專利名稱：液晶顯示基板的制造方法及檢測修補設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明實施例涉及液晶顯示基板在制造過程中的檢測和修補技術，尤其涉及一種液晶顯示基板的制造方法及檢測修補設備。
背景技術：
液晶面板是液晶顯示器中的重要部件，其主要由兩塊液晶顯示基板對盒而成。以薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay，簡稱 TFT-LCD) 為例，其液晶面板由陣列基板和彩膜基板對盒而成。液晶顯示基板上需要形成各種膜層圖案，所以，在液晶顯示基板的制造過程中，構圖工藝是必不可少的工藝。常規(guī)的構圖工藝包括形成薄膜、涂覆光刻膠、對光刻膠進行曝光顯影、對待刻蝕膜層進行刻蝕、以及去除剩余光刻膠的操作。這其中涉及到兩次圖案成形的步驟，第一次是光刻膠曝光顯影之后形成的光刻膠圖案，第二次是對待刻蝕膜層進行刻蝕后形成的具有設定圖案的膜層。構圖工藝在整個液晶顯示基板的制造過程中會執(zhí)行多次， 每次構圖工藝中所成形圖案的準確性，都會影響液晶顯示基板的質量。光刻膠圖案的準確性則會直接影響膜層的圖案，例如導致刻蝕出的數(shù)據(jù)線和柵線發(fā)生斷線不良。為了保證成形圖案的準確性，現(xiàn)有技術在圖案成形后會進行檢測，檢測到不良時則會去除該層圖案，重新構圖。因此，現(xiàn)有技術存在著工序復雜、時間和材料成本浪費的缺陷。

發(fā)明內容
本發(fā)明提供一種液晶顯示基板的制造方法及檢測修補設備，以解決局部膜層缺陷導致液晶顯示基板產品不良的問題。本發(fā)明實施例提供一種液晶顯示基板的制造方法，包括至少一次形成膜層的步驟，其中，在形成所述膜層之后，還包括對所述膜層進行檢測，以定位所述膜層中存在的缺失區(qū)域；在所述缺失區(qū)域中填補所述膜層的材料，以修補所述膜層。本發(fā)明實施例還提供了一種液晶顯示基板的檢測修補設備，包括基板承載臺，用于承載液晶顯示基板；坐標定位裝置，設置在所述基板承載臺和檢測裝置之間；檢測裝置，設置在所述坐標定位裝置上，所述檢測裝置包括驅動單元和檢測單元， 其中所述驅動單元用于驅動所述坐標定位裝置動作，以帶動所述檢測裝置相對于所述基板承載臺運動；所述檢測單元用于對形成的膜層進行檢測，以定位所述膜層中存在的缺失區(qū)域；修補裝置，設置在所述坐標定位裝置上，用于在所述缺失區(qū)域中填補所述膜層的材料，以修補所述膜層。
本發(fā)明實施例提供的液晶顯示基板的制造方法和液晶顯示基板的檢測修補設備能夠及時對膜層的缺失區(qū)域進行檢測和修補，避免局部膜層缺陷遺漏到后續(xù)操作中無法彌補而導致整個基板廢棄或產生更高的維修成本，從而從液晶顯示基板的整體制造流程方面降低生產成本，提高產品合格率。


圖1為本發(fā)明實施例一提供的液晶顯示基板的制造方法中檢測修補工序的流程圖；圖2A為本發(fā)明實施例二提供的液晶顯示基板的制造方法的流程圖；圖2B 2D為液晶顯示基板的制造過程中形成斷路缺陷的結構示意圖；圖3為本發(fā)明實施例三提供的液晶顯示基板的制造方法的流程圖；圖4為本發(fā)明實施例四提供的液晶顯示基板的制造方法的流程圖；圖5為本發(fā)明實施例五提供的液晶顯示基板的檢測修補設備的結構示意圖。
