專利名稱：凸起狀圖案形成方法、曝光裝置和光掩模的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一邊傳送涂敷了正性的感光材料(positive photosensitive material)的基板，一邊控制照射在基板上的曝光光的照射定時(shí)來曝光感光材料，從而在基板上形成高度不同的多種凸起狀圖案的凸起狀圖案形成方法，具體來說，涉及能夠?qū)⑼黄鸬捻敳啃纬蔀榇笾掳肭蛎鏍畹耐蛊馉顖D案形成方法、曝光裝置和光掩模。
背景技術(shù)：
以往的這種凸起狀圖案形成方法，例如使用于液晶顯示裝置的彩色濾光器基板的柱狀間隔物的形成，在RGB的彩色濾光器上涂敷感光性的透明丙烯酸樹脂等，并對(duì)其進(jìn)行曝光和顯影來形成柱狀間隔物(spacer)。在此情況下，高度不同的柱狀間隔物是通過改變 RGB的彩色濾光器的膜厚而形成的(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。專利文獻(xiàn)1 JP特開2003-84289號(hào)公報(bào)但是，在這種以往的凸起狀圖案形成方法中，因?yàn)槭沟酶淖僐GB的彩色濾光器的膜厚而形成于各彩色濾光器上的柱狀間隔物的高度不同，所以存在RGB的彩色濾光器的膜厚管理繁雜的問題。此外，在曝光形成上述柱狀間隔物時(shí)，一般來說，使用具備與柱狀間隔物的橫截面形狀大致相同形狀的掩模圖案的光掩模來對(duì)感光材料進(jìn)行曝光，因此柱狀間隔物的上端面通常為平坦面。因此，在形成于彩色濾光器基板上的高度較高的多個(gè)柱狀間隔物的上端面沒有成為平齊面的情況下，在將TFT基板對(duì)接到彩色濾光器基板來形成液晶顯示用基板時(shí)，存在單元間隔(cell gap)受到高度最高的柱狀間隔物的限制，從而無法得到規(guī)定的單元間隔。在此情況下，雖然增強(qiáng)將彩色濾光器基板按壓于TFT基板側(cè)的按壓力即可，但例如在使用an以上的大面積的基板時(shí)，上述按壓力非常大，有可能對(duì)液晶顯示用基板的形成裝置產(chǎn)生較大的負(fù)擔(dān)。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明應(yīng)對(duì)這樣的問題點(diǎn)，目的在于提供一種將高度不同的多種凸起狀圖案的頂部形成為大致半球面狀的凸起狀圖案形成方法、曝光裝置和光掩模。為了達(dá)成上述目的，本發(fā)明的凸起狀圖案形成方法，對(duì)涂敷了正性的感光材料的基板經(jīng)由光掩模照射曝光光來對(duì)所述感光材料進(jìn)行曝光，從而在所述基板上形成高度不同的多種凸起狀圖案，在使所述基板以一定速度向一個(gè)方向通過所述光掩模的下側(cè)的同時(shí)， 至少執(zhí)行如下步驟對(duì)與所述基板上的所述多種凸起狀圖案形成部對(duì)應(yīng)地由所述光掩模遮光的第1遮光部的外側(cè)區(qū)域進(jìn)行規(guī)定次數(shù)的多重曝光的步驟；對(duì)與所述多種凸起狀圖案形成部中規(guī)定的凸起狀圖案形成部的大致中央部對(duì)應(yīng)地由所述光掩模遮光的規(guī)定面積的第2 遮光部的外側(cè)區(qū)域、和所述規(guī)定的凸起狀圖案形成部以外的凸起狀圖案形成部進(jìn)行規(guī)定深度的曝光的步驟；和對(duì)所述基板的感光材料進(jìn)行顯影處理的步驟。根據(jù)這種構(gòu)成，在使基板以一定速度向一個(gè)方向通過光掩模的下側(cè)的同時(shí)，至少對(duì)與基板上的高度不同的多種凸起狀圖案形成部對(duì)應(yīng)地由光掩模遮光的第1遮光部的外側(cè)區(qū)域進(jìn)行規(guī)定次數(shù)的多重曝光，并對(duì)與上述多種凸起狀圖案形成部中規(guī)定的凸起狀圖案形成部的大致中央部對(duì)應(yīng)地由光掩模遮光的規(guī)定面積的第2遮光部的外側(cè)區(qū)域、和上述規(guī)定的凸起狀圖案形成部以外的凸起狀圖案形成部進(jìn)行規(guī)定深度的曝光，之后，對(duì)基板的感光材料進(jìn)行顯影處理，從而在基板上形成高度不同的多種凸起狀圖案。此外，本發(fā)明的曝光裝置，在將涂敷了正性的感光材料的基板以一定速度向一個(gè)方向傳送的同時(shí)，通過控制單元控制經(jīng)由光掩模而照射于所述基板的曝光光的照射定時(shí)， 來對(duì)所述感光材料進(jìn)行曝光，從而在所述基板上曝光高度不同的多種凸起狀圖案，所述控制單元在所述基板通過所述光掩模的下側(cè)時(shí)，至少以如下方式來控制所述曝光光的照射定時(shí)對(duì)與所述基板上的所述多種凸起狀圖案形成部對(duì)應(yīng)地由所述光掩模遮光的第1遮光部的外側(cè)區(qū)域進(jìn)行規(guī)定次數(shù)的多重曝光，對(duì)與所述多種凸起狀圖案形成部中規(guī)定的凸起狀圖案形成部的大致中央部對(duì)應(yīng)地由所述光掩模遮光的規(guī)定面積的第2遮光部的外側(cè)區(qū)域、和所述規(guī)定的凸起狀圖案形成部以外的凸起狀圖案形成部進(jìn)行規(guī)定深度的曝光。根據(jù)這種構(gòu)成，在基板以一定速度向一個(gè)方向通過光掩模的下側(cè)時(shí)，至少由控制單元以如下方式來控制曝光光的照射定時(shí)，從而在基板上曝光高度不同的多種凸起狀圖案使與基板上的高度不同的多種凸起狀圖案形成部對(duì)應(yīng)地由光掩模遮光的第1遮光部的外側(cè)區(qū)域進(jìn)行規(guī)定次數(shù)的多重曝光，并使與上述多種凸起狀圖案形成部中規(guī)定的凸起狀圖案形成部的大致中央部對(duì)應(yīng)地由光掩模遮光的規(guī)定面積的第2遮光部的外側(cè)區(qū)域、和上述規(guī)定的凸起狀圖案形成部以外的凸起狀圖案形成部進(jìn)行規(guī)定深度的曝光。