專利名稱：一種用于光刻設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光刻領(lǐng)域，尤其涉及用于光刻設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置。
背景技術(shù)：
在工業(yè)裝置中，由于高精度和高產(chǎn)能的需要，分布著大量精密光電測(cè)量、高速實(shí)時(shí)信號(hào)采樣、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)交換和通信傳輸?shù)鹊臏y(cè)量系統(tǒng)和控制系統(tǒng)。這些系統(tǒng)需要我們采用多種方式實(shí)現(xiàn)傳感器信號(hào)采樣控制、數(shù)據(jù)采集控制、數(shù)據(jù)交換控制和數(shù)據(jù)傳輸通信等的控制。有該測(cè)量和控制需求的裝置包括集成電路制造光刻裝置、液晶面板光刻裝置、MEMS/ MOEMS光刻裝置、先進(jìn)封裝光刻裝置、印刷電路板光刻裝置、印刷電路板加工裝置以及印刷電路板器件貼裝裝置等。在光刻裝置中，通過(guò)光刻裝置中的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)使用對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記組合進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)掃描得到各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記分支的光信息和位置信息等對(duì)準(zhǔn)信息，對(duì)這些信息進(jìn)行相應(yīng)處理，得到掩模對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記組合和工件臺(tái)基準(zhǔn)板上對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記組合間的位置關(guān)系，對(duì)準(zhǔn)該光刻裝置的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)包括輻射發(fā)生器、掩模圖形照射窗口及其控制板、掩模及其掩模對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記組合、掩模臺(tái)、掩模臺(tái)位置探測(cè)器、投影系統(tǒng)、工件臺(tái)及其基準(zhǔn)板對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記組合、工件臺(tái)位置探測(cè)器和輻射探測(cè)傳感器；其中掩模圖形包括曝光掩模圖形和對(duì)準(zhǔn)掩模圖形，掩模圖形照射窗口及其控制板用于形成窗口將輻射透射到對(duì)準(zhǔn)掩模圖形上；投影系統(tǒng)用于將輻射照射到對(duì)準(zhǔn)掩模圖形上形成透射像或反射像，該透射像或反射像通過(guò)投影系統(tǒng)投射形成空間像，用工件臺(tái)基準(zhǔn)板對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記下方的探測(cè)裝置探測(cè)該空間像；輻射傳感器用于檢測(cè)空間像經(jīng)過(guò)工件臺(tái)對(duì)準(zhǔn)圖形透射后的輻射能量；掩模臺(tái)位置探測(cè)器和工件臺(tái)位置探測(cè)器分別探測(cè)對(duì)準(zhǔn)掃描過(guò)程中的掩模臺(tái)和工件臺(tái)的空間位置。由于光刻設(shè)備的探測(cè)裝置是位置信息與光信息的綜合超高精密探測(cè)裝置，因此對(duì)所使用的材料有嚴(yán)格的要求，特別是材料的光學(xué)和光熱特性。同時(shí)，對(duì)該探測(cè)裝置的制造精度和制造難度有特殊要求，需要在不降低裝配精度和長(zhǎng)期使用探測(cè)精度穩(wěn)定的前提下，降低制造難度和成本。