具體實施例方式為使本發(fā)明實施例的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。實施例一圖1為本發(fā)明實施例一提供的液晶顯示基板的制造方法中檢測修補工序的流程圖，液晶顯示基板的制造方法中包括至少一次形成膜層的步驟，通常是反復執(zhí)行多次形成膜層的操作。所形成的膜層，可以是柵線、柵電極、數(shù)據(jù)線、源漏電極、有源層、有源層溝道、 帶有鈍化層過孔的鈍化層、像素電極、光刻膠圖案和彩色樹脂等，這類膜層通常是先形成對應材料的薄膜再進行構圖工藝形成包括設定圖案的膜層。所形成的膜層還可以是無設定圖案的膜層，這類膜層只需形成薄膜的工序，例如，可以是印刷的聚亞酰胺型(Polyimide，簡稱PI)液以形成取向膜層。無論是否包括圖案，各種膜層都可能會出現(xiàn)圖案的缺失，或者出現(xiàn)針孔、波紋(MURA)等不良。為了避免膜層缺陷導致液晶顯示基板的不良，本實施例執(zhí)行如下的檢測修補工序，本實施例可以適用于上述成膜工序的任意一次或幾次之后。具體是在形成膜層之后，還包括步驟110、對膜層進行檢測，以定位膜層中存在的缺失區(qū)域；步驟120、在缺失區(qū)域中填補膜層的材料，以修補膜層。本實施例的技術方案，一方面，能夠在液晶顯示基板的制造過程中，在形成膜層之后立即執(zhí)行檢測操作，避免在液晶顯示基板制成之后再檢測時已無法修補的問題，另一方面，檢測到缺失區(qū)域時能夠以填補膜層材料的方式立即修補膜層，該修補方式既能夠減少因少量缺陷就重新成膜所增加的時間和材料成本，又能夠及時修復液晶顯示基板上的缺陷，克服了局部缺陷在后續(xù)操作中無法彌補的問題，因而提高了液晶顯示基板的成品率。對膜層進行檢測，以定位膜層中存在的缺失區(qū)域的操作可以采用光學檢測工藝或電學檢測工藝，通過將待識別區(qū)域與標準區(qū)域或相鄰區(qū)域進行比較來識別異常，并確定缺失區(qū)域的坐標。可以預先將整個液晶顯示基板劃分為多個相同大小的單元區(qū)域，例如像素單元。將每個單元區(qū)域作為待識別區(qū)域與一個標準區(qū)域進行比較來判斷該單元區(qū)域中是否異常?；蛘撸瑢⒏鲉卧獏^(qū)域進行比較，與相鄰區(qū)域的一致性差的單元區(qū)域就確定為存在異
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巾ο實施例二圖2A為本發(fā)明實施例二提供的液晶顯示基板的制造方法的流程圖，由于液晶顯示基板上各層圖案的構圖工藝基本相同，本實施例以柵線(Gate)膜層的構圖工藝過程為例進行說明，在此構圖工藝過程中包括了構圖形成光刻膠圖案，還包括了構圖形成柵線圖案的過程，本實施例中以光刻膠圖案作為待檢測修補的膜層為例進行說明。具體應用中，諸如數(shù)據(jù)線、有源層、像素電極、公共電極線等其他圖案的構圖工藝過程與此流程類似。本實施例所提供的柵線構圖工藝過程包括如下步驟步驟210、在襯底基板上形成柵線薄膜；本步驟即完成薄膜(Thin Film)成膜工藝，具體可以使用磁控濺射方法，在玻璃基板上制備一層厚度在2000埃米(A )至5000A的金屬薄膜作為柵線膜層，金屬材料通?？梢允倾f(Mo)、鋁(Al)、鋁釹合金(AlNd)、鉻(Cr)、銅(Cu)、鎢(W)等金屬或其它合金金屬；步驟220、在形成上述柵線薄膜的襯底基板上形成光刻膠，該柵線薄膜即作為該光刻膠下方的待刻蝕薄膜；光刻膠的厚度可以為1 2微米(μ m)。