薄膜表面改質(zhì)裝置及偏光膜制造裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種薄膜表面改質(zhì)裝置及偏光膜制造裝置，薄膜表面改質(zhì)裝置（5）包括：處理輥（52），其與地面電連接，用于輸送薄膜（F）；放電電極（53,54），其放電端（531,541）與處理輥（52）的表面（S）相對設(shè)置；供電部（55），其與放電電極（53,54）電連接，用于向該放電電極（53,54）通電，從而在該放電電極（53,54）與處理輥（52）之間發(fā)生電暈放電。根據(jù)本實用新型，能夠容易地提高薄膜單面的親水性。
【專利說明】薄膜表面改質(zhì)裝置及偏光膜制造裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實用新型涉及一種薄膜表面改質(zhì)裝置及偏光膜制造裝置。

【背景技術(shù)】
[0002] 現(xiàn)今，液晶顯示器因其優(yōu)越的性能而備受矚目。也正是因此，液晶顯示器的關(guān)鍵部 件之一即偏光片的制造技術(shù)也受到了越來越多的關(guān)注。
[0003] 偏光片是一種十分薄的光學(xué)膜，在偏光片的制造工序中，通常要在偏光片的兩側(cè) 貼上三乙酸纖維素制的保護膜（TAC膜)，這樣做的目的一方面是為了保護偏光片不碎裂，另 一方面是為了防止偏光片的回縮。在保護膜與偏光片彼此貼合之前，為了提高保護膜的密 著性，以往一般是將保護膜浸漬在堿性水溶液中進行皂化處理（日本特開平8-94838號公 報)。但是，在這種處理方法中，保護膜的兩面同時被實施親水處理，若在向保護膜的單面涂 設(shè)聚乙烯醇等親水性層之后將其卷繞成卷筒狀，正反面將粘在一起。
[0004] 為了解決以上的問題，提出了一種對不需要提高密著性的面進行防水加工從而僅 對保護膜的單面實施皂化處理的方法，不過，這種方法不但會導(dǎo)致增加煩雜的工序，而且在 處理過程中還會產(chǎn)生不需要的廢棄物，因此從生產(chǎn)性、環(huán)境保護的角度來看并不十分理想。
[0005] 另外，日本專利公開第2007-161769號公報針對上述問題而提出了一種皂化處理 生產(chǎn)線，其包括向保護膜表面涂布堿性溶液的堿性溶液涂布部、使涂布堿性溶液后的保護 膜的溫度維持在室溫以上的溫度維持部、向維持溫度的溫度保護膜涂布稀釋溶劑或酸性溶 液而使反應(yīng)停止的反應(yīng)停止部、自停止反應(yīng)的保護膜上洗去堿性水溶液的清洗部和使洗凈 后的保護膜干燥的干燥部。這樣的生產(chǎn)線雖然不對不需要提高密著性的面進行防水加工就 能對保護膜的單面實施皂化處理，但整體結(jié)構(gòu)較為復(fù)雜，不利于實現(xiàn)小型化。 實用新型內(nèi)容
[0006] 本實用新型是鑒于上述技術(shù)問題而做出的，目的在于提供一種能夠容易地提高薄 膜單面的親水性的薄膜表面改質(zhì)裝置。另外，本實用新型還提供一種應(yīng)用上述薄膜表面改 質(zhì)裝置的偏光膜制造裝置。
[0007] 為了達(dá)成上述目的，本實用新型提供一種薄膜表面改質(zhì)裝置，該薄膜表面改質(zhì)裝 置包括：處理輥，其輸送薄膜，與地面電連接；放電電極，其放電端與所述處理輥的表面相 對設(shè)置；供電部，其與所述放電電極電連接，用于向所述放電電極通電，從而在該放電電極 與所述處理輥之間發(fā)生電暈放電。
