專利名稱：一種微影制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于太陽能電池技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種微影制作方法。_
背景技術(shù)：
微影工藝(lithography process)在如今的微電子工業(yè)中扮演著十分重要的角色，其主要包括貼膜、曝光(exposure)與顯影(development)等步驟。其中，貼膜過程是通過貼膜機把干膜貼到處理好的芯模上，為接下來的圖形轉(zhuǎn)移做準備。貼膜操作好能使干膜很好的粘附在芯模上，避免產(chǎn)生變形與氣泡。曝光則是得到優(yōu)良的干膜抗蝕圖像非常重要的一個制作過程。當曝光不足時，由于單體聚合的不徹底，在顯影過程中，膠膜溶漲變軟，線條不清晰，色澤暗淡，甚至脫膠，在電鍍前處理或電鍍過程中，膜起翹、滲鍍、甚至脫落。當曝光過頭時，會造成難于顯影，膠膜發(fā)脆、留下殘膠等弊病。更為嚴重的是不正確的曝光將產(chǎn)生圖像線寬的偏差，因此曝光掌握好對于生產(chǎn)出高品質(zhì)產(chǎn)品是相當重要的。顯影操作一般在顯影機中進行，控制好顯影液的溫度，傳送速度，噴淋壓力等顯影參數(shù)，能夠得到好的顯影效果。顯影點太高，未聚合的抗蝕膜得不到充分的清潔顯影，抗蝕劑的殘余可能留在板面上。如果顯影點抓得太低，已聚合的干膜由于與顯影液過長時間的接觸，可能被浸蝕而變得發(fā)毛，失去光澤，因此需要對顯影點做一個很好的管控?；谝陨系姆治?，貼膜、曝光與顯影就需要有一個很好的工藝范圍。而對于不同的干膜所包含的化學組分與化學特性也是不同的，因此在貼膜、曝光與顯影過程中的工藝參數(shù)也是不同的，所以需要提供一種技術(shù)方案，已解決該等問題。

發(fā)明內(nèi)容
為解決上述問題，本發(fā)明的目的在于提供一種微影制作方法，貼膜、曝光、顯影以最優(yōu)組合搭配參數(shù)來提高產(chǎn)品質(zhì)量，確定不同種類干膜對應(yīng)的曝光量以及顯影參數(shù)來達到最佳廣品質(zhì)量。為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案為:
一種微影制作方法，包括如下步驟:
510:選擇芯模,選定一種材料及合適厚度的芯模，以解決產(chǎn)品表面應(yīng)力、質(zhì)量及芯模壽命的問題；
511:確定不同種類干膜對應(yīng)的曝光量，對于不同厚度干膜的曝光量，通過采用41節(jié)曝光尺的曝光實驗來確定；
512:確定顯影參數(shù)。進一步地，所述步驟SlO中，選擇不銹鋼304材質(zhì)的鋼板作為電鑄芯模。
進一步地，所述芯膜的厚度為0.3mm或者1.8mm。進一步地，對于IOOum及以下的干膜使用0.3mm厚度的芯模，曝光量50Mr500MJ之間；而對于100unTl30um的干膜使用1.8mm芯模，曝光量500Mri000MJ之間。進一步地，所述步驟S12包括有:計算顯影點，首先確定顯影段的長度L，使貼膜的板以速度V1勻速前進，當板的前端到達顯影段末尾時停止顯影噴淋，讓板傳送出顯影機，等板面水潰干凈測量顯凈部分長度I，通過公式(L-l)/L*100%來計算顯影點。本發(fā)明微影制作方法以合適厚度的芯模來解決產(chǎn)品表面應(yīng)力、質(zhì)量及芯模壽命的問題。確定不同種類干膜對應(yīng)的曝光量以及顯影參數(shù)來達到最佳產(chǎn)品質(zhì)量。提高顯影質(zhì)量，提高了芯模表面質(zhì)量以及使用次數(shù)，貼膜、曝光、顯影以最優(yōu)組合搭配參數(shù)提高產(chǎn)品質(zhì)量。


圖1是本發(fā)明微影制作方法的流程圖示。
具體實施例方式為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實施例，對本發(fā)明進行進一步詳細說明。應(yīng)當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。請參照圖1所示，本發(fā)明微影制作方法包括如下步驟:
SlO:選擇芯模
選定一種材料及合適厚度的芯模，以解決產(chǎn)品表面應(yīng)力、質(zhì)量及芯模壽命的問題。本發(fā)明實施例中，選擇不銹鋼304材質(zhì)的鋼板作為電鑄芯模，不銹鋼304材質(zhì)的鋼板表面及硬度都較其他材質(zhì)的芯模好；其中，優(yōu)選兩種厚度:0.3mm、l.8mm。Sll:確定不同種類干膜對應(yīng)的曝光量
