專利名稱：光敏ctp印版新型制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及光敏CTP印版制作技術領域，尤其涉及一種光敏CTP印版新型制作方法。
背景技術：
現(xiàn)有技術的印版曝光方法包括利用激光束曝光、預加熱、顯影成像、涂膠保護等工序。這種方法的缺陷是，光敏CTP版藥膜面光敏材料曝光反應是一種光能量的積累，曝光時間越長印版上化學物質反應越充分，造成網(wǎng)點邊緣模糊，不銳利，網(wǎng)點越大，反應到印刷品 上就是制版精度低。由于激光頭到印刷版的距離較長，激光點發(fā)生變形，能量分布不均，造成曝光分辨率下降，陰線或字糊版。而要提高光敏CTP版的耐印率，必須增強版材藥膜面中單體或齊聚物的聚合交聯(lián)合反應，需要增加曝光時間和激光器的功率，但是這樣就會影響制版精度，造成小字或細陰線糊版。為了提高制版精度，就要降低激光器曝光能量，減少曝光時間，但是會降低印版耐印率，增加生產(chǎn)成本，印版圖文的穩(wěn)定性降低。為解決提高制版精度和提高印版耐印率，降低印刷成本之間的矛盾，而進行本發(fā)明。通過此項發(fā)明技術的應用，一方面可以提聞制版精度，制版精度由15μηι提聞到了 10 μ m,同時印版的耐率提聞了80%，達到20萬印。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就是為了解決現(xiàn)有技術存在的上述問題和不足；提供一種光敏CTP印版制作方法；通過增加印版二次光聚合反應工序，能夠降低曝光工序的激光束功率，能夠輸出< IOym的細線；分辨率高，清晰度高，提高了制版精度，提高了產(chǎn)品質量和印版耐印率，同時降低印刷成本。為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下技術方案一種光敏CTP印版新型制作方法，包括以下步驟I)將印版放置到曝光機，受控激光光束將激光照射到需要曝光的版面位置上進行曝光；2)印版曝光完畢后，先對印版預加熱；3)印版顯影，顯影后將空白部分沖洗掉，上膠保護；4)印版二次光聚合反應將印版送入LED UV曝光單元，連續(xù)曝光；5)取出印版，集版器把板放置好。所述步驟I)受控激光光束功率為15mw。受控光束概率從原來的25mw降為15mw，一方面節(jié)約了電能，更重要的是提高了印版分辨率，避免了陰線或字糊版。所述步驟2)印版預加熱的溫度為110° 115°。所述步驟4)印版在曝光單元內(nèi)連續(xù)曝光時間3min。本發(fā)明的有益效果1.通過印版二次光聚合反應進行連續(xù)曝光，不用通過加大曝光量來增強單體或齊聚物的聚合交聯(lián)反應，從而導致材料的物理性能發(fā)生有意義的變化，提高了光敏CTP印版的耐印率。2.解決了光敏技術存在的光衍射造成的不能生成< 15μπι細線或0.6磅字的問題；LED UV壽命長，可靠性高，連續(xù)曝光時間長，能夠輸出< IOym的細線；分辨率高，清晰度高，提高了產(chǎn)品質量和耐印率，同時降低印刷成本。
具體實施例方式下面結合實施例對本發(fā)明做進一步說明。一種光敏CTP印版新型制作方法 ，包括以下步驟I)將印版放置到曝光機，受控激光光束將激光照射到需要曝光的版面位置上進行曝光；2)印版曝光完畢后，先對印版預加熱；3)印版顯影，顯影后將空白部分沖洗掉，上膠保護；4)印版二次光聚合反應將印版送入LED UV曝光單元，連續(xù)曝光；5)取出印版，集版器把板放置好。所述步驟I)受控激光光束功率為15mw。受控光束概率從原來的25mw降為15mw，一方面節(jié)約了電能，更重要的是提高了印版分辨率，避免了陰線或字糊版。所述步驟2)印版預加熱的溫度為110° 115°。所述步驟4)印版在曝光單元內(nèi)連續(xù)曝光時間3min。上述雖然對發(fā)明的具體實施方式
進行了描述，但并非對本發(fā)明保護范圍的限制，所屬領域技術人員應該明白，在本發(fā)明的技術方案的基礎上，本領域技術人員不需要付出創(chuàng)造性勞動即可做出的各種修改或變形仍在本發(fā)明的保護范圍以內(nèi)。
權利要求
1.一種光敏CTP印版新型制作方法，其特征是，包括以下步驟1)將印版放置到曝光機，受控激光光束將激光照射到需要曝光的版面位置上進行曝光;2)印版曝光完畢后，對印版預加熱；3)印版顯影，顯影后將空白部分沖洗掉，上膠保護；4)印版二次光聚合反應將印版送入LEDUV曝光單元連續(xù)曝光；5)取出印版，集版器把板放置好。
2.如權利要求1所述的光敏CTP印版新型制作方法，其特征是，所述步驟I)受控激光光束功率為15mw。
3.如權利要求1所述的光敏CTP印版新型制作方法，其特征是，所述步驟2)印版預加熱的溫度為110° 115°。
4.如權利要求1所述的光敏CTP印版新型制作方法，其特征是，所述步驟4)印版在曝光單元內(nèi)連續(xù)曝光時間3min。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種光敏CTP印版新型制作方法，包括以下步驟1)將印版放置到曝光機，受控激光光束將激光照射到需要曝光的版面位置上進行曝光；2)印版曝光完畢后，先對印版預加熱；3)印版顯影，顯影后將空白部分沖洗掉，上膠保護；4)印版二次光聚合反應將印版送入LED UV曝光單元，連續(xù)曝光3min；5)取出印版，集版器把板放置好。所述步驟1)受控激光光束功率為15mw，所述步驟2)印版預加熱的溫度為110℃～115℃，所述步驟4)印版在曝光單元內(nèi)連續(xù)曝光時間3min。通過增加印版二次光聚合反應工序，能夠降低曝光工序的激光束功率，能夠輸出≤10μm的細線；分辨率高，清晰度高，提高了產(chǎn)品質量和耐印率。
文檔編號G03F7/20GK102998911SQ20121051601
公開日2013年3月27日 申請日期2012年12月5日 優(yōu)先權日2012年12月5日
發(fā)明者朱立和, 王治國, 趙公文, 竇運玉 申請人:山東魯信天一印務有限公司