并且，本發(fā)明的光掩模使用于在將涂敷了正性的感光材料的基板以一定速度向一個(gè)方向傳送的同時(shí)，控制照射于所述基板的曝光光的照射定時(shí)，來對(duì)所述感光材料進(jìn)行曝光，從而在所述基板上形成高度不同的多種凸起狀圖案的曝光裝置，所述光掩模至少以規(guī)定的間隔在透鏡基板上形成了如下圖案群第1掩模圖案群，其以與所述基板上的多種凸起狀圖案形成部對(duì)應(yīng)的間隔具有與所述凸起狀圖案的橫截面積大致相等的面積的第1遮光圖案；和第2掩模圖案群，其具有以與所述多種凸起狀圖案形成部對(duì)應(yīng)的間隔形成且與所述多種凸起狀圖案形成部中規(guī)定的凸起狀圖案形成部對(duì)應(yīng)的規(guī)定面積的第2遮光圖案、 和與所述規(guī)定的凸起狀圖案形成部以外的凸起狀圖案形成部對(duì)應(yīng)的開口圖案。根據(jù)這種構(gòu)成，在將涂敷了正性的感光材料的基板以一定速度向一個(gè)方向傳送的同時(shí)，用第1掩模圖案群的第1遮光圖案對(duì)基板上的高度不同的多種凸起狀圖案形成部進(jìn)行遮光并對(duì)其外側(cè)區(qū)域進(jìn)行曝光，用第2掩模圖案群的規(guī)定面積的第2遮光圖案對(duì)上述多種凸起狀圖案形成部中的規(guī)定的凸起狀圖案形成部進(jìn)行遮光并對(duì)其外側(cè)區(qū)域進(jìn)行曝光，由第2掩模圖案群的開口圖案來對(duì)上述規(guī)定的凸起狀圖案形成部以外的凸起狀圖案形成部進(jìn)行曝光。此外，將所述第1掩模圖案群形成于所述透明基板的一面，將所述第2掩模圖案群形成于所述透明基板的另一面，并且在所述透明基板的一面?zhèn)?，在比形成了所述?掩模圖案群的面朝著所述透明基板的另一面?zhèn)群笸肆艘?guī)定距離的位置，分別對(duì)應(yīng)于所述第2掩模圖案群的所述第2遮光圖案和所述開口圖案而形成了微透鏡。由此，在透明基板的一面形成第1掩模圖案群，在透明基板的另一面形成第2掩模圖案群，在透明基板的一面?zhèn)?，在比形成了?掩模圖案群的面向透明基板的另一面?zhèn)群笸肆艘?guī)定距離的位置，分別對(duì)應(yīng)于第2掩模圖案群的第2遮光圖案和開口圖案而形成微透鏡，由此能夠在基板上形成高度不同的多種凸起狀圖案。并且，對(duì)于在一面形成了所述第1掩模圖案群的透明基板、和在一面形成了所述第2掩模圖案群并在另一面形成了所述微透鏡的另一透明基板，將它們的另一方面彼此對(duì)接并接合。由此，對(duì)于在一面形成了第1掩模圖案群的透明基板、和在一面形成了第2掩模圖案群并在另一面形成了微透鏡的另一透明基板，將它們的另一面彼此對(duì)接并接合，使微透鏡在透明基板的一面?zhèn)缺刃纬闪说?掩模圖案群的面朝著透明基板的另一面?zhèn)群笸艘?guī)定距尚。此外，對(duì)于在一面形成了所述第1掩模圖案群的透明基板、和比該透明基板厚度薄且在一面形成了所述第2掩模圖案群并在另一面形成了所述微透鏡的另一透明基板，將它們的端面彼此對(duì)接并接合。由此，對(duì)于在一面形成了第1掩模圖案群的透明基板、和比該透明基板厚度薄且在一面形成了第2掩模圖案群，并在另一面形成了微透鏡的另一透明基板，將它們的端面彼此對(duì)接并接合，使微透鏡在透明基板的一面?zhèn)缺刃纬闪说?掩模圖案群的面朝著透明基板的另一面?zhèn)群笸艘?guī)定距離。并且，用遮光膜來對(duì)所述微透鏡的周圍進(jìn)行了遮光。由此，用遮光膜來對(duì)微透鏡的周圍進(jìn)行遮光。根據(jù)權(quán)利要求1、2、3所涉及的發(fā)明，能夠?qū)⑼蛊馉顖D案的頂部形成為大致半球面狀。因此，例如，在使用于對(duì)液晶顯示用基板的單元間隔進(jìn)行限制的柱狀間隔物的形成的情況下，因?yàn)橹鶢铋g隔物的頂部為大致半球面狀，所以柱狀間隔物與配置于其上的基板之間的接觸成為點(diǎn)接觸，在高度不同的多個(gè)柱狀間隔物中高度較高的多個(gè)柱狀間隔物的高度分散時(shí)，也能夠以比以往小的按壓力來容易地壓垮高度最高的柱狀間隔物的大致半球面狀的頂部，能夠在大面積的液晶顯示用基板的整個(gè)面上形成均勻的單元間隔。由此，能夠減輕液晶顯示用基板的形成裝置的負(fù)擔(dān)。此外，根據(jù)權(quán)利要求4所涉及的發(fā)明，能夠通過微透鏡來提高照射于基板的曝光光的照射能量。因此，能夠加速基板的傳送速度，并能夠縮短曝光工序的節(jié)拍。并且，根據(jù)權(quán)利要求5或6所涉及的發(fā)明，在透明基板的一面?zhèn)?，在比形成了? 掩模圖案群的面朝著透明基板的另一面?zhèn)群笸肆艘?guī)定距離的位置能夠容易地形成微透鏡。 因此，能夠在不改變光掩模與涂敷了感光材料的基板之間的距離的情況下，靠近第1掩模圖案群的掩模圖案進(jìn)行曝光，并能夠通過微透鏡將第2掩模圖案群的掩模圖案縮小曝光。并且，根據(jù)權(quán)利要求7所涉及的發(fā)明，能夠防止感光材料被從微透鏡的周圍露出的曝光光曝光。因此，能夠提高凸起狀圖案的形成精度。


圖1是表示本發(fā)明的曝光裝置的實(shí)施方式的示意圖。圖2是表示使用于上述曝光裝置的彩色濾光器基板的一個(gè)構(gòu)成例的平面圖。圖3是用與上述彩色濾光器基板的傳送方向平行的截面來表示的主要部分放大截面圖。圖4是表示使用于本發(fā)明的曝光裝置的光掩模的一個(gè)構(gòu)成例的圖，(a)是平面圖， (b)是右側(cè)面圖，(c)是底面圖。
圖5是圖4的0-0線截面圖，(a)是第1掩模圖案群的主要部分放大截面圖，(b) 是第2掩模圖案群的主要部分放大截面圖，(c)是第3掩模圖案群的主要部分放大截面圖， (d)是第4掩模圖案群的主要部分放大截面圖。圖6是上述光掩模的主要部分放大平面圖，(a)表示第1掩模圖案群，(b)表示第 2掩模圖案群，(c)表示第3掩模圖案群，(d)表示第4掩模圖案群。圖7是表示上述曝光裝置的控制單元的模塊圖。圖8是表示本發(fā)明的柱狀間隔物形成方法的流程圖。圖9是表示上述第1掩模圖案群對(duì)柱狀間隔物形成部的外側(cè)區(qū)域的多重曝光的說明圖。圖10是表示上述第2 第4掩模圖案對(duì)柱狀間隔物形成部的階段性的多重曝光的說明圖。圖11是表示通過本發(fā)明的柱狀間隔物形成方法而形成的高度不同的柱狀間隔物的主要部分放大截面圖。