對于不同厚度干膜的曝光量，通過采用41節(jié)曝光尺的曝光實驗來確定。本發(fā)明實施例中，IOOum及以下的干膜使用0.3mm厚度的芯模，曝光量50Mr500MJ之間，顯影點控制在85% 90%之間，實用于電鑄mask類產(chǎn)品。而100unTl30um的干膜使用1.8mm芯模，曝光量500Mri000MJ之間，顯影點控制在899^93%之間，實用于普通PCB電鑄產(chǎn)品。S12:確定顯影參數(shù)
計算顯影點，首先確定顯影段的長度L，然后用速度V1使貼膜的板勻速前進，當板的前端到達顯影段末尾時停止顯影噴淋，讓板傳送出顯影機，等板面水潰干凈測量顯凈部分長度I。套用公式(L-l)/L*100%來計算顯影點。如果沒有達到預(yù)期的顯影點，可以通過修改速度來調(diào)整顯影點，具體公式為:V:=
(V1*預(yù)期的顯影點)/本次的顯影點。應(yīng)用時，采用控制變量法分別對芯模、干膜、曝光能量、顯影點進行定性的分析。其中，針對芯模，主要包括有如下分析步驟: 使用前檢查板面的狀況(包括平整度、光亮度、硬度、是否有劃痕)，對不同型號的芯模進行標號分等級；將不同型號的芯模表面情況等級一樣的取用做相同次數(shù)的生產(chǎn)；
觀察、記錄使用n次后芯模表面的狀況以及做出產(chǎn)品的質(zhì)量；
根據(jù)記錄數(shù)據(jù)對芯模進行評定優(yōu)、中、差，并對于評定優(yōu)的生產(chǎn)進行選用。而對于干膜、曝光能量、顯影點，針對不同的干膜曝光能量與顯影點不盡相同。以一種干膜A為例進行介紹，主要包括如下步驟:
選用各種類型的開口圖形進行曝光，曝光能量XmrYmj采用24節(jié)曝光尺進行確定；
固定曝光能量為Wmj (Xmj<ffmj<Ymj),做顯影點實驗，范圍50% 95% ;根據(jù)作出的板開口情況確定顯影點范圍85% 93%。另外，還需進行組合試驗以及定量分析。組合試驗為:將曝光參數(shù)XmrYmj，顯影參數(shù)859^93%進行組合實驗，選出最優(yōu)組合。確定最優(yōu)組合:優(yōu)等級芯模，Zmj曝光能量，859^93%顯影點；而定量分析主要是按照定性參數(shù)優(yōu)等級芯模，Zmj曝光能量，85% 93%顯影點，做n輪實驗驗證效果，根據(jù)開口表現(xiàn)的具體情況進行改進，得出最后參數(shù)。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的 任何修改、等同替換和改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種微影制作方法，其特征在于，包括如下步驟: 510:選擇芯模,選定一種材料及合適厚度的芯模，以解決產(chǎn)品表面應(yīng)力、質(zhì)量及芯模壽命的問題； 511:確定不同種類干膜對應(yīng)的曝光量，對于不同厚度干膜的曝光量，通過采用41節(jié)曝光尺的曝光實驗來確定； 512:確定顯影參數(shù)。
2.如權(quán)利要求1所述的微影制作方法，其特征在于:所述步驟SlO中，選擇不銹鋼304材質(zhì)的鋼板作為電鑄芯模。
3.如權(quán)利要求1所述的微影制作方法，其特征在于:所述芯膜的厚度為0.3mm或者1.8mm。
4.如權(quán)利要求3所述的微影制作方法，其特征在于:對于IOOMffl及以下的干膜使用0.3mm厚度的芯模，曝光量50Mr500MJ之間；而對于100unTl30um的干膜使用1.8mm芯模，曝光量500Mri000MJ之間。
5.如權(quán)利要求4所述的微影制作方法，其特征在于:所述步驟S12包括有:計算顯影點，首先確定顯影段的長度L，使貼膜的板以速度V1勻速前進，當板的前端到達顯影段末尾時停止顯影噴淋，讓板傳送出顯影機，等板面水潰干凈測量顯凈部分長度1，通過公式(L-1) /L*100%來計算顯影點。
全文摘要
本發(fā)明公開一種微影制作方法，包括步驟S10選擇芯模，選定一種材料及合適厚度的芯模，以解決產(chǎn)品表面應(yīng)力、質(zhì)量及芯模壽命的問題；S11確定不同種類干膜對應(yīng)的曝光量，對于不同厚度干膜的曝光量，通過采用41節(jié)曝光尺的曝光實驗來確定；S12確定顯影參數(shù)。本發(fā)明微影制作方法以合適厚度的芯模來解決產(chǎn)品表面應(yīng)力、質(zhì)量及芯模壽命的問題。確定不同種類干膜對應(yīng)的曝光量以及顯影參數(shù)來達到最佳產(chǎn)品質(zhì)量。提高顯影質(zhì)量，提高了芯模表面質(zhì)量以及使用次數(shù)，貼膜、曝光、顯影以最優(yōu)組合搭配參數(shù)提高產(chǎn)品質(zhì)量。
文檔編號G03F7/30GK103207525SQ20121001074
公開日2013年7月17日 申請日期2012年1月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月16日
發(fā)明者魏志凌, 高小平, 趙錄軍, 陳龍英 申請人:昆山允升吉光電科技有限公司