彩色濾光片、制作方法及顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種彩色濾光片、制作方法及顯示裝置，方法包括利用構(gòu)圖工藝在基板上形成黑矩陣層；在黑矩陣層限定的次像素區(qū)域中形成彩色濾光層，且在所述形成彩色濾光層過程中，在其中至少一個黑矩陣上利用與彩色濾光層的同一構(gòu)圖工藝形成隔墊物；在所述隔墊物遠離基板的一側(cè)形成公共電極層，所述公共電極層在隔墊物頂部區(qū)域為開口設(shè)置。本發(fā)明提供了彩色濾光片、制作方法及顯示裝置，通過在黑矩陣上形成的隔墊物，當(dāng)彩膜基板和陣列基板對盒時，起到隔墊作用，在所述隔墊物遠離基板的一側(cè)形成有公共電極層，所述公共電極層在隔墊物頂部區(qū)域為開口設(shè)置，從而避免彩膜基板的公共電極與陣列基板的源漏極相接觸，改善了短路的問題。
【專利說明】彩色濾光片、制作方法及顯示裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及顯示技術(shù)，特別涉及一種彩色濾光片、制作方法及顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]彩色濾光片是液晶顯示器的重要組成部分。背光源的白光經(jīng)過彩色濾光片的紅、綠、藍三色顏料光阻，被過濾為紅光、綠光和藍光，最后在人眼中混合成為彩色影像。彩色濾光片占液晶顯示器面板成本的30%以上，因此是發(fā)展TFT-LCD(Thin Film Transistor LCD，薄膜場效應(yīng)晶體管LCD)產(chǎn)業(yè)必須要掌握的核心技術(shù)。
[0003]彩色濾光片包括:在基板的一側(cè)形成有BM (black matrix,黑矩陣)，R-G-B層，OC(Over Coat,掩膜層)，ITO (Indium tin oxide,公共電極層)和 PS (Post spacer,隔墊物)。
[0004]然而，現(xiàn)有的彩色濾光片在對盒工藝時，由于壓力作用可能導(dǎo)致陣列基板的鈍化層破壞，使得彩色濾光片的公共電極與陣列基板的源漏極相接觸，造成短路不良。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005](一)解決的技術(shù)問題
[0006]本發(fā)明解決的技術(shù)問題是:如何解決彩色濾光片與陣列基板在對盒過程中由于壓力作用可能導(dǎo)致陣列基板的鈍化層破壞問題。
[0007](二)技術(shù)方案
[0008]為解決現(xiàn)有技術(shù)的問題，一種彩色濾光片制作方法，包括:
[0009]利用構(gòu)圖工藝在基板上形成黑矩陣層；
[0010]在其中至少一個黑矩陣上形成隔墊物；
[0011]在所述隔墊物遠離基板的一側(cè)形成公共電極層，所述公共電極層在隔墊物頂部區(qū)域為開口設(shè)置。
[0012]優(yōu)選地，所述在其中至少一個黑矩陣上形成隔墊物，具體包括:
[0013]在黑矩陣層限定的次像素區(qū)域中形成彩色濾光層，且在所述形成彩色濾光層過程中，在其中至少一個黑矩陣上利用與彩色濾光層的同一構(gòu)圖工藝形成隔墊物。
[0014]優(yōu)選地，所述在所述隔墊物遠離基板的一側(cè)形成公共電極層，具體包括:
[0015]在所述隔墊物、黑矩陣以及彩色濾光層遠離基板的一側(cè)形成平坦層；
[0016]利用構(gòu)圖工藝在平坦層遠離基板的一側(cè)形成公共電極層。
[0017]優(yōu)選地，所述公共電極層在隔墊物頂部區(qū)域為開口設(shè)置，具體包括:
[0018]在所述公共電極層上涂布光刻膠；
[0019]對所述公共電極層上的光刻膠進行灰化，使得隔墊物區(qū)域表面的公共電極層暴露；
[0020]進行所述公共電極層的刻蝕，將暴露出來的公共電極層刻蝕掉，并剝離剩余光刻膠。