具體實(shí)施例方式以下，基于附圖，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式詳細(xì)地進(jìn)行說明。圖1是表示本發(fā)明的曝光裝置的實(shí)施方式的概略構(gòu)成的示意圖。該曝光裝置是一邊傳送涂敷了正性的感光材料的基板，一邊控制照射在基板上的曝光光的照射定時(shí)來對(duì)感光材料進(jìn)行曝光，從而在基板上形成高度不同的多種凸起狀圖案的裝置，具備傳送單元1、掩模臺(tái)2、光掩模3、曝光光學(xué)系統(tǒng) 4、攝像單元5、照明單元6、和控制單元7而構(gòu)成。以下，對(duì)涂敷了正性的感光材料的基板是彩色濾光器基板8的情況進(jìn)行說明。上述彩色濾光器基板8，具備如圖2所示在透明的玻璃基板上矩陣狀地具有多個(gè)像素9的黑底(black matrix) 10 ；如圖3所示對(duì)應(yīng)于各像素9交替地形成的RGB的彩色濾光器11R、11G、1 IB ；以及覆蓋黑底10和彩色濾光器11R、11G、11B的上表面而設(shè)置的平坦化膜12。覆蓋上表面地涂敷有正性的感光材料13。并且，在黑底10上的規(guī)定位置，例如，與各像素9對(duì)應(yīng)的四個(gè)角部的位置(參照?qǐng)D2、，形成有作為高度不同的兩種凸起狀圖案的柱狀間隔物。另外，沿著上述像素9的箭頭A所示的傳送方向的排列間距用w來表示。此外， 在圖3中，符號(hào)14是透明的玻璃基板。上述傳送單元1是在載物臺(tái)15的上表面載置彩色濾光器基板8并以規(guī)定速度向一個(gè)方向(箭頭A方向)進(jìn)行傳送的單元，例如通過將電動(dòng)機(jī)和齒輪等組合而構(gòu)成的移動(dòng)機(jī)構(gòu)來移動(dòng)載物臺(tái)15。此外，在傳送單元1設(shè)有用于檢測(cè)載物臺(tái)15的移動(dòng)速度的速度傳感器、用于計(jì)測(cè)載物臺(tái)15的移動(dòng)距離的位置傳感器(省略圖示)。在上述傳送單元1的上方，設(shè)有掩模臺(tái)2。該掩模臺(tái)2是與載置于傳送單元1而被傳送的彩色濾光器基板8靠近對(duì)置，并保持后述的光掩模3的部件，對(duì)應(yīng)于包括光掩模3的掩模圖案的形成區(qū)域和窺視窗33的區(qū)域(參照?qǐng)D4)而將中央部開口，能夠定位并保持光掩模3的周緣部。并且，形成為能夠在與載物臺(tái)15的面平行的面內(nèi)，在與彩色濾光器基板 8的箭頭A所示的傳送方向大致正交的方向上，與后述的攝像單元5—體地移動(dòng)。此外，根據(jù)需要，也可以形成為能夠以掩模臺(tái)2的中心為軸，在規(guī)定的角度范圍內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)。在上述掩模臺(tái)2可裝卸地保持有光掩模3。該光掩模3如圖4所示，以規(guī)定的排列間距形成了如下掩模圖案群第1掩模圖案群16，其在作為透明基板的例如石英基板的一面上，以與彩色濾光器基板8上的高度不同的兩種柱狀間隔物形成部對(duì)應(yīng)的間隔，具有與柱狀間隔物的橫截面積大致相等的面積的第1遮光圖案20(參照?qǐng)D5(a)和圖6(a))；第2 掩模圖案群17，其具有以與兩種柱狀間隔物形成部對(duì)應(yīng)的間隔形成且與兩種柱狀間隔物形成部中高度較高的柱狀間隔物形成部對(duì)應(yīng)的規(guī)定面積的第2遮光圖案22、和與高度較低的柱狀間隔物形成部對(duì)應(yīng)的開口圖案23(參照?qǐng)D5(b)和圖6(b))；第3掩模圖案群18，其具有以與兩種柱狀間隔物形成部對(duì)應(yīng)的間隔形成，且與兩種柱狀間隔物形成部中的高度較高的柱狀間隔物形成部對(duì)應(yīng)且比第2遮光圖案22面積大的第3遮光圖案M、和與高度較低的柱狀間隔物形成部對(duì)應(yīng)的規(guī)定面積的第4遮光圖案25 (參照?qǐng)D5 (c)和圖6(c))；和第4掩模圖案群19，其具有以與兩種柱狀間隔物形成部對(duì)應(yīng)的間隔形成，且與兩種柱狀間隔物形成部中高度較高的柱狀間隔物形成部對(duì)應(yīng)且比第3遮光圖案M面積大的第5遮光圖案26、 和與高度較低的柱狀間隔物形成部對(duì)應(yīng)且比第4遮光圖案25面積大的第6遮光圖案27 (參照?qǐng)D5(d)和圖6(d))。具體而言，第1掩模圖案群16以排列間距W(例如，W = 2w)并列地具有在與彩色濾光器基板8的傳送方向(箭頭A方向)大致正交的方向上排列了多個(gè)第1遮光圖案20的 3組遮光圖案列21a、21b、21c，第2掩模圖案群17具有在與箭頭A方向大致正交的方向上排列了多個(gè)第2遮光圖案22和開口圖案23的1組遮光圖案列21d，第3掩模圖案群18具有在與箭頭A方向大致正交的方向上排列了多個(gè)第3和第4遮光圖案M、25的1組遮光圖案列21e，第4掩模圖案群19具有在與箭頭A方向大致正交的方向上排列了多個(gè)第5和第 6遮光圖案26、27的1組遮光圖案列21f。第2掩模圖案群17從第1掩模圖案群16的任意一個(gè)遮光圖案列21a 21c (在圖4中，為遮光圖案列21a)離開距離nW(n為正的整數(shù)) 而設(shè)置。此外，第2 第4掩模圖案群17 19相互離開距離mW(m為小于η的正整數(shù))而設(shè)置。另外，在圖4中，因?yàn)楦綀D繁雜，所以第2 第6遮光圖案M 27用空白來表示。