效果：現(xiàn)有的為了獲得一定的臨界尺寸CD值，需要根據(jù)碳酸鹽濃度來確定實(shí)際的堿濃度。此時(shí)，按照預(yù)先制定的碳酸鹽濃度與能夠發(fā)揮規(guī)定的溶解能力的堿濃度的關(guān)系、即能夠發(fā)揮使臨界尺寸CD值成為一定的值這樣的溶解能力的堿濃度與碳酸鹽濃度的預(yù)先制定的關(guān)系(碳酸鹽濃度與加上前述的不足量后的堿濃度的關(guān)系)，調(diào)節(jié)堿濃度。因此，在使用TMAH的情況下，上述的關(guān)系(碳酸鹽濃度與能夠發(fā)揮規(guī)定的溶解能力的堿濃度的關(guān)系)能夠用下述的近似式表示；y＝8×10-8x2+2×10-4x+2.38其中，x為碳酸鹽濃度(ppm)，y為TMAH濃度(wt％)。本實(shí)施方式顯影液中濃度升高時(shí)，按照一定關(guān)系調(diào)配顯影液的濃度也一樣可以保持顯影后的圖形臨界尺寸CD保持在設(shè)定值范圍內(nèi)。通過測量顯影液濃度和顯影液中濃度按照能使顯影后圖形的臨界尺寸CD保持在設(shè)定值，得到顯影液的濃度和濃度有一種近似的關(guān)系為：Y＝2.38+2×10-4X+8×10-8X2顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)內(nèi)顯影液濃度測量計(jì)在測量顯影液濃度時(shí)存在一定機(jī)差，在設(shè)備調(diào)試前期都會(huì)對(duì)濃度測量計(jì)進(jìn)行校準(zhǔn)，進(jìn)行offset函數(shù)補(bǔ)值，消除機(jī)差。按照已有的顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)控制方法，濃度的上升變化會(huì)導(dǎo)致設(shè)備當(dāng)機(jī)，顯影液的浪費(fèi)，更重要的會(huì)使顯影后的圖形臨界尺寸CD異常。所以本實(shí)施方式目的是實(shí)現(xiàn)Offset函數(shù)的補(bǔ)值消除因濃度變化導(dǎo)致的臨界尺寸CD異常。在正常使用的2.38％顯影液濃度為1500ppm～2000ppm時(shí)，顯影后圖形臨界尺寸CD符合設(shè)定范圍值，所以更正關(guān)系式為：Y＝2.38+2×10-4(X-2000)+8×10-8(X-2000)2，根據(jù)濃度的變化可以實(shí)現(xiàn)Offset函數(shù)的補(bǔ)值，即：M＝N+K-(Y-2.38)。從而實(shí)現(xiàn)Offset函數(shù)補(bǔ)值，能避免因濃度異常導(dǎo)致的產(chǎn)品圖形臨界尺寸CD異常，減小Reworkratio；同時(shí)也能避免DeveloperTank一直補(bǔ)液Overflow導(dǎo)致顯影液的浪費(fèi)。具體實(shí)施方式二：本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式一不同的是：所述按照更正關(guān)系調(diào)配顯影液的濃度Y具體為：通過測量顯影液濃度和測量后顯影液濃度，按照能使顯影后圖形的臨界尺寸CD保持在設(shè)定值，得到顯影液濃度和顯影液濃度有一種近似的關(guān)系為：Y＝2.38+2×10-4X+8×10-8X2其中，Y為顯影液濃度wt％，X為顯影液濃度ppm；制程中正常使用的2.38％顯影液濃度為1500ppm～2000ppm時(shí)(即0.15％～0.20％)顯影后圖形臨界尺寸CD符合設(shè)定范圍值，所以更正關(guān)系式為：Y＝2.38+2×10-4(X-2000)+8×10-8(X-2000)2。其它步驟及參數(shù)與具體實(shí)施方式一相同。目前，顯影液在顯影制程中的運(yùn)轉(zhuǎn)方式為：如圖1所示，顯影液供應(yīng)源300將顯影液輸入互為備用關(guān)系的第一顯影液循環(huán)槽210、第二顯影液循環(huán)槽220內(nèi)，當(dāng)待顯影的基板500到達(dá)顯影機(jī)臺(tái)100的顯影室110內(nèi)后，其內(nèi)的噴淋頭120將顯影液噴到待顯影的基板500上，內(nèi)的顯影液再通過管路回流到第一或第二顯影液循環(huán)槽210/220內(nèi)，顯影液在第一或第二顯影液循環(huán)槽210/220和顯影機(jī)臺(tái)100內(nèi)循環(huán)流動(dòng)。