圖1所示為現(xiàn)有技術(shù)所用光刻設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的探測(cè)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中20為對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置；21為晶片臺(tái)基準(zhǔn)板，且21為上表面含有反射型標(biāo)記和透射型標(biāo)記；22為光學(xué)支架；23為光子轉(zhuǎn)換晶體；24為光學(xué)濾波片；25為光電探測(cè)器；26為隔離板；27為暗銷；28為光電探測(cè)器支架；四為預(yù)放大板；晶片臺(tái)基準(zhǔn)板21下表面開有一個(gè)基準(zhǔn)板盲孔(圖中未作標(biāo)示)。光子轉(zhuǎn)換晶體23和光學(xué)濾波片M被安裝到光學(xué)支架22的通孔中，光學(xué)支架22安裝到基準(zhǔn)板盲孔中。光電探測(cè)器25安裝到隔離板沈通孔中，光電探測(cè)器25與濾波片連接，暗銷27將光學(xué)支架22、隔離板沈和光電探測(cè)器支架觀固定，預(yù)放大板四與光電探測(cè)器支架觀相連。荷蘭ASML公司的探測(cè)裝置就是采用的這種結(jié)構(gòu)?，F(xiàn)有技術(shù)的基準(zhǔn)板盲孔底面至晶片臺(tái)基準(zhǔn)板上表面距離不超過(guò)1mm，例如0. 5mm，基準(zhǔn)板盲孔底面至晶片臺(tái)基準(zhǔn)板上表面距離越厚，致使透射型標(biāo)記各分支的透射光學(xué)信號(hào)間串?dāng)_越嚴(yán)重，現(xiàn)有的加工技術(shù)難點(diǎn)在于加工制造該基準(zhǔn)板盲孔，其中的石英板盲孔加工制造困難，盲孔與光子轉(zhuǎn)換晶體難于裝配，標(biāo)記各分支產(chǎn)生的透射光學(xué)信號(hào)間有串?dāng)_。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種光刻設(shè)備探測(cè)裝置，其能避免各光學(xué)信號(hào)間的串?dāng)_， 提高裝配精度和裝配方便性，以及提高可加工性，從而提高光刻設(shè)備的性能和效率。本發(fā)明提供了一種用于光刻設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置，包括晶片臺(tái)基準(zhǔn)板，具有至少一個(gè)用于掩模對(duì)準(zhǔn)的透射型標(biāo)記，所述標(biāo)記被形成于晶片臺(tái)基準(zhǔn)板的下表面；光子轉(zhuǎn)換晶體，用于將紫外光轉(zhuǎn)換為可見光，其數(shù)量與透射型標(biāo)記的數(shù)量相同，每個(gè)光子轉(zhuǎn)換晶體的中心與相應(yīng)的透射型標(biāo)記的中心對(duì)齊；光學(xué)支架，其上具有用于安裝光子轉(zhuǎn)換晶體的通孔和定位暗銷的孔，通孔的數(shù)量與光子轉(zhuǎn)換晶體的數(shù)量相同；隔離板，用于對(duì)透過(guò)光學(xué)支架的單元光進(jìn)行傳播隔離，其上具有與光學(xué)支架上通孔數(shù)量相同數(shù)量的通孔；光學(xué)濾波片，用于濾除可見光波段外的無(wú)用光，每個(gè)都分別被安裝于隔離板上的相應(yīng)通孔中；光纖，每個(gè)都與相應(yīng)的光學(xué)濾波片直接相連。其中，每個(gè)光纖與光學(xué)濾波片相連的端面包含用于聚焦光斑的透鏡。其中，晶片臺(tái)基準(zhǔn)板的上表面具有反射型標(biāo)記，用于晶片臺(tái)對(duì)準(zhǔn)。其中，晶片臺(tái)基準(zhǔn)板為一帶鉻層的石英板，鉻層被鍍于石英板的下表面，透射型標(biāo)記被形成于鉻層上，反射型標(biāo)記被形成于石英板的上表面上。其中，透射型標(biāo)記是具有多分支結(jié)構(gòu)的振幅型光柵標(biāo)記，反射型標(biāo)記是相位型光柵標(biāo)記。其中，光子轉(zhuǎn)換晶體是閃爍晶體。其中，晶片臺(tái)基準(zhǔn)板的標(biāo)記區(qū)域鍍金屬反射層保護(hù)，透射型標(biāo)記上方對(duì)應(yīng)的區(qū)域及其他區(qū)域均不鍍金屬反射層。其中，所述光纖為大于入射至光纖端面的光斑直徑的多模光纖。其中，光學(xué)濾波片的直徑大于光子轉(zhuǎn)換晶體的直徑。其中，隔離板通過(guò)定位暗銷與光學(xué)支架相連，光學(xué)支架上用于安裝定位暗銷的孔至少有兩個(gè)，數(shù)量與定位暗銷的數(shù)量相同。