若光刻膠材料為溶液形式，則可對襯底基板采用旋轉工藝，靠離心力使光刻膠在襯底基板上的厚度更加均勻；旋轉工藝后可以進行邊緣除膠工藝，去掉襯底基板四周多余的光刻膠材料；而后，再進行烘干工藝，去除掉光刻膠中多余的水份，烘干溫度為100 200°C，形成均勻固化的光刻膠。步驟230、接下來對光刻膠進行曝光顯影操作，通過與柵線圖案對應的柵線掩膜版進行掩膜曝光，形成光刻膠圖案；曝光工藝中，掩膜版擋住相應位置的紫外線，將襯底基板上部分位置暴露在紫外線下，通過一定時間的紫外線照射使得曝光位置的光刻膠發(fā)生光化學反應。顯影工藝中，將感光后的光刻膠膜層通過含有四甲基氫氧化銨(簡稱TMAH)的顯影液溶解掉，TMAH的濃度為0. 0. 5%。顯影完畢后進行清洗和再次烘干工藝烘干水分，溫度為100 200°C。在實際操作中，陣列斷線是常見的不良，一個主要的原因就在于光刻工藝后出現(xiàn)光刻膠脫落的情況。光刻膠圖案對其下方膜層的附著力并不均勻，由于局部光刻膠的附著力較低，很容易被顯影后的清洗過程水流沖掉。如圖2B所示，襯底基板1柵線薄膜2上的光刻膠圖案3中形成缺失區(qū)域4。經(jīng)過隨后的刻蝕工藝后，可以看到光刻膠圖案3缺失區(qū)域 4的柵線薄膜2被刻蝕掉，如圖2C所示。接著進行剝離工藝，將光刻膠圖案3去除，則該處所對應的柵線21就出現(xiàn)了斷路不良，如圖2D所示。為避免后續(xù)出現(xiàn)圖2B 2D所示的缺陷，本實施例在步驟230之后繼續(xù)執(zhí)行光刻膠圖案的檢測和修補操作步驟M0、對光刻膠圖案進行檢測，以定位光刻膠圖案中存在的缺失區(qū)域；具體可以利用光學檢測工藝或電學檢測工藝來定位缺失區(qū)域，具體可以是檢測光刻膠圖案的花樣是否異常。例如通過各個小區(qū)域之間的對比來確定異常區(qū)域，將待識別的區(qū)域與標準區(qū)域或與相鄰區(qū)域進行圖案比對，出現(xiàn)不一致的區(qū)域即為異常區(qū)域，進而確定不良位置缺失區(qū)域的坐標。
步驟250、在缺失區(qū)域中填補光刻膠材料，以修補光刻膠圖案；步驟沈0、對覆蓋有光刻膠圖案的柵線薄膜進行刻蝕，以形成包括柵線的圖案；對柵線薄膜的刻蝕具體可采用濕刻(Wet Etch)工藝，可以通過噴淋式或浸潤式這兩種方式施加刻蝕液，使得沒有光刻膠圖案保護位置的柵線薄膜被刻蝕掉，刻蝕液為不同酸的混合溶液。刻蝕完畢后進行清洗。步驟270、清洗后進入剝離工藝，去除襯底基板上的光刻膠圖案。本實施例通過對構圖成形的光刻膠圖案進行及時的檢測和修補，能夠避免光刻膠圖案的缺陷延續(xù)到后續(xù)形成的膜層圖案中而導致液晶顯示基板整體質量下降。在現(xiàn)有技術中，一方面，對于光刻膠圖案缺失導致的柵線、數(shù)據(jù)線斷路不良，往往是在液晶顯示基板制成之后，通過檢測數(shù)據(jù)線或柵線來發(fā)現(xiàn)斷路不良，而后再通過化學氣相沉積(Chemical vapor exposition，簡稱CVD)方式進行維修。然而，CVD僅能修復斷線不良，通常無法修復有源層圖案、有源層溝道圖案和像素電極圖案等由于光刻膠圖案缺失導致的斷裂缺陷，這在不良產品的原因中占據(jù)一部分的比例；CVD的修復還會增加線電阻，造成信號延遲。另一方面，當柵線和數(shù)據(jù)線的斷線過長時，即使采用CVD技術也難以修復，最終導致產品廢棄。 