在本實(shí)施方式中，光掩模3將第1掩模圖案群16形成于石英基板的一面，將第2 第4掩模圖案群17 19形成于石英基板的另一面，并且在石英基板的一面?zhèn)?，在比形成了?掩模圖案群16的面朝著石英基板的另一面?zhèn)群笸肆司嚯xD (參照?qǐng)D4 (b))的位置上，分別對(duì)應(yīng)于第2 第4掩模圖案群17 19的第2 第6遮光圖案22 27和開口圖案23， 形成了微透鏡觀。這種光掩模3如圖4(b)所示，能夠通過對(duì)于在設(shè)置于一面^a的鉻(Cr)的遮光膜32上形成了第1掩模圖案群16的第1石英基板四、和在設(shè)置于一面30a的鉻(Cr)的遮光膜32上形成了第2 第4掩模圖案群17 19并在另一面30b上形成了微透鏡觀的第 2石英基板30，將它們的另一面^b、30b之間對(duì)接，并用透明的粘著劑粘合而形成?；蛘?，光掩模3也可以通過對(duì)于在一面形成了第1掩模圖案群16的石英基板、和比該石英基板厚度薄且在一面形成了第2 第4掩模圖案群17 19并在另一面形成了微透鏡觀的另一石英基板，將它們的端面彼此對(duì)接并接合而形成。此外，在這些情況下，如圖4(c)和圖5所示，優(yōu)選將微透鏡觀的周圍用鉻(Cr)的遮光膜32進(jìn)行遮光。并且光掩模3，在第1掩模圖案群16的側(cè)方，從構(gòu)成該第1掩模圖案群16的3組遮光圖案列21a 21c中的箭頭A所示的傳送方向跟前的1組遮光圖案列21a(以下，稱作
8“第1組遮光圖案列”)離開距離L，形成有具有與該第1組遮光圖案列21a的長(zhǎng)度方向中心軸平行的長(zhǎng)度方向中心軸的矩形狀的開口部。該開口部成為能夠通過后述的攝像單元5來觀察彩色濾光器基板8表面的窺視窗33。并且，在該窺視窗33內(nèi)，在其長(zhǎng)度方向中心軸上形成有省略圖示的N字狀的狹縫(slit)(以下，稱作“N形狹縫”)。該N形狹縫使用于在彩色濾光器基板8的像素9的邊緣部與傳送方向(箭頭A方向)大致正交的邊緣部的檢測(cè)、 以及光掩模3與彩色濾光器基板8的校準(zhǔn)，使左右兩條平行的狹縫相對(duì)于窺視窗33的長(zhǎng)度方向中心軸正交，并且使中心與窺視窗33的長(zhǎng)度方向中心軸一致。另外，也可以除了 N形狹縫之外另外設(shè)置校準(zhǔn)標(biāo)記。并且，光掩模3，如圖1所示，使第1掩模圖案群16和微透鏡觀形成面位于傳送單元1側(cè)，并且使窺視窗33位于彩色濾光器基板8的傳送方向(箭頭A方向)跟前側(cè)，來定位并固定于掩模臺(tái)2上。在上述掩模臺(tái)2的上方，形成有曝光光學(xué)系統(tǒng)4。該曝光光學(xué)系統(tǒng)4對(duì)光掩模3照射均勻的光源光Li，具備光源34、棒狀透鏡(rod lens) 35、和聚光透鏡36而構(gòu)成。上述光源34例如是放射波長(zhǎng)為355nm的紫外線的部件，是被后述的控制單元7控制發(fā)光的例如閃光燈、紫外線發(fā)光激光光源等。此外，上述棒狀透鏡35設(shè)置于從光源34放射出的光源光Ll的放射方向前方，用于使與光源光Ll的光軸正交的截面內(nèi)的亮度分布均勻。另外，作為使光源光Ll的亮度分布均勻化的單元，不限于棒狀透鏡35，也可以使用光管 (light pipe)或其他公知的手段。并且，上述聚光透鏡36使其前焦點(diǎn)與棒狀透鏡35的輸出端面3 —致地設(shè)置，使從棒狀透鏡35射出的光源光Ll成為平行光后照射于光掩模3。在上述曝光光學(xué)系統(tǒng)4的彩色濾光器基板8的箭頭A所示的傳送方向跟前側(cè)，設(shè)有攝像單元5。該攝像單元5，在光掩模3的曝光位置的傳送方向跟前側(cè)的位置上，對(duì)形成于彩色濾光器基板8上的成為定位基準(zhǔn)的像素9的基準(zhǔn)位置以及形成于光掩模3的窺視窗 33內(nèi)的省略圖示的N形狹縫進(jìn)行攝像，是在與載物臺(tái)15的上表面平行的面內(nèi)，在與彩色濾光器基板8的傳送方向(箭頭A方向)大致正交的方向上，將多個(gè)受光元件排列為一直線狀的線陣相機(jī)(line camera)，使其長(zhǎng)度方向中心軸與光掩模3的窺視窗33的長(zhǎng)度方向中心軸大體一致地配置。此外，攝像單元5在其光路上具備光學(xué)光路長(zhǎng)度校正單元，使得能夠同時(shí)對(duì)彩色濾光器基板8上的像素9和光掩模3的N形狹縫進(jìn)行攝像。另外，在圖1中，符號(hào)37是使攝像單元5的光路彎曲的全反射反光鏡。在上述傳送單元1的載物臺(tái)15的下側(cè)，與攝像單元5的攝像區(qū)域?qū)?yīng)地設(shè)有照明單元6。該照明單元6對(duì)彩色濾光器基板8從下表面照射截止了紫外線的由可視光構(gòu)成的照明光，使得能夠通過攝像單元5來觀察形成于彩色濾光器基板8表面的像素9，例如為鹵素?zé)舻?。另外，照明單?也可以設(shè)置于載物臺(tái)15的上方進(jìn)行落射照明。與上述傳送單元1、攝像單元5、光源；34、掩模臺(tái)2、和照明單元6連接地設(shè)置有控制單元7。