[0008] 根據(jù)該技術(shù)方案，在薄膜的表面改質(zhì)處理過程中，供電部向放電電極供給電力，在 該放電電極與接地的處理輥之間產(chǎn)生規(guī)定的電壓，從而發(fā)生電暈放電。在待處理的薄膜經(jīng) 過放電電極與處理輥之間時，處于放電電極一側(cè)的面受到從放電電極向處理輥的電暈放電 照射，親水性提高，而處于處理輥一側(cè)的面不會受到電暈放電處理，親水性幾乎不變。由于 不需要對薄膜實施防水加工，也不需要形成為復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，僅通過電暈放電照射就能提高 薄膜的放電電極一側(cè)的面的親水性，因此能夠容易地提高薄膜單面的親水性。
[0009] 另外，優(yōu)選地，所述放電電極設(shè)有多個，多個所述放電電極在所述處理輥的周向上 間隔配置。
[0010] 另外，優(yōu)選地，在設(shè)多個放電電極的情況下，在所述處理輥的周向上彼此相鄰設(shè)置 的放電電極的放電端之間的距離為50mm?400mm。
[0011] 另外，優(yōu)選地，所述放電電極的放電端與所述處理輥的表面之間的距離為1mm? 3mm 〇
[0012] 另外，優(yōu)選地，所述放電電極的放電端的截面形成為波浪形狀、圓弧形狀或楔形形 狀。
[0013] 另外，優(yōu)選地，所述放電電極由不銹鋼或或鋁制成。
[0014] 另外，優(yōu)選地，所述處理輥包括與地面電連接的金屬制的輥芯和嵌套在輥芯的外 周面上的襯套，所述襯套由硅橡膠或陶瓷制成。
[0015] 另外，優(yōu)選地，薄膜表面改質(zhì)裝置還包括：處理室，其容納所述處理輥和所述放電 電極，設(shè)有排氣口、供待處理的薄膜進入的薄膜入口和供處理完的薄膜送出的薄膜出口；排 氣機，其與所述排氣口連通。
[0016] 為了實現(xiàn)另一目的，本實用新型還提供一種偏光膜制造裝置，該偏光膜制造裝置 包括供給原料膜的原料膜供給部、將來自該原料膜供給部的原料膜制造成偏光片的偏光片 制造部、供給保護膜的保護膜供給部、對來自該保護膜供給部的保護膜的表面進行表面改 質(zhì)處理的保護膜處理部、將所述保護膜的經(jīng)過所述表面改質(zhì)處理的表面貼合在所述偏光片 的表面上從而形成偏光膜的貼合處理部和卷取該偏光膜的偏光膜卷取部，所述保護膜處理 部利用以上所述的薄膜表面改質(zhì)裝置進行所述表面改質(zhì)處理。
[0017] 根據(jù)該技術(shù)方案，在保護膜處理部中，在向放電電極通電時，能夠在放電電極與處 理輥之間發(fā)生電暈放電。在偏光膜的制造過程中，來自保護膜供給部的待處理的保護膜被 送入到保護膜處理部，纏繞在處理輥上。纏繞在處理輥上的保護膜一邊使其放電電極一側(cè) 的面受到從放電電極向處理輥的電暈放電照射、提高親水性，一邊被連續(xù)地輸送到貼合處 理部，貼合在從偏光片制造部輸送而來的偏光片上，形成偏光膜。由于不需要對保護膜實施 防水加工，也不需要形成為復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，僅通過電暈放電照射就能提高保護膜的放電電極 一側(cè)的面的親水性，因此能夠容易地提高保護膜單面的親水性。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0018] 圖1是表示本實用新型的薄膜表面改質(zhì)裝置的大致結(jié)構(gòu)的示意圖。
[0019] 圖2 (a)是表示圖1所示的薄膜表面改質(zhì)裝置中使用的放電電極的放電端的形狀 的示意圖。
[0020] 圖2 (b)是表示圖1所示的薄膜表面改質(zhì)裝置中使用的放電電極的放電端的形狀 的示意圖。
[0021] 圖2 (c)是表示圖1所示的薄膜表面改質(zhì)裝置中使用的放電電極的放電端的形狀 的示意圖。
[0022] 圖2 (d)是表示圖1所示的薄膜表面改質(zhì)裝置中使用的放電電極的放電端的形狀 的示意圖。
[0023] 圖3是表示本實用新型的偏光膜制造裝置的大致結(jié)構(gòu)的示意圖。
[0024] 圖4是表示本實用新型的偏光膜制造裝置的原料膜供給部和偏光片制造部的示 意圖。