再一方面，現(xiàn)有技術中在液晶顯示基板制造完成之后才進行集中修復，往往造成生產瓶頸， 限制了生產效率。本實施例的技術方案在形成光刻膠圖案之后就立即解決光刻膠缺失問題，不會遺留到液晶顯示基板制造完成之后，則減少了使用CVD進行修復的情況，克服了現(xiàn)有技術中的上述缺陷。并且，本實施例的技術方案不會增加掩膜構圖工序，簡單易實現(xiàn)，對產能影響小。在本實施例中，在缺失區(qū)域中填補膜層圖案的材料可以以噴嘴噴注的形式在缺失區(qū)域中填補固態(tài)光刻膠。光刻膠材料本身有不同的品種，其為介于液體和固體間的狀態(tài)，本實施例修補時所使用的固態(tài)光刻膠即為具有大致為固態(tài)特性的光刻膠材料，其流動性差、 粘性高，易于控制其填補位置。所使用的噴嘴直徑一般與液晶顯示基板上的數(shù)據(jù)線、柵線的寬度等級對應，通常是毫米級的尺寸。實施例三圖3為本發(fā)明實施例三提供的液晶顯示基板的制造方法的流程圖，本實施例仍以柵線的構圖工藝過程為例進行說明，與實施例二的區(qū)別在于，本實施例中以柵線圖案作為需要檢測和修補的膜層，本實施例可普遍適用于修補包括設定圖案的膜層，例如數(shù)據(jù)線、源漏電極等。本實施例中柵線的構圖工藝過程包括如下流程步驟310、在襯底基板上形成柵線薄膜，若需修補的膜層為其他結構，則形成對應于膜層的材料的薄膜；步驟320、在柵線薄膜上形成光刻膠；步驟330、對光刻膠進行曝光顯影操作以形成光刻膠圖案，此時可以如實施例二所描述的對光刻膠圖案進行檢測和修補；步驟340、對覆蓋有光刻膠圖案的柵線薄膜進行刻蝕，以形成包括設定圖案的膜層，本實施例中具體是形成了包括柵線圖案的膜層，具體應用中膜層所包括的設定圖案還可以為柵電極、有源層、數(shù)據(jù)線和/或有源層溝道等，其構圖工藝過程與柵線的構圖工藝過程類似；
步驟350、去除光刻膠圖案；步驟360、對包括柵線圖案的膜層進行檢測，以定位柵線圖案膜層中存在的缺失區(qū)域；步驟370、在缺失區(qū)域中填補柵線圖案的材料，以修補柵線圖案的膜層，具體可以采用噴墨印刷的方式在缺失區(qū)域中填補柵線膜層圖案的材料。本實施例的技術方案利用了噴墨印刷技術。噴墨印刷技術已廣泛應用于TFT-IXD 制造過程中的成膜工藝，圖形精度高，控制容易。實施例四圖4為本發(fā)明實施例四提供的液晶顯示基板的制造方法的流程圖，本實施例具體適用于形成不包括設定圖案的整體膜層的情況，例如形成PI液膜層、公共電極膜層等。本實施例中在缺失區(qū)域中填補該膜層的材料，以修補該膜層的操作包括如下步驟步驟410、采用激光技術在缺失區(qū)域的周圍進行切割，以形成設定尺寸的修補區(qū)域，缺失區(qū)域落入修補區(qū)域的范圍內，優(yōu)選的是修補區(qū)域為一個或多個像素單元所占據(jù)的區(qū)域，即修補區(qū)域是像素單元的整倍數(shù)；步驟420、在修補區(qū)域中填補膜層的材料，以修補缺失區(qū)域，由于修補區(qū)域對應像素單元，使得新舊膜層的結合處位于像素單元的邊緣處，對正常顯示的影響被降到最低。缺失區(qū)域一般尺寸較小，本實施例為了降低修補的精度定位難度，且提高修補的成功率，會首先將缺失區(qū)域所在的一定范圍內的膜層都切割掉，而后進行修補，即先剝膜再補膜。本實施例利用了激光技術將待修補處的膜層去除，激光技術已廣泛應用于TFT-LCD 制造過程的測試修復工序中，能修復各種短路、斷路等不良，具有位置精度高、控制容易等特點。