一種基板和掩模板的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種基板，包括：面板區(qū)和所述面板區(qū)外圍的非產(chǎn)品使用區(qū)；所述面板區(qū)內(nèi)設(shè)置有至少一個面板；所述非產(chǎn)品使用區(qū)內(nèi)設(shè)置有至少一個增強全局對位記號圖形單元；所述增強全局對位記號圖形單元包括增強全局對位記號區(qū)圖形和所述增強全局對位記號區(qū)圖形外圍的虛擬區(qū)圖形。本實用新型還提供一種掩模板，用于制造上述的基板。本實用新型能夠降低增強對位記號的制造難度。
【專利說明】一種基板和掩模板
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及曝光領(lǐng)域，特別是指一種基板和掩模板。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，在曝光系統(tǒng)中基板和掩膜板實現(xiàn)對位的方式主要有以下兩種:
[0003]一是使用LSA (laser step alignment,激光步進(jìn)對齊)的方式進(jìn)行,該實現(xiàn)方式在進(jìn)行掩膜板和基板對位時，采用分別間接對位的方式來進(jìn)行。先進(jìn)行掩膜板上記號標(biāo)識的識別及掩膜板位置的處理，然后基板位置主要通過識別表面的凹凸點來控制，具有高靈敏度、高識別能力和處理速度快的優(yōu)點。但是受基板表面形貌的影響比較大。
[0004]另外一種是FIA (Field Image Alignment場圖像對齊)方式。該方式主要是通過識別圖像的方式來實現(xiàn)，通過同時讀取掩膜板和基板上的記號標(biāo)識，進(jìn)行對位處理。該方式可以很好的識別粗糙的表面。
[0005]在這兩種曝光對位系統(tǒng)中，由于對位識別標(biāo)記不一致，故若涉及到兩種工藝的融合，需要同時進(jìn)行兩種標(biāo)記的制備工作。
[0006]在一些生成工藝線中，LSA的對位方式需要制得增強全局對位記號(EGA mark,Enhance Global Alignment mark),以便于光學(xué)(photo)曝光機的記號標(biāo)識識別。而在FIA方式中需要制得叉字記號，這兩種mark分別形成在陣列(array)的光學(xué)曝光機和彩色濾光片曝光機中。在使用拼接方式進(jìn)行曝光的方式中單純進(jìn)行記號制備及工藝控制很容易實現(xiàn)，但是，在接近式曝光方式中，由于曝光是一次形成，需要單獨控制某個記號的大小及位置時，則較難操作。
[0007]實用新型人發(fā)現(xiàn)，在彩色濾光片曝光機中進(jìn)行黑矩陣工藝制作的同時，如果也想制得增強全局對位記號，實現(xiàn)難度較大，較難保留。
[0008]如果單純制得增強全局對位記號，還可以操作，但是如果考慮到像素內(nèi)黑矩陣特征尺寸(BM⑶)的特征尺寸偏差(⑶bias)，則增強全局對位記號不僅保留難度較大，而且即使能夠保留，各方面的尺寸也會出現(xiàn)不達(dá)標(biāo)的現(xiàn)象。
實用新型內(nèi)容
[0009]本實用新型要解決的技術(shù)問題是，提供一種基板和掩模板，能夠降低增強全局對位記號區(qū)圖形的制造難度。
[0010]一種基板，包括:面板區(qū)和所述面板區(qū)外圍的非產(chǎn)品使用區(qū)；
[0011]所述面板區(qū)內(nèi)設(shè)置有至少一個面板；
[0012]所述非產(chǎn)品使用區(qū)內(nèi)設(shè)置有至少一個增強全局對位記號圖形單元；
[0013]所述增強全局對位記號圖形單元包括增強全局對位記號區(qū)圖形和所述增強全局對位記號區(qū)圖形外圍的虛擬區(qū)圖形。
[0014]所述增強全局對位記號圖形單元的所述增強全局對位記號區(qū)圖形包括至少一個增強全局對位記號隊列。[0015]所述增強全局對位記號隊列中的增強全局對位記號為方形或圓形。
[0016]當(dāng)所述增強全局對位記號區(qū)圖形包括至少兩個增強全局對位記號隊列時，所述至少兩個增強全局對位記號隊列的第一增強全局對位記號隊列中增強全局對位記號的面積大于第二增強全局對位記號隊列的增強全局對位記號的面積。