其中，隔離板由高隔熱陶瓷材料制成，能隔離外界熱源。本發(fā)明通過(guò)在光刻設(shè)備對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置把晶片臺(tái)基準(zhǔn)板下表面的多分支結(jié)構(gòu)的透射型標(biāo)記與光子轉(zhuǎn)換晶體直接相連以及使用光纖探測(cè)結(jié)構(gòu)，該裝置防止了透射型標(biāo)記各分支的透射光信號(hào)間串?dāng)_，提高了對(duì)準(zhǔn)精度；該裝置避免了現(xiàn)有技術(shù)在晶片臺(tái)基準(zhǔn)板上加工盲孔的制造難度，降低了光子轉(zhuǎn)換晶體表面與晶片臺(tái)基準(zhǔn)板裝配難度，提高了可加工性和裝配方便性，同時(shí)不降低裝配精度；本發(fā)明中晶片臺(tái)基準(zhǔn)板的上表面含有用于晶片臺(tái)對(duì)準(zhǔn)的反射型標(biāo)記，下表面含有用于掩模對(duì)準(zhǔn)的透射型標(biāo)記，具有該特征的晶片臺(tái)基準(zhǔn)板，可以同時(shí)用于晶片臺(tái)對(duì)準(zhǔn)及掩模對(duì)準(zhǔn)。


圖1所示為現(xiàn)有技術(shù)的用于光刻設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2所示為根據(jù)本發(fā)明的用于光刻設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)裝置與光刻設(shè)備之間的總體布局、 工作原理結(jié)構(gòu)示意圖；圖3所示為根據(jù)本發(fā)明的用于光刻設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式下面，結(jié)合附圖詳細(xì)描述根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。圖2所示為根據(jù)本發(fā)明的用于光刻設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)裝置與光刻設(shè)備之間的總體布局、 工作原理結(jié)構(gòu)示意圖。如圖所示，光刻設(shè)備的構(gòu)成包括用于提供曝光光束的照明系統(tǒng)1 ； 用于支承掩模版2的掩模支架和掩模臺(tái)3，掩模版2上有掩模圖案和具有周期性結(jié)構(gòu)的掩模對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記RM;用于將掩模版2上的掩模圖案投影到晶片6的投影光學(xué)系統(tǒng)4;用于支承晶片 6的晶片支架和晶片臺(tái)8，晶片臺(tái)8上有刻有基準(zhǔn)標(biāo)記FM(包含有用于晶片臺(tái)對(duì)準(zhǔn)的反射型標(biāo)記和掩模對(duì)準(zhǔn)的透射型標(biāo)記)的基準(zhǔn)板9，晶片6上有周期性光學(xué)結(jié)構(gòu)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記WM ；還包括用于晶片對(duì)準(zhǔn)和晶片臺(tái)對(duì)準(zhǔn)的離軸對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)5。其中，照明系統(tǒng)1包括一個(gè)光源、一個(gè)使照明均勻化的透鏡系統(tǒng)、一個(gè)反射鏡、一個(gè)聚光鏡(圖中均未示出)。作為一個(gè)光源單元，可采用KrF準(zhǔn)分子激光器(波長(zhǎng)M8nm)、 ArF準(zhǔn)分子激光器(波長(zhǎng)193nm)、F2激光器(波長(zhǎng)157nm) ,Kr2激光器(波長(zhǎng)146nm) ,Ar2激光器(波長(zhǎng)126nm)、或者使用超高壓汞燈(g_線、i_線)等。照明系統(tǒng)1均勻照射的曝光光束IL照射在掩模版2上，掩模版2上包含有掩模圖案和周期性結(jié)構(gòu)的掩模標(biāo)記RM，用于掩模對(duì)準(zhǔn)。掩模臺(tái)3可以在垂直于照明系統(tǒng)光軸(與投影物鏡的光軸AX重合)的X-Y平面內(nèi)移動(dòng)，并且在預(yù)定的掃描方向(平行于X軸方向)以特定的掃描速度移動(dòng)。