[0025] 圖5是表示本實用新型的偏光膜制造裝置的保護膜供給部和保護膜處理部的示 意圖。
[0026] 附圖標(biāo)記說明
[0027] 2原料膜供給部；3偏光片制造部；4保護膜供給部；5薄膜表面改質(zhì)裝置；5'保 護膜處理部；6貼合處理部；7偏光膜卷取部；31膨潤處理槽；32染色處理槽；33硼酸處理 槽；34清洗處理槽；35干燥處理箱；51處理室；52處理輥；53, 54放電電極；55高頻電源 (供電部）；56高壓變壓器；57排氣機；61，62貼合輥；511薄膜進口；512薄膜出口；513排 氣口；531，541放電端；532, 542接線端；F薄膜(保護膜）；P1原料膜；P2偏光片；P3偏光 膜；S處理輥的表面。

【具體實施方式】
[0028] 以下將參照附圖對本實用新型的【具體實施方式】進行說明。
[0029] 〈薄膜表面改質(zhì)裝置5的結(jié)構(gòu)〉
[0030] 圖1示意性地表示了本實用新型的薄膜表面改質(zhì)裝置5的大致結(jié)構(gòu)。
[0031] 如圖1所示，本實用新型的薄膜表面改質(zhì)裝置5包括處理室51、處理輥52、放電電 極53, 54、高頻電源55、高壓變壓器56和排氣機57。
[0032] 處理室51是薄膜表面改質(zhì)裝置5中進行表面改質(zhì)處理的場所，是由鋁或不銹鋼等 材料制成的箱狀的容納體。在處理室51上，設(shè)有供待處理的薄膜F進入的薄膜進口 511、供 處理完的薄膜F被送出的薄膜出口 512以及與外界連通、用于將處理室51內(nèi)產(chǎn)生的臭氧排 出的排氣口 513。
[0033] 處理輥52設(shè)置在處理室51內(nèi)，能夠繞著未圖示的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)，從而連續(xù)地輸送纏 繞在其表面S (周面）上的薄膜，并且，該處理輥52與地面電連接。在本實施方式中，處理 輥52具有輥芯和襯套，其中，輥芯由金屬制成，經(jīng)由軸承等部件能夠轉(zhuǎn)動地安裝在處理室 51內(nèi)，襯套由硅橡膠或陶瓷等材料制成，嵌套在輥芯的外周面上。
[0034] 放電電極53, 54大致形成為棒狀，通過導(dǎo)電夾等固定部件安裝在殼體51內(nèi)。放電 電極53, 54的前端部即放電端531，541與處理輥52的表面S隔開規(guī)定間隔地相對設(shè)置，后 端部即接線端532, 542經(jīng)由高壓變壓器56與后述的高頻電源55連接。作為放電電極53, 54 的材料，可以列舉出不銹鋼、鋁等，當(dāng)然，也可以使用銅、銀等其他導(dǎo)電性材料。另外，放電電 極53, 54的放電端531，541的截面例如可以形成為如圖2 (a)所示的波浪形狀、如圖2 (b) 和圖2 (d)所示的圓弧形狀以及如圖2 (c)所示的楔形形狀。
[0035] 另外，放電電極53, 54的放電端531，541與處理棍52的表面S之間的距離優(yōu)選為 1mm?3mm。這是因為，如果放電端531，541與表面S之間的距離大于3mm，則將導(dǎo)致能量過 于分散，會在薄膜上產(chǎn)生不均勻；如果小于1mm，薄膜會與電極接觸，在薄膜上產(chǎn)生白化現(xiàn) 象。因此，最好將放電端531，541與處理棍52的表面S之間的距離控制在1mm?3mm。注 意，此處所說的"距離"，是指各放電端與處理輥的表面之間的最小距離。
[0036] 另外，放電電極53與放電電極54在處理輥52的周向上間隔設(shè)置。通過設(shè)置多個 放電電極(在本實施方式中為兩個)，與僅設(shè)置一個放電電極的情況相比，能夠大幅度提高 單位時間內(nèi)的處理量。在設(shè)有多個放電電極的情況下，為了確保放電電極互不影響以及整 體結(jié)構(gòu)緊湊，優(yōu)選將在處理輥52的周向上彼此相鄰的放電電極的放電端之間的距離設(shè)為 50mm?400mm。此處所說的"距離"，是指彼此相鄰的放電電極的放電端之間的最小距離。