而后進行修補時可以利用噴墨設備精確補膜，實現(xiàn)工藝薄膜的修復。實施例五圖5為本發(fā)明實施例五提供的液晶顯示基板的檢測修補設備的結構示意圖，該設備包括基板承載臺510、坐標定位裝置520、檢測裝置530和修補裝置M0。其中基板承載臺510用于承載液晶顯示基板550，可增設機械手，實現(xiàn)液晶顯示基板 550到基板承載臺510的搬運。基板承載臺510上可以設置真空吸盤、氬氣孔和保持裝置等，氬氣孔可以通過排除氬氣來托住液晶顯示基板陽0，保持裝置可以對液晶顯示基板550 進行鎖位固定，鎖定液晶顯示基板550后再停止供給氬氣，通過真空吸盤吸附固定液晶顯示基板550。坐標定位裝置520設置在基板承載臺510和檢測裝置530之間，能夠實現(xiàn)基板承載臺510和檢測裝置530之間的相對運動即可，既可以是基板承載臺510固定而檢測裝置 530運動，也可以是基板承載臺510運動而檢測裝置530固定。典型地是坐標定位裝置520 包括橫向導軌521以及滑動設置在橫向導軌521上的縱向導軌522，包括橫向導軌521以及滑動設置在橫向導軌521上的縱向導軌522，橫向導軌521和縱向導軌522可分別對應X、Y 坐標軸，檢測裝置530和修補裝置540設置在縱向導軌522上，可以相對于基板承載臺510 運動。檢測裝置530設置在縱向導軌522上，該檢測裝置530具體包括驅動單元和檢測單元，其中驅動單元用于驅動縱向導軌522在橫向導軌521上滑動，以及驅動檢測裝置 530在縱向導軌522上滑動，驅動單元可以是連接電機、液動、氣動等動力源。檢測單元用于對形成的膜層進行檢測，以定位膜層中存在的缺失區(qū)域560。檢測單元典型地可以由顯微鏡、光源、基板角度控制系統(tǒng)、顯微鏡位置控制系統(tǒng)等部分組成。光學系統(tǒng)可以有五組不同倍數(shù)的光學鏡頭來進行缺失區(qū)域560的檢測定位。修補裝置540設置在縱向導軌522上，在缺失區(qū)域560中填補膜層的材料，以修補該膜層。修補裝置540可以連接原料儲備裝置，以便能連續(xù)不斷地獲取填補材料。本實施例所提供的檢測修補設備可執(zhí)行本發(fā)明實施例提供的液晶顯示基板的制造方法中的檢測修補操作，具備執(zhí)行相應功能的結構。該檢測修補設備可以利用已有的液晶顯示基板550檢測設備，通常的檢測設備包括基板承載臺510、坐標定位裝置520和檢測裝置530。檢測裝置530能夠對液晶顯示基板 550上的膜層進行異常檢測和定位。在該檢測設備的基礎上可以集成修補裝置M0，使檢測之后立即進行修補。該設備可實現(xiàn)在線修復，修復后的產品能重新投入生產線。修補裝置540可以獨立地驅動和定位，但優(yōu)選的是修補裝置540利用檢測裝置530 的定位和驅動技術。修補裝置540與檢測裝置530之間具有第一距離，并與檢測裝置530固定相連，使得檢測裝置530的移動能夠帶動修補裝置MO同步地移動。檢測單元還包括修補觸發(fā)單元，用于在檢測單元檢測到缺失區(qū)域560時，指示驅動單元動作，以驅動檢測裝置 530滑動第一距離，并觸發(fā)修補裝置540動作。在檢測裝置530定位對準缺失區(qū)域560后， 再滑動第一距離，即使得修補裝置540對準缺失區(qū)域560以便進行修補。該方案可以省略了修補裝置MO的獨立定位和驅動操作。對于不同膜層的修補，修補裝置具體可以采用不同的形式。