專利名稱：用于形成微透鏡的圖案掩模、圖像傳感器及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的實施例涉及一種用于形成微透鏡的圖案掩模、圖像傳感器及其 制造方法。
背景技術(shù)：
圖像傳感器是將光學(xué)圖像轉(zhuǎn)換成電信號的半導(dǎo)體器件。現(xiàn)有技術(shù)中典型
的圖像傳感器包括電荷耦合器件以及CMOS圖像傳感器。 圖像傳感器可以利用下列工藝制造。
首先在半導(dǎo)體襯底上形成晶體管和電連接到該晶體管的光電二極管，以 及在所述晶體管及光電二極管上形成絕緣層結(jié)構(gòu)和布線層。然后在所述絕緣 層結(jié)構(gòu)上形成紅色、綠色和藍(lán)色的濾色鏡，并在該濾色鏡的上表面涂覆正性 光致抗蝕劑膜以形成平坦化層。其后，在該平坦化層上表面涂覆光致抗蝕劑 膜，并通過曝光工藝和顯影工藝對該光致抗蝕劑膜圖案化以形成微透鏡。
圖1是示出現(xiàn)有技術(shù)中用于對光致抗蝕劑膜圖案化以形成透鏡的圖案掩 模的平面圖。
參見圖1，現(xiàn)有技術(shù)中的圖案掩模1包括掩模體2和孔徑3。在本實施 例中，孔徑3形成在待形成微透鏡的位置。
圖2是示出使用圖1中的圖案掩模進行圖案化的微透鏡的平面圖。 參見圖2，當(dāng)通過應(yīng)用圖1中的圖案掩模1使光致抗蝕劑膜曝光和顯影 而形成微透鏡4時，由于各種原因而導(dǎo)致微透鏡4的角部變圓。當(dāng)微透鏡4 角部變圓時，如果微透鏡4以矩陣形式排列，則該四個微透鏡4角部之間的 空間具有較大間隙5，其中經(jīng)過間隙5入射到光電二極管的任何光會大大降 低圖像的質(zhì)量。
同樣，在圖2的實例中兩個相鄰的微透鏡4之間通常也可能形成間隙6。 此時，在微透鏡4之間形成的間隙6的寬度大約為100nm到200nm，其中經(jīng) 過間隙6的入射光也會降低圖像質(zhì)量。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實施例提供一種用于形成微透鏡的圖案掩模，該圖案掩模通過 降低微透鏡之間的間隙來改善圖像質(zhì)量。
本發(fā)明其他的實施例提供一種應(yīng)用所述用于形成微透鏡的圖案掩模制 造的圖像傳感器及其制造方法。
根據(jù)本發(fā)明實施例的用于形成微透鏡的圖案掩模，包括掩模圖案部， 其對應(yīng)于矩陣形式的像素區(qū)域交錯排列，其中，所述掩模圖案部的相鄰角相 互重疊。
根據(jù)實施例的圖像傳感器包括光電二極管結(jié)構(gòu)，其位于半導(dǎo)體襯底上； 濾色鏡，其以矩陣形式位于所述光電二極管結(jié)構(gòu)上；以及多個第一微透鏡和
多個第二微透鏡，其交替排列在所述濾色鏡上，其中所述第一微透鏡的相鄰 角相互連接，并且所述第二微透鏡與所述第一微透鏡的邊緣重疊。在一個實 例中，第二微透鏡的相鄰的角也相互連接。
根據(jù)本發(fā)明的實施例的制造圖像傳感器的方法包括以下步驟在半導(dǎo)體 襯底上形成光電二極管；在所述光電二極管結(jié)構(gòu)上或上方形成濾色鏡；在一 些濾色鏡上或上方形成第一微透鏡，所述第一微透鏡具有相互連接的角部； 以及在沒有形成第一微透鏡的其余濾色鏡上或上方形成第二微透鏡，所述第 二微透鏡與所述第一微透鏡的邊緣重疊。在一個實例中，第二微透鏡也具有 相互連接的、相鄰的角部。
圖1是示出現(xiàn)有技術(shù)中用于圖案化光致抗蝕劑膜以形成微透鏡的圖案掩 模的平面圖2是示出應(yīng)用圖1的圖案掩模圖案化的微透鏡的平面圖3是示出根據(jù)一個實施例的用于形成微透鏡的圖案掩模的平面圖4是示出根據(jù)另一實施例的圖案掩模的平面圖5是示出根據(jù)一個實施例的圖像傳感器的截面圖6A至圖6B是示出圖5中示意性微透鏡的平面圖；以及