[0037] 高頻電源55經(jīng)由高壓變壓器56與放電電極53, 54的接線端532, 542電連接，用 于在改質(zhì)處理過程中向放電電極53, 54通電，在放電電極53, 54與接地的處理輥52之間產(chǎn) 生電壓,從而發(fā)生電暈放電。
[0038] 排氣機57與形成在處理室51上的排氣口 513連通，用于將在電暈放電過程中在 殼體51內(nèi)產(chǎn)生的臭氧（03)排出到處理室51的外部。由此，能夠?qū)㈦姇炋幚懋a(chǎn)生的臭氧排 出，確保殼體51內(nèi)的所需的氣體介質(zhì)環(huán)境。排氣機57的排氣速度視放電處理速度、被處理 薄膜的種類等因素而定。
[0039] 另外，作為可由薄膜表面改質(zhì)裝置5處理的薄膜，可以列舉出在偏光膜制造過程 中為了保護偏光膜而使用的保護膜。作為這種保護膜的材料，可以列舉出（甲基）丙烯酸 類樹脂、纖維素類樹脂如二乙酰纖維素或三乙酰纖維素、環(huán)烯烴類樹脂、烯烴類樹脂如聚丙 烯、酯類樹脂如聚對苯二甲酸乙二醇酯類樹脂、聚酰胺類樹脂、聚碳酸酯類樹脂或其共聚物 樹脂等。
[0040] 〈薄膜表面改質(zhì)裝置5的工作〉
[0041] 以下，參照圖1對薄膜表面改質(zhì)裝置5的工作過程進行說明。
[0042] 在利用薄膜表面改質(zhì)裝置5對薄膜F表面進改質(zhì)處理時，接通高頻電源55而向放 電電極53, 54通電，從而在放電電極53, 54的放電端531，541與接地的處理輥12之間產(chǎn)生 規(guī)定的電壓，發(fā)生電暈放電。
[0043] 然后，啟動未圖示的電機，驅(qū)動未圖示的驅(qū)動輥(參照圖4)旋轉(zhuǎn)，利用該驅(qū)動輥從 卷繞有薄膜F的未圖示的滾筒(參照圖4中附圖標(biāo)記4)中拉出薄膜F，并使該薄膜F經(jīng)由薄 膜進口 511進入處理室51內(nèi)，卷繞在處理輥52上，從而在放電電極53, 54的放電端531，541 與接地的處理輥12之間經(jīng)過。此時，薄膜F處于放電電極53, 54 -側(cè)的面受到從放電電極 53, 54向處理輥52的電暈放電照射，親水性提高，處于處理輥52 -側(cè)的面不會受到電暈放 電處理。經(jīng)過電暈放電處理的薄膜F經(jīng)由薄膜出口 512送出。
[0044] 與此同時，排氣機57將在電暈放電過程中在殼體51內(nèi)產(chǎn)生的臭氧經(jīng)由排氣口 513 排出到處理室51的外部。
[0045] 在完成改質(zhì)處理后，關(guān)閉電機和排氣機57、切斷高頻電源55,使薄膜表面改質(zhì)裝 置5停止運轉(zhuǎn)。
[0046] 根據(jù)上述薄膜表面改質(zhì)裝置5,在改質(zhì)處理過程中，薄膜處于放電電極一側(cè)的面受 到從放電電極向處理輥的電暈放電照射，親水性提高，而處于處理輥一側(cè)的面不會受到電 暈放電處理，親水性幾乎不變。由于不用對不需要提高密著性的面進行防水加工，也不需要 將整個薄膜表面改質(zhì)裝置形成為復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，僅通過電暈放電照射就能提高薄膜的放電電 極一側(cè)的面的親水性，因此，能夠容易地提高薄膜單面的親水性。
[0047] 〈偏光膜制造裝置的結(jié)構(gòu)〉
[0048] 圖3?圖5示意性地表示了本實用新型的偏光膜制造裝置及其組成部分的結(jié)構(gòu)。 其中，圖3是偏光膜制造裝置的大致結(jié)構(gòu)的示意圖，圖4是表示偏光膜制造裝置的原料膜供 給部和偏光片制造部的示意圖，圖5是表示偏光膜制造裝置的保護膜供給部和保護膜處理 部的示意圖。