[0017]所述虛擬區(qū)圖形與所述面板中的像素圖形相同。
[0018]所述虛擬區(qū)圖形包括多個中空的矩形或者多個中空的圓形。
[0019]一種掩模板，用于制備上述的基板，包括:面板區(qū)圖形和所述面板區(qū)圖形外圍的非產(chǎn)品使用區(qū)圖形；
[0020]所述面板區(qū)圖形內(nèi)設(shè)置有至少一個面板圖形；
[0021]所述非產(chǎn)品使用區(qū)圖形內(nèi)設(shè)置有至少一個增強全局對位記號圖形單元；
[0022]所述增強全局對位記號圖形單元包括增強全局對位記號區(qū)圖形和所述增強全局對位記號區(qū)圖形外圍的虛擬區(qū)圖形。
[0023]所述增強全局對位記號區(qū)圖形包括至少一個增強全局對位記號隊列。
[0024]所述增強全局對位記號隊列中的增強全局對位記號為方形或圓形。
[0025]當(dāng)所述增強全局對位記號區(qū)圖形包括至少兩個增強全局對位記號隊列時，所述至少兩個增強全局對位記號隊列的第一增強全局對位記號隊列中增強全局對位記號的面積大于第二增強全局對位記號隊列中增強全局對位記號的面積。
[0026]所述虛擬區(qū)圖形與所述面板中的像素圖形相同。
[0027]本實用新型的上述技術(shù)方案的有益效果如下:
[0028]本實用新型增加了虛擬區(qū)圖形，由于有虛擬區(qū)圖形在增強全局對位記號區(qū)圖形外圍的保護(hù)，可保證增強全局對位記號區(qū)圖形的對位記號不易洗去，降低了對位記號的制造難度。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0029]圖1為本實用新型所述的基板的示意圖；
[0030]圖2為本實用新型所述的基板中增強全局對位記號圖形單元的示意圖。
[0031]圖3為本實用新型所述的掩模板的示意圖；
[0032]圖4為本實用新型所述的掩模板中增強全局對位記號圖形單元的示意圖。
【具體實施方式】
[0033]為使本實用新型要解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合附圖及具體實施例進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0034]如圖1所示，為本實用新型所述的一種基板，包括:面板區(qū)(例如，圖1中加粗虛線矩形限定的區(qū)域)和所述面板區(qū)外圍的非產(chǎn)品使用區(qū)；
[0035]所述面板區(qū)內(nèi)設(shè)置有至少一個面板11 (圖1中以15個面板的情況示意)；
[0036]所述非產(chǎn)品使用區(qū)內(nèi)設(shè)置有至少一個增強全局對位記號圖形單元22 (圖1中以6個增強全局對位記號圖形單元的情況示意)。
[0037]圖2為本實用新型所述的基板中增強全局對位記號圖形單元的示意圖。如圖2所示，其中一個增強全局對位記號圖形單元22包括增強全局對位記號區(qū)圖形331、332、333和所述增強全局對位記號區(qū)圖形外圍的虛擬區(qū)圖形44。
[0038]所述增強全局對位記號圖形單元22的所述增強全局對位記號區(qū)圖形包括至少一個增強全局對位記號隊列，例如，圖2中，示出了 3個增強全局對位記號隊列，分別為331、332、333，實際生產(chǎn)中可以根據(jù)需要設(shè)定增強全局對位記號隊列的數(shù)量，在此不作限定。
[0039]可選的，所述增強全局對位記號隊列中的增強全局對位記號為方形或圓形，實際生產(chǎn)中可以根據(jù)需要設(shè)定增強全局對位記號的形狀，在此不作限定。
[0040]圖1中，所述增強全局對位記號圖形單元為多個，分布在基板的兩側(cè)，并且，居于一側(cè)的增強全局對位記號圖形單元可以間隔排列。
[0041]當(dāng)所述增強全局對位記號區(qū)圖形包括至少兩個增強全局對位記號隊列時，所述至少兩個增強全局對位記號隊列的第一增強全局對位記號隊列中增強全局對位記號的面積大于第二增強全局對位記號隊列中增強全局對位記號的面積。例如，圖2中，所述增強全局對位記號區(qū)圖形包括三個增強全局對位記號隊列，第一增強全局對位記號隊列中增強全局對位記號331的邊長為8 μ m,第二增強全局對位記號隊列中增強全局對位記號332的邊長為ΙΟμπι，第三增強全局對位記號隊列中增強全局對位記號333的邊長為12μπι。這樣，可以進(jìn)行不同邊長的設(shè)計，在使用中并不局限于一個邊長，進(jìn)行不同邊長選擇，從而提高產(chǎn)品的利用率。