該控制單元7在彩色濾光器基板8通過光掩模3的下側(cè)時(shí)，控制曝光光L2的照射定時(shí)，使得對(duì)與基板上的兩種柱狀間隔物形成部46對(duì)應(yīng)地被光掩模3的第1遮光圖案 20遮光的第1遮光部47 (參照?qǐng)D9)的外側(cè)區(qū)域進(jìn)行規(guī)定次數(shù)的多重曝光；對(duì)與高度不同的兩種柱狀間隔物形成部46中的高度較高的柱狀間隔物形成部46a的大致中央部對(duì)應(yīng)地被光掩模3的第2遮光圖案22遮光的規(guī)定面積的第2遮光部48 (參照?qǐng)D10 (a))的外側(cè)區(qū)域以及高度較低的柱狀間隔物形成部46進(jìn)行規(guī)定深度的曝光；對(duì)與高度不同的兩種柱狀間隔物形成部46中的高度較高的柱狀間隔物形成部46a的大致中央部對(duì)應(yīng)地被光掩模3 的第3遮光圖案M遮光且比第2遮光部48面積大的第3遮光部49的外側(cè)區(qū)域、以及與高度較低的柱狀間隔物形成部46b的大致中央部對(duì)應(yīng)地被光掩模3的第4遮光圖案25遮光的規(guī)定面積的第4遮光部50(參照?qǐng)D10(b))的外側(cè)區(qū)域進(jìn)行曝光；對(duì)與高度不同的兩種柱狀間隔物形成部46中的高度較高的柱狀間隔物形成部46a的大致中央部對(duì)應(yīng)地被光掩模 3的第5遮光圖案沈遮光且比第3遮光部49面積大的第5遮光部51的外側(cè)區(qū)域、以及與高度較低的柱狀間隔物形成部46b的大致中央部對(duì)應(yīng)地被光掩模3的第6遮光圖案27遮光且比第4遮光部50面積大的第6遮光部52(參照?qǐng)D10(c))的外側(cè)區(qū)域進(jìn)行曝光。如圖 7所示，控制單元7具備圖像處理部38、運(yùn)算部39、存儲(chǔ)器40、傳送單元驅(qū)動(dòng)控制器41、光源驅(qū)動(dòng)控制器42、掩模臺(tái)驅(qū)動(dòng)控制器43、照明單元驅(qū)動(dòng)控制器44、和控制部45。在此，圖像處理部38對(duì)由攝像單元5取得的彩色濾光器基板8的表面和光掩模3 的N形狹縫的攝像圖像進(jìn)行圖像處理，并檢測(cè)預(yù)先于彩色濾光器基板8上的像素9設(shè)定的基準(zhǔn)位置、和預(yù)先于光掩模3的N形狹縫設(shè)定的基準(zhǔn)位置。此外，運(yùn)算部39計(jì)算出由圖像處理部38檢測(cè)出的彩色濾光器基板8上的基準(zhǔn)位置和光掩模3的基準(zhǔn)位置之間的距離，將其結(jié)果與保存在后述的存儲(chǔ)器40中的目標(biāo)值進(jìn)行比較，將其差分作為校正值輸出到掩模臺(tái)驅(qū)動(dòng)控制器43，并且將使用N形狹縫檢測(cè)出的在彩色濾光器基板8的像素9的邊緣部與傳送方向(箭頭A方向)大致正交的邊緣部的檢測(cè)次數(shù)與保存在存儲(chǔ)器40中的目標(biāo)次數(shù)進(jìn)行比較，每當(dāng)兩個(gè)次數(shù)一致時(shí)對(duì)光源驅(qū)動(dòng)控制器 42輸出使光源34點(diǎn)亮的點(diǎn)亮指令。并且，存儲(chǔ)器40暫時(shí)保存運(yùn)算部39中的運(yùn)算結(jié)果，并存儲(chǔ)載物臺(tái)15的移動(dòng)速度 V、彩色濾光器基板8上的基準(zhǔn)位置與光掩模3的基準(zhǔn)位置之間的距離的目標(biāo)值、以及其他初始設(shè)定值。并且，傳送單元驅(qū)動(dòng)控制器41是使傳送單元1的載物臺(tái)15在箭頭A所示的方向上以一定速度移動(dòng)的部件，輸入傳送單元1的速度傳感器的輸出信號(hào)來與保存在存儲(chǔ)器40 中的載物臺(tái)15的移動(dòng)速度V進(jìn)行比較，并控制傳送單元1使兩者一致。并且，光源驅(qū)動(dòng)控制器42是使光源34間歇性地發(fā)光的部件，按照從運(yùn)算部39輸入的點(diǎn)亮指令來對(duì)光源34發(fā)送驅(qū)動(dòng)信號(hào)。此外，掩模臺(tái)驅(qū)動(dòng)控制器43是使掩模臺(tái)2與攝像單元5 —體地在與箭頭A所示的傳送方向大致正交的方向上移動(dòng)的部件，根據(jù)從運(yùn)算部39輸入的校正值來控制掩模臺(tái)2的移動(dòng)。并且，照明單元驅(qū)動(dòng)控制器44是使照明單元6點(diǎn)亮和熄滅的部件，以如下方式進(jìn)行控制若接通了曝光開始開關(guān)，則使照明單元6點(diǎn)亮，若對(duì)彩色濾光器基板8的所有的曝光結(jié)束，則使其熄滅。并且，控制部45對(duì)各構(gòu)成要素間進(jìn)行調(diào)節(jié)和控制，使得上述各構(gòu)成要素適當(dāng)?shù)仳?qū)動(dòng)。接下來，參照?qǐng)D8的流程圖，對(duì)像這樣構(gòu)成的曝光裝置的動(dòng)作、和使用該曝光裝置進(jìn)行的柱狀間隔物形成方法進(jìn)行說明。首先，在步驟Sl中，對(duì)例如由鍵盤等構(gòu)成的省略圖示的操作單元進(jìn)行操作，輸入載物臺(tái)15的移動(dòng)速度V、從曝光開始到曝光結(jié)束為止的載物臺(tái)15的移動(dòng)距離、光源34的功率和發(fā)光時(shí)間、光掩模3的第1掩模圖案群16的第1組遮光圖案列21a與窺視窗33之間的距離L、在彩色濾光器基板8的像素9的邊緣部與傳送方向(箭頭A方向)大致正交的邊緣部的檢測(cè)次數(shù)的目標(biāo)值、彩色濾光器基板8的基準(zhǔn)位置與光掩模3的基準(zhǔn)位置之間的距離的目標(biāo)值等，保存在存儲(chǔ)器40中，并進(jìn)行初始設(shè)定。接下來，在步驟S2中，將在表面涂敷了正性的感光材料13的彩色濾光器基板8使涂敷面朝上地定位并載置于載物臺(tái)15上的規(guī)定位置。然后，若接通了省略圖示的曝光開始開關(guān)，則控制單元7的傳送單元驅(qū)動(dòng)控制器41啟動(dòng)，使載物臺(tái)15以速度V在箭頭A方向上移動(dòng)，開始彩色濾光器基板8的傳送。此時(shí)，傳送單元驅(qū)動(dòng)控制器41輸入傳送單元1的速度傳感器的輸出信號(hào)，與保存在存儲(chǔ)器40中的速度V進(jìn)行比較，并控制傳送單元1以使得載物臺(tái)15的移動(dòng)速度成為V。同時(shí)，照明單元驅(qū)動(dòng)控制器44啟動(dòng)，使照明單元6點(diǎn)亮，并開始由攝像單元5進(jìn)行的彩色濾光器基板8面的攝像。