投影光學(xué)系統(tǒng)4 (投影物鏡)位掩模臺(tái)3下方，其光軸AX平行于Z軸方向。通過(guò)晶片臺(tái)上基準(zhǔn)板8的透射型標(biāo)記與掩模對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記RM對(duì)準(zhǔn)，實(shí)現(xiàn)掩模對(duì)準(zhǔn)。照明系統(tǒng)1將輻射光束照射到掩模版標(biāo)記RM上，再經(jīng)過(guò)投影系統(tǒng)4投射形成空間像，并用透射型標(biāo)記探測(cè)該空間像；探測(cè)裝置11用于檢測(cè)空間像經(jīng)過(guò)基準(zhǔn)板標(biāo)記FM透射后的輻射信息；掩模臺(tái)位置探測(cè)器7和工件臺(tái)位置探測(cè)器10分別探測(cè)對(duì)準(zhǔn)掃描過(guò)程中的掩模臺(tái)3和晶片臺(tái)8的空間位置，同步測(cè)量得到探測(cè)裝置11中的輻射信息，將探測(cè)到的所有信息采集到對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理裝置12中，進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理得到對(duì)準(zhǔn)位置。通過(guò)離軸對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)5測(cè)量位于晶片上的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以及晶片臺(tái)上基準(zhǔn)板的基準(zhǔn)標(biāo)記，實(shí)現(xiàn)晶片對(duì)準(zhǔn)和晶片臺(tái)對(duì)準(zhǔn)。離軸對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)5的對(duì)準(zhǔn)信息傳輸?shù)綄?duì)準(zhǔn)信號(hào)處理裝置12，進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)信號(hào)處理得到對(duì)準(zhǔn)位置。圖3所示為本發(fā)明用于光刻設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。晶片臺(tái)上的晶片臺(tái)基準(zhǔn)板30是一種帶鉻層的石英板，該石英板下表面鍍有鉻層，用于掩模對(duì)準(zhǔn)的透射型標(biāo)記32采用的是一種具有多分支結(jié)構(gòu)的振幅型光柵標(biāo)記，透射型標(biāo)記32在基準(zhǔn)板下表面的鉻層上刻蝕；用于晶片臺(tái)對(duì)準(zhǔn)的反射型標(biāo)記31是一種相位型光柵標(biāo)記，反射型標(biāo)記31在石英板上表面刻蝕，并在晶片臺(tái)基準(zhǔn)板的標(biāo)記區(qū)域鍍金屬反射層保護(hù)，透射型標(biāo)記32上方對(duì)應(yīng)的區(qū)域及其他區(qū)域均不鍍金屬反射層；光子轉(zhuǎn)換晶體33是一種閃爍晶體，用于將紫外光轉(zhuǎn)換為可見光。光子轉(zhuǎn)換晶體33與透射型標(biāo)記32直接相連，避免將光子轉(zhuǎn)換晶體通過(guò)盲孔與基準(zhǔn)板相連，且光子轉(zhuǎn)換晶體33的中心與透射型標(biāo)記32的中心對(duì)齊；光學(xué)支架34上有用于安裝光子轉(zhuǎn)換晶體33的通孔和定位暗銷36的孔，用于光子轉(zhuǎn)換晶體的機(jī)械支撐和光學(xué)隔離；光子轉(zhuǎn)換晶體33的數(shù)量與透射型標(biāo)記32的數(shù)量一致，光學(xué)支架34的通孔數(shù)量與光子轉(zhuǎn)換晶體33數(shù)量對(duì)應(yīng)，定位暗銷36的孔至少為兩個(gè)。光學(xué)濾波片37用于濾除可見光波段外的無(wú)用光，光學(xué)濾波片37的數(shù)量與光子轉(zhuǎn)換晶體33數(shù)量對(duì)應(yīng)，且直徑大于光子轉(zhuǎn)換晶體33的直徑，便于有效濾去可見光波段外的無(wú)用光；隔離板35由高隔熱陶瓷材料制成，用于對(duì)透過(guò)光學(xué)支架34的多個(gè)單元光進(jìn)行傳播隔離以及隔離外界熱源，且分布有與光學(xué)濾波片37數(shù)量對(duì)應(yīng)的通孔。