[0049] 如圖3所示，偏光膜制造裝置包括原料膜供給部2、偏光片制造部3、保護膜供給部 4, 4、保護膜處理部5'，5'、貼合處理部6和偏光膜卷取部7。
[0050] 參照圖4,原料膜供給部2由卷筒等構(gòu)成，卷繞有用于制造偏光片的原料膜P1，如 聚乙烯醇膜（PVA膜)，在偏光片制造過程中，原料膜供給部2在驅(qū)動輥的驅(qū)動下轉(zhuǎn)動，連續(xù) 地向偏光片制造部3送出原料膜P1。
[0051] 偏光片制造部3將來自原料膜供給部2的原料膜P1依次浸入例如膨潤處理槽31、 染色處理槽32、硼酸處理槽33和清洗處理槽34進行膨潤處理、染色處理、硼酸處理、延伸處 理、清洗處理而形成偏光片P2,之后將該偏光片P2經(jīng)干燥處理箱35進行干燥處理后送出至 后述的貼合處理部6。
[0052] 以下將簡單地介紹上述膨潤處理、染色處理、硼酸處理、延伸處理、清洗處理和干 燥處理。
[0053] 在以下說明中，將未經(jīng)處理以及處于各處理過程中的薄膜稱為"原料膜"，將經(jīng)過 膨潤處理、染色處理、硼酸處理、延伸處理、清洗處理后和干燥處理后的薄膜稱為"偏光片"。
[0054] [膨潤處理]
[0055] 如圖4所示，首先，在膨潤處理槽31中對原料膜P1實施膨潤處理。進行膨潤處理 的目的在于，除去原料膜P1表面的異物和原料膜P1中存在的增塑劑，以便在后續(xù)的處理工 序中容易進行染色處理，提高薄膜的可塑性。
[0056] 作為膨潤處理槽31中所用的膨潤浴，除純水以外，也可以是硼酸、或者添加了以 氯化物為代表的無機鹽、以醇類為代表的水溶性有機溶劑的水溶液。不過，在膨潤處理槽31 中，最好使用實質(zhì)上沒有溶解成分的純水。通過該處理，能夠洗掉原料膜P1表面的污物和 防粘連劑，并能夠通過使原料膜P1膨潤來防止染色斑等不均勻。在膨潤浴中，適當(dāng)添加甘 油、碘化鉀。
[0057] [染色處理]
[0058] 如圖4所示，經(jīng)過膨潤處理的原料膜P1被送入到染色處理槽32,在該染色處理槽 32中通過含有二向色性色素的染色浴，被實施染色處理。作為二向色性色素，通常使用碘或 二向色性的有機染料。染色處理的目的是使二向色性色素在原料膜P1上吸附定向，其條件 是在能夠達(dá)成該目的的范圍內(nèi)以及不使原料膜產(chǎn)生極端的溶解、失透等不良情況的范圍內(nèi) 確定的。
[0059] [硼酸處理]
[0060] 如圖4所示，染色處理后的原料膜P1被送入到硼酸處理槽33,在該硼酸處理槽33 中進入硼酸處理工序。該硼酸處理是通過將由二向色性色素染過色的原料膜P1浸漬在硼 酸處理槽33中的硼酸水溶液來進行的。
[0061] [延伸處理]
[0062] 在使用原料膜制造偏光片的過程中，在上述的染色處理工序及硼酸處理工序中的 至少一個工序以及上述的膨潤處理工序中，使原料膜P1在周向速度不同的輥子之間通過， 對該原料膜P1進行濕式的單軸延伸處理。
[0063] 通過該延伸處理，能夠使原料膜P1以規(guī)定延伸倍率延伸至預(yù)定尺寸。
[0064] [清洗處理]
[0065] 在經(jīng)過上述膨潤處理、染色處理、硼酸處理、延伸處理之后，將原料膜P1送入清洗 處理槽34中進行清洗處理。作為清洗處理的方法，可以采用將來自硼酸處理槽33的原料 膜P1浸漬在水中的方法、將水噴淋到原料膜P1上的方法以及并用浸漬和噴淋的方法等。 [0066] 通過該清洗處理，能夠?qū)埩粼谠夏1上的無用殘存物洗去。
[0067] [干燥處理]
[0068] 經(jīng)清洗處理后的原料膜P1被導(dǎo)入到干燥處理箱35,實施干燥處理。
[0069] 如此，在經(jīng)過以上的膨潤處理、染色處理、硼酸處理、延伸處理、清洗處理和干燥處 理之后，得到偏光片P2。