圖7至圖15是示出根據(jù)一個實施例的圖像傳感器的制造方法的截面圖和平面圖。
具體實施例方式
以下，將參照附圖詳細(xì)描述根據(jù)本發(fā)明實施例的用于形成微透鏡的圖案 掩模、圖像傳感器以及制造圖像傳感器的方法。
圖3為示出根據(jù)本發(fā)明實施例的用于形成微透鏡的圖案掩模的平面圖。 參見圖3，用于形成微透鏡的圖案掩模100包括掩模圖案部分110和 115，它們與以矩陣形式排列的像素區(qū)域A、 B、 C和D對齊。盡管在平面圖 中并未示出每一像素區(qū)域A、 B、 C和D，但是它們均具有四邊形(例如， 正方形或長方形)。因此，所提出的圖像傳感器的像素區(qū)域(因此，所述濾 色鏡和/或微透鏡)可以以四邊形的XY矩陣的方式排列，這里X指多個行， Y指多個列。在不同的實施例中，X和Y分別是至少為2、 3、 5、 8、 16或 更多的整數(shù)。
本發(fā)明的實施例中，該掩模圖案部分110和115交錯形成在像素區(qū)域A 和D中。換句話說，掩模圖案部分110和115形成在沿著像素區(qū)域A、 B、 C和D的側(cè)邊或邊界不相互鄰接的像素區(qū)域中。更確切地，在圖3中，像素 區(qū)域A和D中的掩模圖案部分110和115沿著對角線方向(例如，在相鄰 的角)相互鄰接。
在本發(fā)明的不同的實施例中，掩模圖案部分110和115通過重疊相鄰的 (例如，鄰接的)角在區(qū)域117中重疊。在本發(fā)明的某些實施例中，掩模圖 案部分110和115的角(或者沿著四邊形的邊界、或者沿著四邊形中心之間 的對角線軸)相互重疊大約100nm到200nm。
同時，在本發(fā)明的實施例中，根據(jù)所用的光致抗蝕劑層的種類或類型， 掩模圖案部分110和115可以是透射光的光透射部件或阻擋光的光阻擋部 件。
圖4是示出根據(jù)示例性實施例的第二圖案掩模的平面圖。 參見圖4，用于形成微透鏡的圖案掩模100可包括掩模圖案部120和 125，它們與以矩陣形式排列的像素區(qū)域B和C對齊。在本發(fā)明的各實施例 中，盡管并未示出每一像素區(qū)域A、 B、 C和D，但在通過平面圖觀察時， 它們都具有四邊形
在本發(fā)明的實施例中，掩模圖案部120和125交錯形成在像素區(qū)域B和 C中。換句話說，掩模圖案120和125形成在沿著像素區(qū)域A、 B、 C和D 的側(cè)邊或線性邊界上不相互鄰接的像素區(qū)域中。更確切地，在圖4中，掩模 圖案120和125形成在沿著對角線方向(例如，在鄰近的角)相互鄰接的像 素區(qū)域B和C內(nèi)。
因此，在本發(fā)明的實施例中，掩模圖案部120和125可以在通過它們相 鄰的(例如，鄰接的)角的重疊的區(qū)域127中重疊。在本發(fā)明的某些實施例 中，該掩模圖案部120和125的角沿著四邊形的邊界或沿著四邊形中心之間 的對角線軸相互重疊大約100nm到200nm。
同時，在本發(fā)明的實施例中，根據(jù)所用的光致抗蝕劑的種類或類型，掩 模圖案部120和125可以是透射光的光透射部件或阻擋光的光阻擋部件。在 另一實施例中，掩模圖案部120和125可以在不同的掩模上(例如當(dāng)掩模圖 案部120對應(yīng)于一個濾色鏡[例如藍(lán)色濾色鏡]時，它在第二掩模上，而掩模 圖案部125則對應(yīng)于不同的濾色鏡[例如紅色濾色鏡]，并且在第三掩模上)。
在本發(fā)明的實施例中，應(yīng)用圖3或圖4中示出的圖案掩模100能夠在所 有的像素區(qū)域A、 B、 C和D設(shè)置微透鏡。
圖5是示出根據(jù)本發(fā)明實施例的圖像傳感器的截面圖。圖6是示出圖5 中的微透鏡的平面圖。