然而，第一、第二顯影液循環(huán)槽210、220和顯影機(jī)臺(tái)100并不是完全密閉的，均與外界的空氣接觸。顯影液循環(huán)槽210、220的液位上方還有大量的空間，而顯影機(jī)臺(tái)100內(nèi)噴淋顯影液時(shí)也與空氣完全接觸，顯影液的主要成分OH-與空氣中二氧化碳(CO2)發(fā)生反應(yīng)，生成碳酸根離子使其內(nèi)的使OH-被大量消耗，從而導(dǎo)致顯影液的使用周期縮短。顯影液主要包括氫氧化鉀(KOH)和表面活性劑，光刻膠內(nèi)的樹脂羧酸基團(tuán)和顯影液中的的氫氧根離子(OH-)發(fā)生反應(yīng)，形成羧基，從而使光刻膠溶于水而溶解。因此，顯影液中的OH-的濃度是影響顯影液使用周期(lifttime)的重要因素。具體實(shí)施方式三：本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式一或二不同的是：：所述函數(shù)的補(bǔ)值為Offset函數(shù)的補(bǔ)值K；Offset函數(shù)補(bǔ)值K的計(jì)算方法為：M＝N+K-(Y-2.38)其中，N為理論顯影液濃度；M為顯影液目標(biāo)濃度；-(Y-2.38)值是隨濃度變化更新；Offset函數(shù)為excel中的補(bǔ)值運(yùn)算函數(shù)。其它步驟及參數(shù)與具體實(shí)施方式一或二相同。具體實(shí)施方式四：本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式一至三之一不同的是：所述Offset函數(shù)的補(bǔ)值K為-0.002％。其它步驟及參數(shù)與具體實(shí)施方式一至三之一相同。具體實(shí)施方式五：本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式一至四之一不同的是：所述顯影液的濃度是指顯影劑的相對(duì)含量，即NaOH和Na2SiO3總含量。其它步驟及參數(shù)與具體實(shí)施方式一至四之一相同。具體實(shí)施方式六：本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式一至五之一不同的是：所述顯影液中濃度利用顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)內(nèi)顯影液濃度測量計(jì)進(jìn)行測量，顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)的報(bào)警裝置中設(shè)置的濃度的上限，現(xiàn)在制程中所使用的濃度為2.38％顯影液中保持在1500ppm時(shí)，顯影后的圖形臨界尺寸CD符合設(shè)定范圍值；在顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)的報(bào)警裝置中設(shè)置為2000ppm(即0.2％)則報(bào)警。其它步驟及參數(shù)與具體實(shí)施方式一至五之一相同。具體實(shí)施方式七：本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式一至六之一不同的是：所述濃度為2.38％的顯影液是通過顯影劑稀釋系統(tǒng)DDS(DeveloperDilutionSystem)將25％原液稀釋成濃度為2.38％的顯影液供給顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)(DeveloperControlSystem)。其它步驟及參數(shù)與具體實(shí)施方式一至六之一相同。具體實(shí)施方式八：本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式一至七之一不同的是：所述顯影液的控制系統(tǒng)顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)內(nèi)有濃度測量計(jì)和ABS測量計(jì)。其它步驟及參數(shù)與具體實(shí)施方式一至七之一相同。