[0042]所述虛擬區(qū)圖形與所述面板中的像素圖形相同，也可以不同。
[0043]可選的，所述虛擬區(qū)圖形包括多個中空的矩形或者多個中空的圓形。
[0044]其中，所述虛擬區(qū)圖形可以采用黑矩陣材料，也可以在基板黑矩陣工藝中制作而成，也可以使用其他樹脂材料或膜層材料
[0045]以下描述本實用新型的基板的制作過程。
[0046]首先，對所要制得的產(chǎn)品的BM⑶bias (黑矩陣特征尺寸偏差)進(jìn)行規(guī)劃處理，得到產(chǎn)品相關(guān)的數(shù)據(jù)；
[0047]然后，根據(jù)上述的⑶bias，對掩模板上的尺寸進(jìn)行相應(yīng)的放大處理后，進(jìn)行EGA設(shè)計。該EGA設(shè)計在面板外，并且曝光機可以識別的位置上；
[0048]然后,在EGA mark保證區(qū)域外,進(jìn)行BM dummy (黑矩陣虛擬)設(shè)計；BM dummy設(shè)計可以采用與像素中相同的設(shè)計，或其他設(shè)計方式。
[0049]本實用新型所述的基板，包括增強全局對位記號圖形單元的基板。以彩色濾光片基板為例，可以為經(jīng)過黑矩陣工藝的基板，也可以為依次經(jīng)過黑矩陣工藝以及彩色濾色膜層工藝的基板；可以為依次經(jīng)過黑矩陣工藝、彩色濾色膜層工藝以及涂覆保護(hù)層工藝基板，也可以為依次經(jīng)過黑矩陣工藝、彩色濾色膜層工藝、涂覆保護(hù)層工藝以及隔墊物工藝的基板。
[0050]本實用新型還提供一種掩模板，用于制造上述的基板中的增強全局對位記號圖形單元。
[0051]如圖3所示，所述掩模板，包括:面板區(qū)圖形(例如，圖3中加粗虛線矩形限定的區(qū)域)和所述面板區(qū)圖形外圍的非產(chǎn)品使用區(qū)圖形；
[0052]所述面板區(qū)圖形內(nèi)設(shè)置有至少一個面板圖形55 (圖3中以15個面板圖形的情況示意);
[0053]所述非產(chǎn)品使用區(qū)圖形內(nèi)設(shè)置有至少一個增強全局對位記號圖形單元66(圖3以6個增強全局對位記號圖形單元的情況示意)；
[0054]圖4為本實用新型所述的掩膜板中增強全局對位記號圖形單元的示意圖。如圖4所示，其中一個增強全局對位記號圖形單元66包括增強全局對位記號區(qū)圖形和所述增強全局對位記號區(qū)圖形外圍的虛擬區(qū)圖形88。
[0055]所述增強全局對位記號區(qū)圖形包括至少一個增強全局對位記號隊列，例如，圖4中，為三個增強全局對位記號隊列，分別為771、772、773。
[0056]可選的，所述增強全局對位記號隊列中的增強全局對位記號為方形或圓形，實際生產(chǎn)中可以根據(jù)需要對設(shè)定增強全局對位記號的形狀，在此不作限定。
[0057]當(dāng)所述增強全局對位記號區(qū)圖形包括至少兩個增強全局對位記號隊列時，所述至少兩個增強全局對位記號隊列的第一增強全局對位記號隊列中增強全局對位記號的面積大于第二增強全局對位記號隊列中增強全局對位記號的面積。例如，圖4中，所述增強全局對位記號區(qū)圖形包括三個增強全局對位記號隊列，第一增強全局對位記號隊列中增強全局對位記號771的邊長為8 μ m,第二增強全局對位記號隊列中增強全局對位記號772的邊長為ΙΟμπι，第三增強全局對位記號隊列中增強全局對位記號773的邊長為12 μ m。
[0058]可選的，所述虛擬區(qū)圖形與所述面板中的像素圖形相同。
[0059]可選的，所述虛擬區(qū)圖形包括多個中空的矩形或者多個中空的圓形。
[0060]本實用新型針對使用黑矩陣光刻膠形成增強全局對位記號較難，且制得后工藝不滿足的缺點；以及若使用光學(xué)曝光機增加工藝復(fù)雜度的劣勢，進(jìn)行了黑矩陣掩模板上增強全局對位曝光區(qū)域的記號的設(shè)計，通過對增強全局對位記號區(qū)域進(jìn)行設(shè)計改善，提供一種對位記號設(shè)計改良的方案，形成了理想中的記號形狀，從而解決了記號不易制備，工藝復(fù)雜的技術(shù)問題，在確保像素內(nèi)黑矩陣的特征尺寸偏差范圍內(nèi)成功制備了需要的增強全局對位的對位記號，同時減小了工藝的復(fù)雜程度，提升了產(chǎn)線的效率和良率。此外，本實用新型還可以解決兩種曝光機間對位方式不匹配的問題。