光學(xué)濾波片37安裝到隔離板35的通孔中。隔離板35與光學(xué)支架34直接相連，并通過(guò)定位暗銷36將兩者定位連接，提高定位精度。光纖38是一種大于光斑直徑的多模光纖，用于聚焦通過(guò)光學(xué)濾波片37后的光束光斑，并將光信號(hào)探測(cè)至后續(xù)的信號(hào)處理電路中。光纖38與光學(xué)濾波片37直接相連，與光學(xué)濾波片37直接相連的端面至少包含一個(gè)用于聚焦光斑的透鏡，利于提高光信號(hào)的能量利用率，且光纖38的數(shù)量與光學(xué)濾波片37數(shù)量一致。由該結(jié)構(gòu)產(chǎn)生的像差在對(duì)準(zhǔn)前由系統(tǒng)校正。在晶片臺(tái)與掩模臺(tái)產(chǎn)生相對(duì)位置移動(dòng)的過(guò)程中，經(jīng)投影系統(tǒng)產(chǎn)生的信號(hào)光從晶片臺(tái)基準(zhǔn)板30上方入射，投射到光子轉(zhuǎn)換晶體轉(zhuǎn)換為可見光，并透過(guò)光學(xué)濾波片37，并由光纖38探測(cè)至后續(xù)的信號(hào)處理裝置的光電探測(cè)模塊，再經(jīng)過(guò)信號(hào)處理，檢測(cè)得到上述空間圖案的變化，獲得掩模對(duì)準(zhǔn)位置。離軸對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)測(cè)量位于晶片上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以及晶片臺(tái)基準(zhǔn)板的基準(zhǔn)標(biāo)記，實(shí)現(xiàn)晶片對(duì)準(zhǔn)與晶片臺(tái)對(duì)準(zhǔn)，具體原理可參考現(xiàn)有技術(shù)，如中國(guó)發(fā)明專利CN10111435A，發(fā)明名稱 一種用于光刻設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)；CN101158814A，發(fā)明名稱一種用于光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)的標(biāo)記以及使用該標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)方法。在本發(fā)明中，通過(guò)投影系統(tǒng)4產(chǎn)生的信號(hào)光照射到晶片臺(tái)基準(zhǔn)板30的反射型標(biāo)記31，產(chǎn)生3個(gè)級(jí)次衍射光，再經(jīng)離軸對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)5干涉成像探測(cè)，被后續(xù)的信號(hào)處理裝置采集，獲得晶片與晶片臺(tái)的對(duì)準(zhǔn)位置。同樣，該晶片臺(tái)基準(zhǔn)板的反射型標(biāo)記也可適用于ASML的ATHENA離軸對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，具體結(jié)構(gòu)可參見中國(guó)發(fā)明專利CN1506768A，發(fā)明名稱用于光刻系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)和方法。本說(shuō)明書中所述的只是本發(fā)明的幾種較佳具體實(shí)施例，以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案而非對(duì)本發(fā)明的限制。凡本領(lǐng)域技術(shù)人員依本發(fā)明的構(gòu)思通過(guò)邏輯分析、 