[0021]本發(fā)明實施例還提供了一種彩色濾光片，包括基板、形成于基板上的黑矩陣層，還包括在其中至少一個黑矩陣上形成的隔墊物，以及在所述隔墊物遠離基板的一側(cè)形成有公共電極層，所述公共電極層在隔墊物頂部區(qū)域為開口設(shè)置。
[0022]優(yōu)選地，還包括在黑矩陣層限定的次像素區(qū)域中形成彩色濾光層，且在其中至少一個黑矩陣上利用與彩色濾光層的同一構(gòu)圖工藝形成隔墊物。
[0023]優(yōu)選地，所述隔墊物從遠離黑矩陣的一側(cè)依次包括第一隔墊物、第二隔墊物和第
三隔墊物。
[0024]優(yōu)選地，所述第一隔墊物與所述彩色濾光層的紅色濾光層為同一構(gòu)圖工藝形成；
[0025]所述第二隔墊物與所述彩色濾光層的綠色濾光層為同一構(gòu)圖工藝形成；
[0026]所述第三隔墊物與所述彩色濾光層的藍色濾光層為同一構(gòu)圖工藝形成。
[0027]優(yōu)選地，在所述隔墊物遠離基板的一側(cè)形成有平坦層；
[0028]所述平坦層覆蓋有黑矩陣和所述彩色濾光層。
[0029]優(yōu)選地，所述公共電極層相對于所述隔墊物頂端的高度低于所述平坦層相對于所述隔墊物頂端的高度。
[0030]本發(fā)明還提供了 一種顯示裝置，包括上述的彩色濾光片。
[0031](三)有益效果
[0032]本發(fā)明提供了一種彩色濾光片、制作方法及顯示裝置，通過在黑矩陣上形成的隔墊物，當(dāng)彩膜基板和陣列基板對盒時，起到隔墊作用，在所述隔墊物遠離基板的一側(cè)形成有公共電極層，所述公共電極層在隔墊物頂部區(qū)域為開口設(shè)置，從而避免彩膜基板的公共電極與陣列基板的源漏極相接觸，改善了短路的問題。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0033]圖1是本發(fā)明實施例1提供的方法流程圖；
[0034]圖2是本發(fā)明實施例1提供的步驟101對應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0035]圖3是本發(fā)明實施例1提供的步驟102對應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0036]圖4是本發(fā)明實施例1提供的步驟103對應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖5是本發(fā)明實施例1提供的步驟104對應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0038]圖6是本發(fā)明實施例1提供的步驟105對應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0039]圖7是本發(fā)明實施例1提供的步驟106對應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0040]圖8是本發(fā)明實施例1提供的步驟107對應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0041]圖9是本發(fā)明實施例1提供的步驟108對應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0042]圖10是本發(fā)明實施例1提供的步驟109對應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0043]圖11是本發(fā)明實施例2提供的彩膜基板與陣列基板的對盒示意圖。
【具體實施方式】
[0044]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作一簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0045]實施例1[0046]為了解決現(xiàn)有技術(shù)的彩色濾光片與陣列基板在對盒過程中公共電極與源漏極接觸的問題，本發(fā)明實施例提供了一種彩色濾光片制作方法，如圖1所示，包括:
[0047]S1:利用構(gòu)圖工藝在基板上形成黑矩陣層；
[0048]S2:在其中至少一個黑矩陣上形成隔墊物；
[0049]S3:在所述隔墊物遠離基板的一側(cè)形成公共電極層，所述公共電極層在隔墊物頂部區(qū)域為開口設(shè)置。
[0050]本發(fā)明實施例通過在黑矩陣上形成隔墊物，當(dāng)彩膜基板和陣列基板對盒時，該隔墊物起到隔墊作用，在所述隔墊物遠離基板的一側(cè)形成公共電極層，所述公共電極層在隔墊物頂部區(qū)域為開口設(shè)置，從而避免彩膜基板的公共電極與陣列基板的源漏極相接觸，改善了短路的問題。
[0051]本發(fā)明實施例中S2:在其中至少一個黑矩陣上形成隔墊物；具體包括:在黑矩陣層限定的次像素區(qū)域中形成彩色濾光層，且在所述形成彩色濾光層過程中，在其中至少一個黑矩陣上利用與彩色濾光層的同一構(gòu)圖工藝形成隔墊物。即在制作完彩色濾光層(RGB層)時，已經(jīng)形成了由RGB材料堆疊組成的隔墊物圖案，減少了一次Mask工藝。
[0052]通過以下步驟詳細說明本發(fā)明實施例中彩色濾光片制作方法的過程:
[0053]步驟101:利用構(gòu)圖工藝在基板I的一側(cè)形成黑矩陣2 (BM)層。該過程如圖2所
/Jn ο
[0054]步驟102:在黑矩陣2層限定的次像素區(qū)域中形成紅色濾光層3，同時在其中至少一個黑矩陣2上利用與紅色濾光層3的同一構(gòu)圖工藝形成第一隔墊物6 ;該過程對應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖如圖3所示。
[0055]其中，黑矩陣包括多個黑矩陣，黑矩陣層限定的次像素區(qū)域為黑矩陣之間的間隔區(qū)域。
[0056]步驟103:在黑矩陣2層限定的次像素區(qū)域中形成綠色濾光層4，同時在第一隔墊物6遠離基板I的一側(cè)利用與綠色濾光層4的同一構(gòu)圖工藝形成第二隔墊物7 ;該過程對應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖如圖4所示。
[0057]步驟104:在黑矩陣2層限定的次像素區(qū)域中形成藍色濾光層5，同時在第二隔墊物7遠離基板I的一側(cè)利用與藍色濾光層5的同一構(gòu)圖工藝形成第三隔墊物8 ;該過程對應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖如圖5所示。
[0058]在本發(fā)明實施例中，隔墊物是與彩色濾色層同一構(gòu)圖工藝形成；形成隔墊物的步驟102、步驟103和步驟104的順序可以打亂，且也可以包括步驟102、步驟103和步驟104其中的一個或多個步驟，在此本發(fā)明實施例不作具體限定。
[0059]步驟105:在第三隔墊物8、黑矩陣2以及彩色濾光層遠離基板I的一側(cè)形成平坦層9 ;該過程對應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖如圖6所示。
[0060]其中，該彩色濾光層包括紅色濾光層3、綠色濾光層4和藍色濾光層5。
[0061]在本發(fā)明實施例中，也可以先形成彩色濾光層和隔墊物，然后再形成黑矩陣層，在此本發(fā)明實施例不作具體限定。
[0062]步驟106:利用構(gòu)圖工藝在平坦層9遠離基板I的一側(cè)形成公共電極層10 ;該過程對應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖如圖7所示。
[0063]其中，該公共電極層10在平面圖中在隔墊物區(qū)域為孔狀，因此通過在基板中導(dǎo)入的電壓為公共電極層10提供電壓。