參見圖5，示例性的圖像傳感器200在半導(dǎo)體襯底210上可以包括光電 二極管結(jié)構(gòu)250、濾色鏡300以及微透鏡400。光電二極管結(jié)構(gòu)250包括單 位像素220和絕緣層結(jié)構(gòu)230。多個單位像素220形成在半導(dǎo)體襯底上。圖 5示意性地示出了兩個像素220。每個單位像素220包括光電二極管(PD) 和晶體管結(jié)構(gòu)(TS)。在本發(fā)明的各實施例中，晶體管結(jié)構(gòu)(TS)包括三到 五個晶體管，其中該晶體管結(jié)構(gòu)(TS)執(zhí)行用以輸出從光電二極管(PD) 中的電子產(chǎn)生的圖像信號的功能，該圖像信號是由入射到該光電二極管(PD) 上的光而形成。
絕緣層結(jié)構(gòu)230覆蓋半導(dǎo)體襯底210上的單位像素220。絕緣層結(jié)構(gòu)230 中可設(shè)置用于驅(qū)動單位像素220中的信號的布線結(jié)構(gòu)240。在優(yōu)選實施例中， 布線結(jié)構(gòu)240也提供光阻擋功能，用以降低穿過對于一個像素的微透鏡(例 如，微透鏡420)的光不能到達(dá)相鄰像素的光電二極管(例如標(biāo)記為"PD"
的光電二極管)的可能性。
濾色鏡層300通常包括多個不同顏色的濾色鏡(例如紅色濾色鏡(R)、 綠色濾色鏡(G)和藍(lán)色濾色鏡(B))。典型地，濾色鏡層300中的每個濾 色鏡形成在與圖5中示出的每個像素220對應(yīng)的位置。
參考圖6A-6B，每一綠色濾色鏡(G)、紅色濾色鏡(R)和藍(lán)色濾色 鏡(B)以矩陣形式排列在絕緣層結(jié)構(gòu)230上。例如，綠色濾色鏡(G)交錯 排列在絕緣層結(jié)構(gòu)230上，以使其在沿著矩陣的行或列不相互鄰接。
特別地，綠色濾色鏡(G)設(shè)置在對角線方向。紅色濾色鏡(R)和藍(lán) 色濾色鏡(B)設(shè)置為與綠色濾色鏡(G)鄰接，并且紅色濾色鏡(R)和藍(lán) 色濾色鏡(B)沿著對角線方向排列。
參見圖5和圖6A-6B，在濾色鏡層300上形成微透鏡400。微透鏡400 包括第一微透鏡410和415和第二微透鏡420和425。
在本發(fā)明的實施例中，第一微透鏡410和415例如在綠色濾色鏡(G) 上。在一個實施例中，綠色濾色鏡(G)可在濾色鏡層300的濾色鏡中以一 個或多個對角線方向排列。另外，第二微透鏡420和425分別在紅色濾色鏡 (R)和藍(lán)色濾色鏡(B)上。在另一個實施例中，紅色濾色鏡(R)和藍(lán)色 濾色鏡(B)也可以在濾色鏡層300的濾色鏡中以對角線方向排列。
在本發(fā)明的實施例中，綠色濾色鏡(G)上的第一微透鏡410和415的 角相互連接。以對角線方向排列在藍(lán)色濾色鏡(B)和紅色濾色鏡(R)上的 第二微透鏡420和425的角也可以相互連接，如圖6A中所示。
同時，如圖5中所示，第二微透鏡420和425的邊緣部分(優(yōu)選為每一 側(cè)邊或邊界的一部分)與第一微透鏡410和415重疊，以使得在第一微透鏡 410和415與第二微透鏡420和425之間不存在間隙。
現(xiàn)在參看圖6B，在藍(lán)色濾色鏡(B)上的微透鏡425的角和在紅色濾色 鏡(R)上的濾色鏡420的角不需要一定以對角線方向相互連接。只要第二 微透鏡420和425的邊緣、側(cè)邊或邊界與第一微透鏡410和415的邊緣、側(cè) 邊或邊界重疊，則在微透鏡之間能夠有效地形成零間隙。
在本發(fā)明的實施例中，第一微透鏡410和415具有第一厚度，并且第二 微透鏡420和425具有不同于(例如，小于)第一厚度的第二厚度。在各實 施例中，第一微透鏡410和415的厚度可以從大約1.0 //m到大約2.0 Am，而