一種情況下，該膜層為光刻膠圖案，檢測單元包括噴嘴，用于以噴嘴噴注的形式在缺失區(qū)域中填補固態(tài)光刻膠材料。該技術方案尤其適用于上述實施例二。另一種情況下，修補裝置可以包括噴墨印刷器，用于采用噴墨印刷的方式在缺失區(qū)域中填補膜層的材料。該技術方案尤其適用于上述實施例三。再一種情況下，修補裝置可以包括激光切割器和噴墨印刷器。其中，激光切割器用于采用激光技術在缺失區(qū)域的周圍進行切割，以形成設定尺寸的修補區(qū)域，缺失區(qū)域落入修補區(qū)域的范圍內；噴墨印刷器用于采用噴墨印刷的方式在修補區(qū)域中填補膜層的材料，以修補缺失區(qū)域。該技術方案尤其適用于上述實施例四，對缺失區(qū)域進行剝膜，隨后再進行補膜。本實施例所提供的檢測修補設備，檢測單元和修補裝置都可以由計算機進行精確控制，使得補充的膜層與原膜層的結合精確，不影響正常顯示。本發(fā)明各實施例的技術方案填補了成膜后不能局布修復的空白，減少了整張基板由于膜層局部缺失而返工和報廢造成的浪費，既降低了產品成本，又提高了成品率。最后應說明的是以上實施例僅用以說明本發(fā)明的技術方案，而非對其限制；盡管參照前述實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，本領域的普通技術人員應當理解其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分技術特征進行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應技術方案的本質脫離本發(fā)明各實施例技術方案的精神和范圍。
權利要求
1.一種液晶顯示基板的制造方法，包括至少一次形成膜層的步驟，其特征在于，在形成所述膜層之后，還包括對所述膜層進行檢測，以定位所述膜層中存在的缺失區(qū)域；在所述缺失區(qū)域中填補所述膜層的材料，以修補所述膜層。
2.根據(jù)權利要求1所述的液晶顯示基板的制造方法，其特征在于，形成所述膜層的步驟包括形成對應于所述膜層的材料的薄膜；在所述薄膜上形成光刻膠；對所述光刻膠進行曝光顯影操作以形成光刻膠圖案；對覆蓋有所述光刻膠圖案的薄膜進行刻蝕，以形成包括設定圖案的所述膜層，所述膜層的設定圖案為柵線、柵電極、有源層、數(shù)據(jù)線和/或有源層溝道；去除所述光刻膠圖案。
3.根據(jù)權利要求2所述的液晶顯示基板的制造方法，其特征在于，在所述缺失區(qū)域中填補所述膜層的材料包括采用噴墨印刷的方式在所述缺失區(qū)域中填補所述膜層的材料。
4.根據(jù)權利要求1所述的液晶顯示基板的制造方法，其特征在于，在所述缺失區(qū)域中填補所述膜層的材料，以修補所述膜層包括采用激光技術在所述缺失區(qū)域的周圍進行切割，以形成設定尺寸的修補區(qū)域，所述缺失區(qū)域落入所述修補區(qū)域的范圍內；采用噴墨印刷的方式在所述修補區(qū)域中填補所述膜層的材料，以修補所述缺失區(qū)域。
5.根據(jù)權利要求4所述的液晶顯示基板的制造方法，其特征在于所述修補區(qū)域為一個或多個像素單元所占據(jù)的區(qū)域。
6.根據(jù)權利要求1所述的液晶顯示基板的制造方法，其特征在于，所述膜層為光刻膠圖案，形成所述光刻膠圖案的步驟包括在待刻蝕薄膜上形成光刻膠；對所述光刻膠進行曝光顯影操作以形成所述光刻膠圖案。