[0070] 如圖3及圖4所示，該偏光片P2被向后述的貼合處理部6輸送，與同時輸送至該 處的保護膜F貼合在一起(詳見后述)。
[0071] 如圖3及圖5所示，保護膜供給部4, 4由卷筒等構(gòu)成，卷繞有用于制造偏光膜P3 的保護膜F，F(xiàn)。在制造偏光膜的過程中，該保護膜供給部4, 4在驅(qū)動輥的驅(qū)動作用下轉(zhuǎn)動， 連續(xù)地向保護膜處理部5'，5'送出保護膜F，F(xiàn)。
[0072] 作為保護膜的材料，如上所述，可以列舉出例如（甲基）丙烯酸類樹脂、纖維素類樹 脂如二乙酰纖維素或三乙酰纖維素、環(huán)烯烴類樹脂、烯烴類樹脂如聚丙烯、酯類樹脂如聚對 苯二甲酸乙二醇酯類樹脂、聚酰胺類樹脂、聚碳酸酯類樹脂或其共聚物樹脂等。
[0073] 保護膜處理部5'，5'對來自保護膜供給部4, 4的保護膜F，F(xiàn)的將要與偏光片P2 貼合的表面進行改質(zhì)處理，提高該表面的親水性。
[0074] 在本實施方式中，保護膜處理部5'，5'利用前述薄膜表面改質(zhì)裝置5進行電暈 放電，照射保護膜F，F(xiàn)的將要與偏光片P2貼合的表面從而進行改質(zhì)處理。關(guān)于薄膜表面改 質(zhì)裝置5的具體結(jié)構(gòu)及工作過程，此處將不再贅述。
[0075] 如圖3所示，貼合處理部6主要由彼此靠近設(shè)置的一對貼合輥61，62構(gòu)成，在該一 對貼合輥61，62之間形成規(guī)定的輥隙。來自保護膜處理部5'，5'的保護膜F，F(xiàn)在經(jīng)過貼 合輥61，62之間的輥隙時，分別被貼合在來自偏光片制造部3的偏光片P2的正反面上，形 成層疊結(jié)構(gòu)的偏光膜P3。
[0076] 在以（日本）特開2012-073569中公開的拉伸層疊體作為原料膜的情況下，保護膜 供給部4和保護膜處理部5僅設(shè)置在（日本)特開2012-073569中公開的拉伸層疊體中的偏 光片一側(cè)，將該原料膜貼合在偏光片一側(cè)的面上。
[0077] 偏光膜卷取部7由卷筒等構(gòu)成，被未圖示的電機驅(qū)動，用于將來自貼合處理部6的 制造好的偏光膜P3卷繞起來。
[0078] 〈偏光膜制造裝置的工作〉
[0079] 以下，參照圖3至圖5對偏光膜制造裝置的工作過程進行說明。
[0080] 在制造偏光膜時，接通電源，起動偏光膜制造裝置。
[0081] 此時，來自原料膜供給部2的原料膜P1被送入到偏光片制造部3,在膨潤處理槽 31、染色處理槽32、硼酸處理槽33和清洗處理槽34中進行膨潤處理、染色處理、硼酸處理、 延伸處理、清洗處理而形成偏光片P2,之后經(jīng)干燥處理箱35干燥，被送出至貼合處理部6。
[0082] 與此同時，來自保護膜供給部4,4的保護膜F，F(xiàn)被送入到保護膜處理部5'，5'， 卷繞在處理輥52, 52上而在放電電極53, 54的放電端531，541與處理輥52, 52的表面S，S 之間經(jīng)過，使其放電端531，541 -側(cè)的面受到電暈放電處理，提高親水性。然后，經(jīng)過電暈 放電處理的保護膜F，F(xiàn)被送出至貼合處理部6。
[0083] 保護膜F，F(xiàn)在經(jīng)過貼合輥61，62之間的輥隙時，分別被貼合在同樣經(jīng)過該輥隙偏 光片P2的正反兩面上，形成層疊結(jié)構(gòu)的偏光膜P3。制造好的偏光膜P3從貼合處理部6輸 出，由偏光膜卷取部7卷繞起來。
[0084] 在制造完偏光膜之后，切斷電源，使偏光膜制造裝置停止工作。
[0085] 根據(jù)上述偏光膜制造裝置，在制造偏光膜時，纏繞在處理輥上的保護膜一邊使其 放電電極一側(cè)的面受到從放電電極向處理輥的電暈放電照射、提高親水性，一邊被連續(xù)地 輸送到貼合處理部，貼合在從偏光片制造部輸送而來的偏光片上，形成偏光膜。由于不用 對不需要提高密著性的面進行防水加工，也不需要形成為復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，僅通過電暈放電照 射就能提高保護膜的放電電極一側(cè)的面的親水性，因此能夠容易地提高保護膜單面的親水 性。