第二微透鏡420和425的厚度可以從大約0.7 ，到大約1.6 Am。在其他的實 施例中，第一微透鏡410和415的第一厚度比第二微透鏡420和425的第二 厚度大從大約0.36 Am到大約0.44//m左右。在一個實施方式中，第一微透鏡
410和415的厚度大約為1.7 ，，而第二微透鏡420和425的厚度大約為1.3 //m。
圖7到圖15是示出根據(jù)本發(fā)明實施例的制造圖像傳感器方法的截面圖 和平面圖。
參見圖7，在半導(dǎo)體襯底210上形成光電二極管結(jié)構(gòu)250。為了形成光 電二極管結(jié)構(gòu)250，在半導(dǎo)體襯底210上形成包括三至五個晶體管的晶體管 結(jié)構(gòu)(TS)和光電二極管(PD)。
在半導(dǎo)體襯底210上形成像素220之后，在該半導(dǎo)體襯底210上形成絕 緣層結(jié)構(gòu)230。該絕緣結(jié)構(gòu)230執(zhí)行用以覆蓋和使像素220絕緣的功能。在 形成絕緣層結(jié)構(gòu)230期間，可在絕緣層結(jié)構(gòu)230中或其上形成用于驅(qū)動單位 像素220中的信號的布線結(jié)構(gòu)(在圖5中為240，但在圖7-圖13中未示出)。
參見圖8，在形成光電二極管結(jié)構(gòu)250之后，在絕緣層結(jié)構(gòu)230上形成 濾色鏡300。每一濾色鏡300形成在與相應(yīng)像素220中的光電二極管(PD) 對應(yīng)的位置。濾色鏡層300可包含紅色濾色鏡(R)、藍(lán)色濾色鏡(B)以及 綠色濾色鏡(G)?？蛇x擇地，濾色鏡層300可包含黃色濾色鏡、青色濾色 鏡和品紅濾色鏡(所謂的"YCM"系統(tǒng))。
為了形成濾色鏡300，在某些單位像素220上以矩陣方式形成綠色濾色 鏡(G),從而使得綠色濾色鏡(G)不直接相互鄰接。在形成綠色濾色鏡 (G)之后，以矩陣方式在每一其它像素220間交錯形成紅色濾色鏡(R)和 藍(lán)色濾色鏡(B)，從而使得它們不相互鄰近。換言之，紅色濾色鏡(R)和 藍(lán)色濾色鏡(B)交錯排列，紅色濾色鏡(R)和藍(lán)色濾色鏡(B)也可以以 對角線方向排列，以及紅色濾色鏡(R)和藍(lán)色濾色鏡(B)以鄰接綠色濾色 鏡(G)的方式排列。
其后，在濾色鏡300上方形成光致抗蝕劑層405，并且如圖3所示，在 光致抗蝕劑層405上或上方設(shè)置的以及具有彼此的角相互連接的第一掩模圖 案部110和115的第一圖案掩模IOO與像素矩陣(或陣列)中的相應(yīng)單位像 素上方的綠色濾色鏡(G)的位置對齊。 其后，依靠通過第一圖案掩模100的第一掩模圖案部110和115提供的 光使光致抗蝕劑層405曝光和顯影，以在濾色鏡300上形成第一微透鏡前驅(qū)
(precursor)物(未示出)。依靠熱能(例如加熱到低于250°C的溫度，優(yōu) 選為從大約150。C到大約200。C)使第一微透鏡前驅(qū)物回流，以在綠色濾色 鏡(G)上形成第一微透鏡410，如圖9所示。第一微透鏡410覆蓋綠色濾 色鏡(G)，并具有綠色濾色鏡(G)的角相連的形狀，如圖IOA所示。圖 10B示出用于以濾色鏡/單位像素矩陣在綠色濾色鏡(G)上方形成微透鏡410 的掩模圖案410'的放大圖。
參見圖ll，在濾色鏡300和第一微透鏡410上或上方形成光致抗蝕劑層 415。如圖4所示，根據(jù)存在于第二圖案掩模100上的一個或多個掩模圖案 部，排列在光致抗蝕劑層405上或上方的并具有第二掩模圖案部120和125 中的至少其一的第二圖案掩模100與對應(yīng)于紅色濾色鏡(R)和/或藍(lán)色濾色 鏡(B)的矩陣(或陣列)中的單位像素上方的位置對齊。