7.根據(jù)權利要求6所述的液晶顯示基板的制造方法，其特征在于，在所述缺失區(qū)域中填補所述光刻膠圖案的材料包括以噴嘴噴注的形式在所述缺失區(qū)域中填補固態(tài)光刻膠材料。
8.根據(jù)權利要求1所述的液晶顯示基板的制造方法，其特征在于，對所述膜層進行檢測，以定位所述膜層中存在的缺失區(qū)域包括采用光學檢測工藝或電學檢測工藝，通過將待識別區(qū)域與標準區(qū)域或相鄰區(qū)域進行比較來識別異常，并確定缺失區(qū)域的坐標。
9.一種液晶顯示基板的檢測修補設備，其特征在于，包括基板承載臺，用于承載液晶顯示基板；坐標定位裝置，設置在所述基板承載臺和檢測裝置之間；檢測裝置，設置在所述坐標定位裝置上，所述檢測裝置包括驅動單元和檢測單元，其中所述驅動單元用于驅動所述坐標定位裝置動作，以帶動所述檢測裝置相對于所述基板承載臺運動；所述檢測單元用于對形成的膜層進行檢測，以定位所述膜層中存在的缺失區(qū)域；修補裝置，設置在所述坐標定位裝置上，用于在所述缺失區(qū)域中填補所述膜層的材料， 以修補所述膜層。
10.根據(jù)權利要求9所述的液晶顯示基板的檢測修補設備，其特征在于所述坐標定位裝置包括橫向導軌以及滑動設置在橫向導軌上的縱向導軌，所述檢測裝置和修補裝置設置在所述縱向導軌上。
11.根據(jù)權利要求10所述的液晶顯示基板的檢測修補設備，其特征在于所述修補裝置與所述檢測裝置之間具有第一距離，并與所述檢測裝置固定相連； 所述檢測單元還包括修補觸發(fā)單元，用于在所述檢測單元檢測到缺失區(qū)域時，指示所述驅動單元動作，以驅動所述檢測裝置滑動所述第一距離，并觸發(fā)所述修補裝置動作。
12.根據(jù)權利要求9或10或11所述的液晶顯示基板的檢測修補設備，其特征在于 所述膜層為光刻膠圖案，所述修補裝置包括噴嘴，用于以噴嘴噴注的形式在所述缺失區(qū)域中填補固態(tài)光刻膠材料， 或所述修補裝置包括噴墨印刷器，用于采用噴墨印刷的方式在所述缺失區(qū)域中填補所述膜層的材料； 或所述修補裝置包括激光切割器，用于采用激光技術在所述缺失區(qū)域的周圍進行切割，以形成設定尺寸的修補區(qū)域，所述缺失區(qū)域落入所述修補區(qū)域的范圍內；噴墨印刷器，用于采用噴墨印刷的方式在所述修補區(qū)域中填補所述膜層的材料，以修補所述缺失區(qū)域。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種液晶顯示基板的制造方法及檢測修補設備。該方法包括至少一次形成膜層的步驟，其中，在形成膜層之后，還包括對膜層進行檢測，以定位膜層中存在的缺失區(qū)域；在缺失區(qū)域中填補膜層的材料，以修補膜層。本發(fā)明提供的液晶顯示基板的制造方法和液晶顯示基板的檢測修補設備能夠及時對膜層的缺失區(qū)域進行檢測和修補，避免局部膜層缺陷遺漏到后續(xù)操作中無法彌補而導致整個基板廢棄或產生更高的維修成本，從而從液晶顯示基板的整體制造流程方面降低生產成本，提高產品合格率。
文檔編號G02F1/13GK102253506SQ20101018830
公開日2011年11月23日 申請日期2010年5月21日 優(yōu)先權日2010年5月21日
發(fā)明者徐紀罡, 徐超, 肖立友 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司