[0086] 以上為了便于理解而示例性地描述了本實用新型的實施方式，但本實用新型并不 限于上述具體形態(tài)。在本實用新型的技術(shù)思想的范疇內(nèi)能夠做出各種改變，這些改變也同 樣包含在本實用新型的范圍內(nèi)。
[0087] 例如，以上以設(shè)置兩個放電電極的情況為例進行了說明，但也可以僅設(shè)置一個放 電電極，或者設(shè)置三個或三個以上的放電電極。
[0088] 再如，以上以設(shè)置處理室和排氣機的情況為例進行了說明，但在必要的情況下，也 可以省略處理室和排氣機來實施。
[〇〇89] 再如，以上以在偏光片的正反兩面上僅貼合一層保護膜的情況為例進行了說明， 但也可以在貼設(shè)完上述保護膜之后，進一步在所形成的偏光膜的正反兩面上貼設(shè)表面保護 膜，進一步保護偏光膜。
【權(quán)利要求】
1. 一種薄膜表面改質(zhì)裝置，其特征在于，包括： 處理輥，其與地面電連接，用于輸送薄膜； 放電電極，其放電端與所述處理輥的表面相對設(shè)置； 供電部，其與所述放電電極電連接，用于向所述放電電極通電，從而在該放電電極與所 述處理輥之間發(fā)生電暈放電。
2. 如權(quán)利要求1所述的薄膜表面改質(zhì)裝置，其特征在于， 所述放電電極設(shè)有多個，多個所述放電電極在所述處理輥的周向上間隔配置。
3. 如權(quán)利要求2所述的薄膜表面改質(zhì)裝置，其特征在于， 在所述處理輥的周向上彼此相鄰設(shè)置的放電電極的放電端之間的距離為5 Omm? 400mm〇
4. 如權(quán)利要求1所述的薄膜表面改質(zhì)裝置，其特征在于， 所述放電電極的放電端與所述處理輥的表面之間的距離為1mm?3mm。
5. 如權(quán)利要求1所述的薄膜表面改質(zhì)裝置，其特征在于， 所述放電電極的放電端的截面形成為波浪形狀、圓弧形狀或楔形形狀。
6. 如權(quán)利要求1所述的薄膜表面改質(zhì)裝置，其特征在于， 所述放電電極由不銹鋼或或鋁制成。
7. 如權(quán)利要求1所述的薄膜表面改質(zhì)裝置，其特征在于， 所述處理輥包括與地面電連接的金屬制的輥芯和嵌套在該輥芯的外周面上的襯套，所 述襯套由硅橡膠或陶瓷制成。
8. 如權(quán)利要求1所述的薄膜表面改質(zhì)裝置，其特征在于，還包括： 處理室，其容納所述處理輥和所述放電電極，設(shè)有排氣口、供待處理的薄膜進入的薄膜 入口和供處理完的薄膜送出的薄膜出口； 排氣機，其與所述排氣口連通。
9. 一種偏光膜制造裝置，包括供給原料膜的原料膜供給部、將來自該原料膜供給部的 原料膜制造成偏光片的偏光片制造部、供給保護膜的保護膜供給部、對來自該保護膜供給 部的保護膜的表面進行表面改質(zhì)處理的保護膜處理部、將所述保護膜的經(jīng)過所述表面改質(zhì) 處理的表面貼合在所述偏光片的表面上從而形成偏光膜的貼合處理部和卷取該偏光膜的 偏光膜卷取部， 其特征在于，所述保護膜處理部具有如權(quán)利要求1至8中任一項所述的薄膜表面改質(zhì) 裝置，利用該薄膜表面改質(zhì)裝置進行所述表面改質(zhì)處理。
【文檔編號】G02B5/30GK203894429SQ201420056887
【公開日】2014年10月22日 申請日期:2014年1月29日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月29日
【發(fā)明者】西鄉(xiāng)公史, 原寬高, 祝部學(xué) 申請人:日東電工株式會社