具體實(shí)施方式九：本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式一至八之一不同的是：所述顯影液濃度測量計(jì)由導(dǎo)電率計(jì)、超聲波濃度計(jì)和溫度計(jì)組成。其它步驟及參數(shù)與具體實(shí)施方式一至八之一相同。具體實(shí)施方式十：結(jié)合圖2本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式一至九之一不同的是：顯影液的控制系統(tǒng)(DCS)內(nèi)顯影液濃度測量計(jì)在測量顯影液濃度具體為：導(dǎo)電率計(jì)和超聲波濃度計(jì)均能測量出氫氧化四甲氨TMAH+光阻整體濃度，二者結(jié)合，計(jì)算出氫氧化四甲氨TMAH濃度C1及光阻PR的濃度和的濃度C2；ABS測量計(jì)能夠測出光阻PR濃度，即得的濃度＝C2-光阻PR濃度。其它步驟及參數(shù)與具體實(shí)施方式一至九之一相同。采用以下實(shí)施例驗(yàn)證本發(fā)明的有益效果：實(shí)施例1：本實(shí)施例一種圖像顯影過程中顯影液濃度調(diào)配方法，該方法具體是按照以下步驟制備的：實(shí)際濃度為2.38％的顯影液，濃度測量計(jì)測量的結(jié)果不是2.38％，所以會(huì)存在一個(gè)固定的Offset函數(shù)的補(bǔ)值K。本發(fā)明的特點(diǎn)是根據(jù)濃度的變化實(shí)現(xiàn)Offset函數(shù)補(bǔ)值，使顯影液的濃度實(shí)現(xiàn)調(diào)配保持顯影后的圖形臨界尺寸CD符合設(shè)定值。原有的Offset函數(shù)方式是：NMOffset函數(shù)值N為理論顯影液濃度為2.382％，濃度儀的偏差為偏大0.002％，則Offset函數(shù)值為-0.002％，得到的M值為2.380％?，F(xiàn)在實(shí)施的方案實(shí)現(xiàn)Offset函數(shù)的補(bǔ)值方式：即：M＝N+K-(Y-2.38)注：-(Y-2.38)值是隨濃度變化更新。比如當(dāng)濃度為2300ppm(即0.23％)時(shí)，需要顯影液濃度調(diào)到2.38％+0.067％＝2.447％才能使顯影后的圖形臨界尺寸CD符合設(shè)定范圍值。即N顯影液濃度為2.382％，Offset函數(shù)得補(bǔ)值(機(jī)差)K為-0.002％，為-0.067％，得到的濃度為2.313％，實(shí)際濃度仍為2.38％，所以當(dāng)顯影濃度由2.313％調(diào)整到2.38％時(shí)，實(shí)際濃度已為2.447％，滿足顯影后圖形臨界尺寸CD設(shè)定范圍值。在報(bào)警裝置里增加設(shè)置Offset函數(shù)的補(bǔ)值方式開啟的時(shí)機(jī)，即設(shè)置當(dāng)濃度達(dá)到一定程度時(shí)才啟用此功能，未達(dá)到時(shí)按照此前的方式即可。同時(shí)值得注意的是顯影液濃度報(bào)警裝置里有設(shè)置當(dāng)顯影液濃度低于某值時(shí)會(huì)當(dāng)機(jī)，所以這里也應(yīng)該設(shè)置當(dāng)啟動(dòng)Offset函數(shù)補(bǔ)值方式時(shí)，取消濃度下限報(bào)警機(jī)制。本發(fā)明還可有其它多種實(shí)施例，在不背離本發(fā)明精神及其實(shí)質(zhì)的情況下，本領(lǐng)域技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。雖然在本文中參照了特定的實(shí)施方式來描述本發(fā)明，但是應(yīng)該理解的是，這些實(shí)施例僅僅是本發(fā)明的原理和應(yīng)用的示例。因此應(yīng)該理解的是，可以對(duì)示例性的實(shí)施例進(jìn)行許多修改，并且可以設(shè)計(jì)出其他的布置，只要不偏離所附權(quán)利要求所限定的本發(fā)明的精神和范圍。應(yīng)該理解的是，可以通過不同于原始權(quán)利要求所描述的方式來結(jié)合不同的從屬權(quán)利要求和本文中所述的特征。還可以理解的是，結(jié)合單獨(dú)實(shí)施例所描述的特征可以使用在其他所述實(shí)施例中。當(dāng)前第1頁1 2 3