[0064]步驟107:在公共電極層10上涂布光刻膠11 ;該過程對應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖如圖8所
/Jn ο
[0065]步驟108:對公共電極層10上的光刻膠11進行灰化(Ashing)，將隔墊物區(qū)域表面的公共電極層10暴露；該過程對應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖如圖9所示。
[0066]其中,本發(fā)明實施例中的光刻膠為正性光刻膠。
[0067]步驟109:進行公共電極層10的刻蝕，將暴露出來的公共電極層10刻蝕掉，并剝離剩余光刻膠11，從而形成彩色濾光片；該過程對應(yīng)的結(jié)構(gòu)示意圖如圖10所示。
[0068]在本發(fā)明實施例中，通過在黑矩陣上形成的隔墊物，當(dāng)彩膜基板和陣列基板對盒時，起到隔墊作用，在所述隔墊物遠離基板的一側(cè)形成有公共電極層，所述公共電極層在隔墊物頂部區(qū)域為開口設(shè)置，從而避免彩膜基板的公共電極與陣列基板的源漏極相接觸，改善了短路的問題。
[0069]實施例2:
[0070]為了解決現(xiàn)有技術(shù)的彩色濾光片與陣列基板在對盒過程中由于壓力作用可能導(dǎo)致陣列基板的鈍化層破壞問題，本發(fā)明實施例提供了一種彩色濾光片，如圖10所示，包括:基板1、形成于基板I上的黑矩陣層，還包括在其中至少一個黑矩陣2上形成的隔墊物，以及在所述隔墊物遠離基板I的一側(cè)形成有公共電極層10，所述公共電極層10在隔墊物頂部區(qū)域為開口設(shè)置。
[0071]本發(fā)明通過在黑矩陣上形成的隔墊物，當(dāng)彩膜基板和陣列基板對盒時，起到隔墊作用，在所述隔墊物遠離基板的一側(cè)形成有公共電極層，所述公共電極層在隔墊物頂部區(qū)域為開口設(shè)置，從而避免彩膜基板的公共電極與陣列基板的源漏極相接觸，改善了短路的問題。
[0072]在本發(fā)明實施例中，如圖10所示彩色濾光片，黑矩陣2并排排列于基板I上，還包括形成于黑矩陣層限定的次像素區(qū)域中的彩色濾光層，且在黑矩陣層限定出的次像素區(qū)域中形成有彩色濾光層，該彩色濾光層包括:紅色濾光層3、綠色濾光層4和藍色濾光層5。
[0073]其中，在該彩色濾光片形成的過程中，在形成紅色濾光層3的同時在黑矩陣層的其中一個黑矩陣2上形成第一隔墊物6 ;在形成綠色濾光層4的同時在第一隔墊物6遠離黑矩陣2的一側(cè)形成有第二隔墊物7 ;在形成藍色濾光層5的同時在第二隔墊物7的一側(cè)形成有第三隔墊物8。且第一隔墊物6與彩色濾光層的紅色濾光層3為同一構(gòu)圖工藝形成；第二隔墊物7與彩色濾光層的綠色濾光層4為同一構(gòu)圖工藝形成；第三隔墊物8與所述彩色濾光層的藍色濾光層5為同一構(gòu)圖工藝形成。在本發(fā)明實施例中，第一隔墊物、第二隔墊物和第三隔墊物統(tǒng)稱為隔墊物。
[0074]在本發(fā)明實施例中，上述隔墊物在彩膜基板和陣列基板對盒時起到隔墊作用。
[0075]如圖10所示，在隔墊物遠離基板I的一側(cè)形成有平坦層9，該平坦層9覆蓋有黑矩陣層和彩色濾光層。
[0076]在平坦層9遠離隔墊物的一側(cè)形成有公共電極層10 ;所述公共電極層10相對于所述隔墊物頂端的高度低于所述平坦層9相對于所述隔墊物頂端的高度。即如圖10所示，公共電極層10在隔墊物側(cè)壁區(qū)域的兩端高度低于平坦層9相對于隔墊物的高度。從而使得在彩膜基板和陣列基板對盒的過程中，避免彩膜基板的公共電極與陣列基板的源漏極相接觸，改善了短路的問題。
[0077]在本發(fā)明實施例中，如圖2所示，為彩膜基板a和陣列基板b的對盒后的示意圖，由于隔墊物在對盒過程中起到了隔墊作用，從而保證了陣列基板的鈍化層不會因為壓力作用被破壞。且由于公共電極層在隔墊物頂部區(qū)域為開口設(shè)置，公共電極層相對于所述隔墊物頂端的高度低于所述平坦層相對于所述隔墊物頂端的高度，從而避免彩膜基板的公共電極與陣列基板的源漏極相接觸，改善了短路的問題。