[0061]此外，本實用新型還增加了虛擬區(qū)圖形，由于有虛擬區(qū)圖形在增強全局對位記號區(qū)圖形外圍的保護(hù)，可保證增強全局對位記號區(qū)圖形的對位記號不易洗去，降低了對位記號的制造難度。
[0062]以上所述是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型所述原理的前提下，還可以作出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本實用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種基板，其特征在于，包括:面板區(qū)和所述面板區(qū)外圍的非產(chǎn)品使用區(qū)； 所述面板區(qū)內(nèi)設(shè)置有至少一個面板； 所述非產(chǎn)品使用區(qū)內(nèi)設(shè)置有至少一個增強全局對位記號圖形單元； 所述增強全局對位記號圖形單元包括增強全局對位記號區(qū)圖形和所述增強全局對位記號區(qū)圖形外圍的虛擬區(qū)圖形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其特征在于，所述增強全局對位記號圖形單元的所述增強全局對位記號區(qū)圖形包括至少一個增強全局對位記號隊列。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板，其特征在于， 所述增強全局對位記號隊列中的增強全局對位記號為方形或圓形。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板，其特征在于， 當(dāng)所述增強全局對位記號區(qū)圖形包括至少兩個增強全局對位記號隊列時，所述至少兩個增強全局對位記號隊列的第一增強全局對位記號隊列中增強全局對位記號的面積大于第二增強全局對位記號隊列的增強全局對位記號的面積。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其特征在于， 所述虛擬區(qū)圖形與所述面板中的像素圖形相同。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其特征在于， 所述虛擬區(qū)圖形包括多個中空的矩形或者多個中空的圓形。
7.—種掩模板,用于制備權(quán)利要求1至6任意一項所述的基板,其特征在于,包括:面板區(qū)圖形和所述面板區(qū)圖形外圍的非產(chǎn)品使用區(qū)圖形； 所述面板區(qū)圖形內(nèi)設(shè)置有至少一個面板圖形； 所述非產(chǎn)品使用區(qū)圖形內(nèi)設(shè)置有至少一個增強全局對位記號圖形單元； 所述增強全局對位記號圖形單元包括增強全局對位記號區(qū)圖形和所述增強全局對位記號區(qū)圖形外圍的虛擬區(qū)圖形。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的掩模板，其特征在于，所述增強全局對位記號區(qū)圖形包括至少一個增強全局對位記號隊列。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的掩模板，其特征在于， 所述增強全局對位記號隊列中的增強全局對位記號為方形或圓形。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的掩模板，其特征在于， 當(dāng)所述增強全局對位記號區(qū)圖形包括至少兩個增強全局對位記號隊列時，所述至少兩個增強全局對位記號隊列的第一增強全局對位記號隊列中增強全局對位記號的面積大于第二增強全局對位記號隊列中增強全局對位記號的面積。
【文檔編號】G03F1/42GK203587963SQ201320627432
【公開日】2014年5月7日 申請日期:2013年10月11日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月11日
【發(fā)明者】王燦, 高浩然, 王路 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司