在步驟S3中，執(zhí)行彩色濾光器基板8和光掩模3的校準(zhǔn)。具體而言，彩色濾光器基板8隨著載物臺(tái)15的移動(dòng)而被傳送，若形成于彩色濾光器基板8上的像素9中的位于傳送方向(箭頭A方向)最前側(cè)的像素9到達(dá)攝像單元5的攝像區(qū)域，則攝像單元5通過光掩模3的窺視窗33，同時(shí)對(duì)上述像素9、和光掩模3的窺視窗33內(nèi)的N形狹縫進(jìn)行攝像。然后，將該攝像圖像的電信號(hào)輸出到控制單元7的圖像處理部38。在圖像處理部38中，對(duì)從攝像單元5輸入的攝像圖像的電信號(hào)進(jìn)行圖像處理，檢測(cè)出彩色濾光器基板8的基準(zhǔn)位置、例如像素9的與傳送方向平行的左側(cè)邊緣部的位置，以及光掩模3的N形狹縫的基準(zhǔn)位置、例如與傳送方向平行的兩條狹縫中的左側(cè)狹縫的中心位置，并將這些位置數(shù)據(jù)輸出到運(yùn)算部39。在運(yùn)算部39中，根據(jù)從圖像處理部38輸入的像素9的基準(zhǔn)位置的位置數(shù)據(jù)和光掩模3的N形狹縫的基準(zhǔn)位置的位置數(shù)據(jù)，來對(duì)兩者間的距離進(jìn)行運(yùn)算，并與從存儲(chǔ)器40 中讀出的兩者間的距離的目標(biāo)值進(jìn)行比較，將其差分作為校正值輸出到掩模臺(tái)驅(qū)動(dòng)控制器 43。掩模臺(tái)驅(qū)動(dòng)控制器43，將掩模臺(tái)2在與載物臺(tái)15的面平行的面內(nèi)向與箭頭A方向 (傳送方向)大致正交的方向移動(dòng)從運(yùn)算部39輸入的校正值，來進(jìn)行彩色濾光器基板8和光掩模3的校準(zhǔn)。另外，該校準(zhǔn)在彩色濾光器基板8的像素9在光掩模3的窺視窗33與第 1掩模圖案群16的第1組遮光圖案列21a之間移動(dòng)的過程中被執(zhí)行。此外，曝光動(dòng)作中也不斷被執(zhí)行。在步驟S4中，判定彩色濾光器基板8是否被傳送到了下述那樣為止與形成于彩色濾光器基板8上的像素9中的位于傳送方向(箭頭A方向)最前側(cè)的像素9的四個(gè)角部對(duì)應(yīng)的最初的1組柱狀間隔物形成部46a、46b (參照?qǐng)D2、與光掩模3的第1掩模圖案群16 的第1組遮光圖案列21a —致。在此情況下，彩色濾光器基板8的移動(dòng)距離的計(jì)測(cè)如下來進(jìn)行。即，首先，透過窺視窗33內(nèi)的N形狹縫，利用攝像單元5來對(duì)彩色濾光器基板8的像素9的圖像進(jìn)行攝像，用圖像處理部38對(duì)此進(jìn)行處理來檢測(cè)像素9的與傳送方向(箭頭A 方向)大致正交的邊緣部。接著，在運(yùn)算部39中，分別運(yùn)算在位于N形狹縫的左右平行的狹縫間的像素9的上述邊緣部，被N形狹縫的傾斜狹縫的中心線分割為左右兩份的邊緣部的長(zhǎng)度。然后，傳送彩色濾光器基板8，若上述分割為左右兩份的邊緣部的長(zhǎng)度相等，則以此時(shí)的彩色濾光器基板8的位置為基準(zhǔn)，通過傳送單元1所具備的位置傳感器來計(jì)測(cè)彩色濾光器基板8的移動(dòng)距離。將像這樣計(jì)測(cè)出的彩色濾光器基板8的移動(dòng)距離，與由運(yùn)算部39基于從存儲(chǔ)器40讀出的上述第1組遮光圖案列21a與窺視窗33之間的距離L、和基板傳送方向的像素9的寬度而計(jì)算出的移動(dòng)距離的目標(biāo)值進(jìn)行比較。由此，在步驟S4中，若兩者一致從而判定為“是”則進(jìn)入步驟S5。在步驟S5中，運(yùn)算部39對(duì)光源驅(qū)動(dòng)控制器42輸出使光源34點(diǎn)亮的點(diǎn)亮指令。光源驅(qū)動(dòng)控制器42按照上述點(diǎn)亮指令來對(duì)光源34輸出驅(qū)動(dòng)信號(hào)。由此，光源34按照上述初始設(shè)定值以規(guī)定的功率點(diǎn)亮規(guī)定時(shí)間。從光源34放射出的紫外線的光源光Ll通過棒狀透鏡35使得亮度分布均勻之后， 被聚光透鏡36變換為平行光并照射于光掩模3。然后，由通過了光掩模3的曝光光L2來對(duì)彩色濾光器基板8的感光材料13進(jìn)行曝光。此時(shí)，如圖9 (a)所示，與彩色濾光器基板8的傳送方向最前側(cè)的1組柱狀間隔物形成部46a、46b對(duì)應(yīng)地被構(gòu)成第1掩模圖案群16的第 1組遮光圖案列21a的第1遮光圖案20遮光的第1遮光部47的外側(cè)區(qū)域，被第1次曝光， 從而感光材料13以規(guī)定深度被感光。以下，著眼于傳送方向最前側(cè)的1組柱狀間隔物形成部46的曝光來進(jìn)行說明。在步驟S6中，與步驟S4相同地透過N形狹縫來檢測(cè)像素9的與傳送方向(箭頭 A方向)正交的邊緣部，并用運(yùn)算部39來對(duì)彩色濾光器基板8被傳送從而多個(gè)像素9的上述邊緣部與N形狹縫的中心線(或者窺視窗33的長(zhǎng)度方向中心軸線)一致的次數(shù)進(jìn)行計(jì)數(shù)。然后，將該次數(shù)與從存儲(chǔ)器40中讀出的目標(biāo)次數(shù)(在本實(shí)施方式中為“2”)進(jìn)行比較， 判定兩者是否一致。在此，若兩者一致從而判定為“是”則進(jìn)入步驟S7。在步驟S7中，從運(yùn)算部39對(duì)光源驅(qū)動(dòng)控制器42輸出使光源34點(diǎn)亮的點(diǎn)亮指令。 并且，按照上述點(diǎn)亮指令，從光源驅(qū)動(dòng)控制器42向光源34輸出驅(qū)動(dòng)信號(hào)，光源34按照初始設(shè)定值以規(guī)定的功率點(diǎn)亮規(guī)定時(shí)間，從而彩色濾光器基板8的感光材料13被曝光。