其后，依靠通過第二圖案掩模100的第二掩模圖案部120和/或125提 供的光使光致抗蝕劑層415曝光和顯影，以在紅色和/或藍(lán)色濾色鏡上形成第 二微透鏡前驅(qū)物(未示出)，并依靠熱能(例如，加熱)使第二微透鏡前驅(qū) 物回流，以在紅色濾色鏡(R)和/或藍(lán)色濾色鏡(B)上形成第二微透鏡410， 如圖12所示。當(dāng)然，如果微透鏡420只形成在紅色濾色鏡(R;參見圖12A 中對應(yīng)的掩模圖案)或藍(lán)色濾色鏡(B;參見圖12B中對應(yīng)的掩模圖案)上 方，則可應(yīng)用具有在第二掩模圖案中所不具有的第二掩模部的第三掩模圖 案。同樣，如圖13A-B所示，第二和/或第三掩模圖案部(圖13A中的B， 圖13B中的R)的面積可稍小于第一掩模圖案部件(例如，圖3中的110或 115)的對應(yīng)面積，使得在紅色濾色鏡(R)上方的微透鏡420的鄰近的角沒 必要接觸位于藍(lán)色濾色鏡(B)上方的微透鏡420，但在紅色濾色鏡(R)和 藍(lán)色濾色鏡(B)上方的微透鏡420的邊緣、側(cè)邊和/或邊界與在綠色濾色鏡
(G)上方的微透鏡410的邊緣、側(cè)邊和/或邊界重疊。
在另外的選擇中，可應(yīng)用第一掩模圖案形成紅色或者藍(lán)色濾色鏡，以及 可應(yīng)用第二 (當(dāng)已使用第二掩模圖案時，可應(yīng)用第三)掩模圖案形成其余的 顏色過濾器。在再一另外的方案中，第二 (當(dāng)己使用第二掩模圖案時，可應(yīng) 用第三)掩模圖案可包含沿著矩陣的一行和/或列的交錯定位的掩模圖案部，并且當(dāng)應(yīng)用第二和第三掩模圖案時，對應(yīng)的掩模圖案部可以在交錯的行和/ 或列中。
本圖14中的實施例中，第二微透鏡420覆蓋紅色濾色鏡(R)和/或藍(lán) 色濾色鏡(B)，并且具有如圖15中所示相互的角彼此連接的形狀，和/或 如圖14所示其邊緣與第一微透鏡410的邊緣重疊的形狀。此外，第一微透 鏡410可具有第一厚度，并且第二微透鏡420可具有不同于第一厚度的第二 厚度。
根據(jù)如上描述，微透鏡之間的間隙被完全消除，從而改善從圖像傳感器 中產(chǎn)生的圖像質(zhì)量。
在本說明書中提及的"一個實施例"、"實施例"、"示例性實施例" 等等指的是在結(jié)合本發(fā)明實施例描述的特定特征、結(jié)構(gòu)或特性包括在本發(fā)明 的至少一個實施例中。本說明書中的不同位置出現(xiàn)的此類短語并非必須都是 指同樣的實施例。此外，當(dāng)結(jié)合任一實施例描述特定特征、結(jié)構(gòu)或特性時， 可以認(rèn)為其包涵在本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠結(jié)合本發(fā)明其它實施例而實現(xiàn)該特 征、結(jié)構(gòu)或特性的范圍內(nèi)。
雖然參照了本發(fā)明的多個示意性實施例描述了本發(fā)明，但應(yīng)當(dāng)理解的 是，本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠設(shè)計出的許多其他的修改和實施方式也將落入本公 開內(nèi)容的原理的精神和范圍內(nèi)。特別地，在本發(fā)明公開內(nèi)容范圍內(nèi)可以對于 組成部件和/或主要組合配置的結(jié)構(gòu)進行各種變更和修改。除組成部件和/或 主要組合配置的結(jié)構(gòu)的變更和修改之外，其可替代物的應(yīng)用對于本領(lǐng)域技術(shù) 人員也是顯而易見的。
權(quán)利要求
1、一種用于形成微透鏡的圖案掩模，包括掩模圖案部，其對應(yīng)于矩陣形式的像素區(qū)域交錯排列，其中，所述掩模圖案部的相鄰角相互重疊。
2、 如權(quán)利要求1所述的圖案掩模，其中所述掩模圖案的角重疊大約 100nm到大約200nm。