推理或者有限的實(shí)驗(yàn)可以得到的技術(shù)方案，皆應(yīng)在本發(fā)明的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種用于光刻設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置，包括晶片臺(tái)基準(zhǔn)板，具有至少一個(gè)用于掩模對(duì)準(zhǔn)的透射型標(biāo)記，所述標(biāo)記被形成于晶片臺(tái)基準(zhǔn)板的下表面；光子轉(zhuǎn)換晶體，用于將紫外光轉(zhuǎn)換為可見光，其數(shù)量與透射型標(biāo)記的數(shù)量相同，每個(gè)光子轉(zhuǎn)換晶體的中心與相應(yīng)的透射型標(biāo)記的中心對(duì)齊；光學(xué)支架，其上具有用于安裝光子轉(zhuǎn)換晶體的通孔和定位暗銷的孔，通孔的數(shù)量與光子轉(zhuǎn)換晶體的數(shù)量相同；隔離板，用于對(duì)透過(guò)光學(xué)支架的單元光進(jìn)行傳播隔離，其上具有與光學(xué)支架上通孔數(shù)量相同數(shù)量的通孔；光學(xué)濾波片，用于濾除可見光波段外的無(wú)用光，每個(gè)都分別被安裝于隔離板上的相應(yīng)通孔中；光纖，每個(gè)都與相應(yīng)的光學(xué)濾波片直接相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置，其中，每個(gè)光纖與光學(xué)濾波片相連的端面包含用于聚焦光斑的透鏡。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置，其中，晶片臺(tái)基準(zhǔn)板的上表面具有反射型標(biāo)記，用于晶片臺(tái)對(duì)準(zhǔn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置，其中，晶片臺(tái)基準(zhǔn)板為一帶鉻層的石英板，鉻層被鍍于石英板的下表面，透射型標(biāo)記被形成于鉻層上，反射型標(biāo)記被形成于石英板的上表面上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置，其中，透射型標(biāo)記是具有多分支結(jié)構(gòu)的振幅型光柵標(biāo)記，反射型標(biāo)記是相位型光柵標(biāo)記。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置，其中，光子轉(zhuǎn)換晶體是閃爍晶體。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置，其中，晶片臺(tái)基準(zhǔn)板的標(biāo)記區(qū)域鍍金屬反射層保護(hù)，透射型標(biāo)記上方對(duì)應(yīng)的區(qū)域及其他區(qū)域均不鍍金屬反射層。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置，其中，所述光纖為大于入射至光纖端面的光斑直徑的多模光纖。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置，其中，光學(xué)濾波片的直徑大于光子轉(zhuǎn)換晶體的直徑。
10.根據(jù)權(quán)利要求1 9所述的對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置，其中，隔離板通過(guò)定位暗銷與光學(xué)支架相連，光學(xué)支架上用于安裝定位暗銷的孔至少有兩個(gè)，數(shù)量與定位暗銷的數(shù)量相同。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置，其中，隔離板由高隔熱陶瓷材料制成，能隔離外界熱源。
全文摘要
一種用于光刻設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置，包括在其下表面上形成有用于掩模對(duì)準(zhǔn)的透射型標(biāo)記的晶片臺(tái)基準(zhǔn)板；中心與相應(yīng)的透射型標(biāo)記的中心對(duì)齊的光子轉(zhuǎn)換晶體，用于將紫外光轉(zhuǎn)換為可見光；用于安裝光子轉(zhuǎn)換晶體的光學(xué)支架；用于對(duì)光進(jìn)行傳播隔離以及隔離外界熱源的隔離板；安裝于隔離板上的用于濾除可見光波段外的無(wú)用光的光學(xué)濾波片；與光學(xué)濾波片直接相連的光纖。
文檔編號(hào)G03F9/00GK102253603SQ20101018161
公開日2011年11月23日 申請(qǐng)日期2010年5月21日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月21日
發(fā)明者徐榮偉, 戈亞萍, 杜聚有 申請(qǐng)人:上海微電子裝備有限公司, 上海微高精密機(jī)械工程有限公司