此時(shí)， 如圖9(b)所示，與傳送方向最前側(cè)的1組柱狀間隔物形成部46a、46b對(duì)應(yīng)地，被構(gòu)成第1 掩模圖案群16的第2組遮光圖案列21b的第1遮光圖案20遮光的第1遮光部47的外側(cè)區(qū)域被第2次疊加曝光，從而感光材料13更深地被感光。在步驟S8中，用運(yùn)算部39來比較由傳送單元1所具備的位置傳感器計(jì)測(cè)出的彩色濾光器基板8的移動(dòng)距離、和從存儲(chǔ)器40讀出的到曝光結(jié)束位置為止的彩色濾光器基板 8的移動(dòng)距離，判定兩者是否一致。在此，若兩者不一致從而判定為“否”，則返回步驟S6。 然后，反復(fù)執(zhí)行步驟S6 S8直到在步驟S8中判定為“是”，每當(dāng)彩色濾光器基板8的像素 9的邊緣部的檢測(cè)次數(shù)與目標(biāo)次數(shù)一致時(shí)，光源34點(diǎn)亮規(guī)定時(shí)間來執(zhí)行曝光。由此，如圖9(c)所示，與傳送方向最前側(cè)的1組柱狀間隔物形成部46a、46b對(duì)應(yīng)地，被構(gòu)成第1掩模圖案群16的第3組遮光圖案列21c的第1遮光圖案20遮光的第1遮光部47的外側(cè)區(qū)域被第3次疊加曝光，從而感光材料13在整個(gè)厚度上被感光。接著，若彩色濾光器基板8被傳送從而傳送方向最前側(cè)的1組柱狀間隔物形成部 46a、46b到達(dá)光掩模3的第2掩模圖案群17的下側(cè)，則如圖10 (a)所示，在1組柱狀間隔物形成部46a、46b中的高度較高的柱狀間隔物形成部46a的大致中央部被光掩模3的第2掩模圖案群17的第2遮光圖案22遮光的第2遮光部48的外側(cè)區(qū)域、以及在高度較低的柱狀間隔物形成部46b與光掩模3的第2掩模圖案群17的開口圖案23對(duì)應(yīng)的區(qū)域以規(guī)定深度被曝光。若彩色濾光器基板8進(jìn)一步被移動(dòng)從而傳送方向最前側(cè)的1組柱狀間隔物形成部46a、46b到達(dá)光掩模3的第3掩模圖案群18的下側(cè)，則如圖10 (b)所示，在1組柱狀間隔物形成部46a、46b中的高度較高的柱狀間隔物形成部46a的大致中央部被光掩模3的第3掩模圖案群18的第3遮光圖案M遮光且比上述第2遮光部48面積大的第3遮光部49的外側(cè)區(qū)域、以及在高度較低的柱狀間隔物形成部46b的大致中央部被第3掩模圖案群18的第 4遮光圖案25遮光的規(guī)定面積的第4遮光部50的外側(cè)區(qū)域被曝光。然后，若彩色濾光器基板8被移動(dòng)從而傳送方向最前側(cè)的1組柱狀間隔物形成部 46a、46b到達(dá)光掩模3的第4掩模圖案群19的下側(cè)，則如圖10(c)所示，在1組柱狀間隔物形成部46a、46b中的高度較高的柱狀間隔物形成部46a的大致中央部被光掩模3的第4掩模圖案群19的第5遮光圖案沈遮光且比上述第3遮光部49面積大的第5遮光部51的外側(cè)區(qū)域、以及在高度較低的柱狀間隔物形成部46b的大致中央部被第4掩模圖案群19的第 6遮光圖案27遮光且比上述第4遮光部50面積大的第6遮光部52的外側(cè)區(qū)域被曝光。此外，繼傳送方向最前側(cè)的1組柱狀間隔物形成部46之后的多組柱狀間隔物形成部46同樣在上述步驟S6 S8的執(zhí)行中依次被曝光。像這樣，每當(dāng)彩色濾光器基板8的像素9的邊緣部的檢測(cè)次數(shù)與目標(biāo)次數(shù)一致時(shí)反復(fù)進(jìn)行曝光，若彩色濾光器基板8到達(dá)曝光結(jié)束位置從而步驟S8判定為“是”，則進(jìn)入步驟S9。在步驟S9中，利用規(guī)定的顯影液來對(duì)彩色濾光器基板8的感光材料13進(jìn)行顯影。 由此，被曝光光L2曝光后的感光材料13洗提到顯影液中，留下與柱狀間隔物形成部46對(duì)應(yīng)的未曝光部的感光材料13，如圖11所示，形成頂部為大致半球面狀的高度不同的兩種柱狀間隔物53a、53b。另外，在上述實(shí)施方式中，對(duì)通過第1掩模圖案群16對(duì)柱狀間隔物形成部46的周邊區(qū)域進(jìn)行3次多重曝光，并通過第2 第4掩模圖案群17 19對(duì)柱狀間隔物形成部46 階段性地進(jìn)行3次多重曝光的情況進(jìn)行了說明，但本發(fā)明不限于此，柱狀間隔物形成部46 的階段性的多重曝光次數(shù)可以根據(jù)被微透鏡觀聚光的曝光光的照射能量和透過第1掩模圖案群16而照射的曝光光的照射能量的平衡來適當(dāng)決定。此外，在上述實(shí)施方式中，對(duì)透過微透鏡28來進(jìn)行柱狀間隔物形成部46的階段性的多重曝光的情況進(jìn)行了說明，但本發(fā)明不限于此，也可以沒有微透鏡觀。在此情況下，第 1 第4掩模圖案群16 19都設(shè)置于光掩模3的同一面，且相對(duì)于彩色濾光器基板8靠近對(duì)置地配置。并且，在上述實(shí)施方式中，對(duì)高度不同的兩種凸起狀圖案的形成進(jìn)行了說明，但本發(fā)明不限于此，也可以應(yīng)用于高度不同的3種以上的凸起狀圖案的形成。在此情況下，至少，對(duì)與基板上的多種凸起狀圖案形成部對(duì)應(yīng)地被光掩模遮光的第1遮光部的外側(cè)區(qū)域進(jìn)行了規(guī)定次數(shù)的多重曝光之后，對(duì)與上述多種凸起狀圖案形成部中的規(guī)定的凸起狀圖案形成部(高度最高的凸起狀圖案形成部)的大致中央部對(duì)應(yīng)地被光掩模遮光的規(guī)定面積的第 2遮光部的外側(cè)區(qū)域、以及上述規(guī)定的凸起狀圖案形成部以外的凸起狀圖案形成部進(jìn)行規(guī)定深度的曝光即可。并且，在以上的說明中，對(duì)基板為彩色濾光器基板8的情況進(jìn)行了說明，但本發(fā)明不限于此，只要為想要形成高度不同的多種凸起狀圖案的基板，則為怎樣的基板均可。符號(hào)說明1…傳送單元；
13
3…
7…
8…
13.