[0078]實施例3:
[0079]本發(fā)明還提供了一種顯示裝置，包括如實施例2中所述的彩色濾光片。所述顯示可以是液晶電視、智能手機、平板電腦等等。
[0080]以上實施方式僅用于說明本發(fā)明，而并非對本發(fā)明的限制，有關(guān)【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術(shù)方案也屬于本發(fā)明的范疇，本發(fā)明的專利保護范圍應(yīng)由權(quán)利要求限定。
【權(quán)利要求】
1.一種彩色濾光片制作方法,其特征在于,包括: 利用構(gòu)圖工藝在基板上形成黑矩陣層； 在其中至少一個黑矩陣上形成隔墊物； 在所述隔墊物遠離基板的一側(cè)形成公共電極層，所述公共電極層在隔墊物頂部區(qū)域為開口設(shè)置。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述在其中至少一個黑矩陣上形成隔墊物，具體包括: 在黑矩陣層限定的次像素區(qū)域中形成彩色濾光層，且在所述形成彩色濾光層過程中，在其中至少一個黑矩陣上利用與彩色濾光層的同一構(gòu)圖工藝形成隔墊物。
3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述在所述隔墊物遠離基板的一側(cè)形成公共電極層，具體包括: 在所述隔墊物、黑矩陣以及彩色濾光層遠離基板的一側(cè)形成平坦層； 利用構(gòu)圖工藝在平坦層遠離基板的一側(cè)形成公共電極層。
4.如權(quán)利要求1?3中任一項所述的方法，其特征在于，所述公共電極層在隔墊物頂部區(qū)域為開口設(shè)置，具體包括: 在所述公共電極層上涂布光刻膠； 對所述公共電極層上的光刻膠進行灰化，使得隔墊物區(qū)域表面的公共電極層暴露； 進行所述公共電極層的刻蝕，將暴露出來的公共電極層刻蝕掉，并剝離剩余光刻膠。
5.一種彩色濾光片，包括基板、形成于基板上的黑矩陣層，其特征在于，還包括在其中至少一個黑矩陣上形成的隔墊物，以及在所述隔墊物遠離基板的一側(cè)形成有公共電極層，所述公共電極層在隔墊物頂部區(qū)域為開口設(shè)置。
6.如權(quán)利要求5所述的彩色濾光片，其特征在于，還包括在黑矩陣層限定的次像素區(qū)域中形成彩色濾光層，且在其中至少一個黑矩陣上利用與彩色濾光層的同一構(gòu)圖工藝形成隔墊物。
7.如權(quán)利要求6所述的彩色濾光片，其特征在于，所述隔墊物從遠離黑矩陣的一側(cè)依次包括第一隔墊物、第二隔墊物和第三隔墊物。
8.如權(quán)利要求7所述的彩色濾光片，其特征在于，所述第一隔墊物與所述彩色濾光層的紅色濾光層為同一構(gòu)圖工藝形成； 所述第二隔墊物與所述彩色濾光層的綠色濾光層為同一構(gòu)圖工藝形成； 所述第三隔墊物與所述彩色濾光層的藍色濾光層為同一構(gòu)圖工藝形成。
9.如權(quán)利要求6所述的彩色濾光片，其特征在于，在所述隔墊物遠離基板的一側(cè)形成有平坦層； 所述平坦層覆蓋有黑矩陣和所述彩色濾光層。
10.如權(quán)利要求9所述的彩色濾光片，其特征在于，所述公共電極層相對于所述隔墊物頂端的高度低于所述平坦層相對于所述隔墊物頂端的高度。
11.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求5?10中任一項所述的彩色濾光片。
【文檔編號】G02F1/1343GK103744222SQ201310675968
【公開日】2014年4月23日 申請日期:2013年12月11日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月11日
【發(fā)明者】舒適, 齊永蓮, 徐傳祥, 張鋒 申請人:京東方科技集團股份有限公司