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46a
46b
47"
48..
49..
50"
51"
52"
53a
Li"
L2"
_說明書
光掩模； 控制單元； 彩色濾光器基板； …感光材料； …第1掩模圖案群 …第2掩模圖案群 …第3掩模圖案群 …第4掩模圖案群 …第1遮光圖案； …第2遮光圖案； …開口圖案； …第3遮光圖案 …第4遮光圖案 …第5遮光圖案 …第6遮光圖案 …微透鏡；
…第1石英基板(透明基板)； …第2石英基板(另一透明基板)； …遮光膜；
…柱狀間隔物形成部(凸起狀圖案形成部) 高度較高的柱狀間隔物形成部； 高度較低的柱狀間隔物形成部； 第1遮光部第2遮光部第3遮光部第4遮光部第5遮光部第6遮光部
5 …柱狀間隔物(凸起狀圖案) 光源光；
曙光光ο
權(quán)利要求
1.一種凸起狀圖案形成方法，對(duì)涂敷了正性的感光材料的基板經(jīng)由光掩模照射曝光光來對(duì)所述感光材料進(jìn)行曝光，從而在所述基板上形成高度不同的多種凸起狀圖案，所述凸起狀圖案形成方法的特征在于，在使所述基板以一定速度向一個(gè)方向通過所述光掩模的下側(cè)的同時(shí)，至少執(zhí)行如下步驟對(duì)與所述基板上的所述多種凸起狀圖案形成部對(duì)應(yīng)地由所述光掩模遮光的第1遮光部的外側(cè)區(qū)域進(jìn)行規(guī)定次數(shù)的多重曝光的步驟；對(duì)與所述多種凸起狀圖案形成部中規(guī)定的凸起狀圖案形成部的大致中央部對(duì)應(yīng)地由所述光掩模遮光的規(guī)定面積的第2遮光部的外側(cè)區(qū)域、和所述規(guī)定的凸起狀圖案形成部以外的凸起狀圖案形成部進(jìn)行規(guī)定深度的曝光的步驟；和對(duì)所述基板的感光材料進(jìn)行顯影處理的步驟。
2.一種曝光裝置，在將涂敷了正性的感光材料的基板以一定速度向一個(gè)方向傳送的同時(shí)，通過控制單元控制經(jīng)由光掩模而照射于所述基板的曝光光的照射定時(shí)，來對(duì)所述感光材料進(jìn)行曝光，從而在所述基板上曝光高度不同的多種凸起狀圖案，所述曝光裝置的特征在于，所述控制單元在所述基板通過所述光掩模的下側(cè)時(shí)，至少以如下方式來控制所述曝光光的照射定時(shí)對(duì)與所述基板上的所述多種凸起狀圖案形成部對(duì)應(yīng)地由所述光掩模遮光的第1遮光部的外側(cè)區(qū)域進(jìn)行規(guī)定次數(shù)的多重曝光，對(duì)與所述多種凸起狀圖案形成部中規(guī)定的凸起狀圖案形成部的大致中央部對(duì)應(yīng)地由所述光掩模遮光的規(guī)定面積的第2遮光部的外側(cè)區(qū)域、和所述規(guī)定的凸起狀圖案形成部以外的凸起狀圖案形成部進(jìn)行規(guī)定深度的曝光。
3.一種光掩模，其使用于在將涂敷了正性的感光材料的基板以一定速度向一個(gè)方向傳送的同時(shí)，控制照射于所述基板的曝光光的照射定時(shí)，來對(duì)所述感光材料進(jìn)行曝光，從而在所述基板上形成高度不同的多種凸起狀圖案的曝光裝置，所述光掩模的特征在于，至少以規(guī)定的間隔在透鏡基板上形成了如下圖案群第1掩模圖案群，其以與所述基板上的多種凸起狀圖案形成部對(duì)應(yīng)的間隔具有與所述凸起狀圖案的橫截面積大致相等的面積的第1遮光圖案；和第2掩模圖案群，其具有以與所述多種凸起狀圖案形成部對(duì)應(yīng)的間隔形成且與所述多種凸起狀圖案形成部中規(guī)定的凸起狀圖案形成部對(duì)應(yīng)的規(guī)定面積的第2遮光圖案、和與所述規(guī)定的凸起狀圖案形成部以外的凸起狀圖案形成部對(duì)應(yīng)的開口圖案。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光掩模，其特征在于，將所述第1掩模圖案群形成于所述透明基板的一面，將所述第2掩模圖案群形成于所述透明基板的另一面，并且在所述透明基板的一面?zhèn)?，在比形成了所述?掩模圖案群的面朝著所述透明基板的另一面?zhèn)群笸肆艘?guī)定距離的位置，分別對(duì)應(yīng)于所述第2掩模圖案群的所述第2遮光圖案和所述開口圖案而形成了微透鏡。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光掩模，其特征在于，對(duì)于在一面形成了所述第1掩模圖案群的透明基板、和在一面形成了所述第2掩模圖案群并在另一面形成了所述微透鏡的另一透明基板，將它們的另一方面彼此對(duì)接并接合。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光掩模，其特征在于，對(duì)于在一面形成了所述第1掩模圖案群的透明基板、和比該透明基板厚度薄且在一面形成了所述第2掩模圖案群并在另一面形成了所述微透鏡的另一透明基板，將它們的端面彼此對(duì)接并接合。
7.根據(jù)權(quán)利要求4 6中的任意一項(xiàng)所述的光掩模，其特征在于， 將所述微透鏡的周圍用遮光膜遮光。
全文摘要
本發(fā)明是對(duì)涂敷了正性的感光材料的基板進(jìn)行曝光的光掩模(3)，至少以規(guī)定的排列間距在透明基板上形成了如下掩模圖案群第1掩模圖案群(16)，其以與基板上的高度不同的兩種凸起狀圖案形成部對(duì)應(yīng)的間隔具有與凸起狀圖案的橫截面積大致相等的面積的第1遮光圖案(20)；和第2掩模圖案群(17)，其具有與兩種凸起狀圖案形成部中高度較高的凸起狀圖案形成部對(duì)應(yīng)的規(guī)定面積的第2遮光圖案(22)、和與高度較低的凸起狀圖案形成部對(duì)應(yīng)的開口圖案(23)。由此，能夠?qū)⒏叨炔煌亩喾N凸起狀圖案的頂部形成為大致半球面狀。
文檔編號(hào)G02F1/1335GK102246100SQ20098015039
公開日2011年11月16日 申請(qǐng)日期2009年11月5日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月16日
發(fā)明者橋本和重, 梶山康一, 水村通伸 申請(qǐng)人:株式會(huì)社V技術(shù)