3、 如權(quán)利要求1所述的圖案掩模，其中所述掩模圖案部是透射光的光 透射部件。
4、 如權(quán)利要求1所述的圖案掩模，其中所述掩模圖案部是阻擋光的光 阻擋部件。
5、 一種用于形成微透鏡陣列的掩模組，包括如權(quán)利要求1所述的掩模圖案，其中掩模圖案部對應(yīng)于多個第一濾色鏡;以及第二掩模，其具有與多個第二濾色鏡對應(yīng)的交錯排列的部分。
6、 如權(quán)利要求5所述的掩模組，還包括第三掩模，其具有與多個第三 濾色鏡對應(yīng)的交錯排列的部分。
7、 一種圖像傳感器，包括-光電二極管結(jié)構(gòu)，其位于半導(dǎo)體襯底上；濾色鏡，其以矩陣形式位于所述光電二極管結(jié)構(gòu)上；以及 多個第一微透鏡和多個第二微透鏡，其交替排列在所述濾色鏡上，其中所述第一微透鏡的相鄰角相互連接，并且所述第二微透鏡與所述第一微透鏡的邊緣重疊。
8、 如權(quán)利要求7所述的圖像傳感器，其中所述第二微透鏡的相鄰角相 互連接。
9、 如權(quán)利要求7所述的圖像傳感器，其中所述第一微透鏡具有第一厚 度，并且所述第二微透鏡具有第二厚度。
10、 如權(quán)利要求9所述的圖像傳感器，其中所述第一微透鏡的第一厚度 大于所述第二微透鏡的第二厚度大約0.36 um到大約0.44 um。
11、 如權(quán)利要求7所述的圖像傳感器，其中所述濾色鏡包括紅色濾色鏡，其透射具有紅光波長的光；綠色濾色鏡，其透射具有綠光波長的光；以 及藍(lán)色濾色鏡，其透射具有藍(lán)光波長的光。
12、 如權(quán)利要求ll所述的圖像傳感器，其中所述綠色濾色鏡交錯排列， 所述第一微透鏡對應(yīng)于所述綠色濾色鏡，并且所述第二微透鏡對應(yīng)于所述紅 色和藍(lán)色濾色鏡的至少其中之一。
13、 如權(quán)利要求12所述的圖像傳感器，其中所述第二微透鏡對應(yīng)于所 述紅色和藍(lán)色濾色鏡的其中之一，并且該圖像傳感器還包括第三微透鏡，其 對應(yīng)于所述紅色和藍(lán)色濾色鏡中的另一個。
14、 一種制造圖像傳感器的方法，包括以下步驟-在半導(dǎo)體襯底上形成光電二極管結(jié)構(gòu)； 在所述光電二極管結(jié)構(gòu)上形成濾色鏡；在所述濾色鏡上或上方形成第一微透鏡，所述第一微透鏡具有相互連接 的角部；以及在未被所述第一微透鏡覆蓋的濾色鏡上或上方形成第二微透鏡，所述第 二微透鏡與所述第一微透鏡的邊緣重疊。
15、 如權(quán)利要求14所述的方法，其中所述濾色鏡包括綠色濾色鏡， 其在矩陣的對角線方向上排列，并且沿著矩陣的行或列不相互鄰接；以及紅 色濾色鏡和藍(lán)色濾色鏡，其在矩陣的對角線方向上交替排列，并且沿著矩陣 的行或列不相互鄰接。
16、 如權(quán)利要求15所述的方法，其中所述形成第一微透鏡的步驟包括 在所述濾色鏡上形成第一光致抗蝕劑層；在該第一光致抗蝕劑層上或上方排列第一掩模，其具有交錯排列的掩模 圖案部，且所述掩模圖案部的角重疊；應(yīng)用該第一掩模使該第一光致抗蝕劑層曝光，并使曝光的第一光致抗蝕 劑層顯影，以形成第一微透鏡前驅(qū)物；以及利用熱能回流所述第 一微透鏡前驅(qū)物。
17、 如權(quán)利要求16所述的方法，其中所述第一微透鏡對應(yīng)于綠色濾色鏡。
18、 如權(quán)利要求16所述的方法，其中形成所述第二微透鏡的步驟包括 在所述濾色鏡上形成第二光致抗蝕劑層；在該第二光致抗蝕劑層上或上方排列第二掩模，所述第二掩模具有與未 被所述第 一微透鏡覆蓋的至少 一個濾色鏡對應(yīng)的掩模圖案部；應(yīng)用所述第二掩模對該第二光致抗蝕劑層曝光和顯影，以形成第二微透 鏡前驅(qū)物；以及利用熱能回流所述第二微透鏡前驅(qū)物。
19、如權(quán)利要求14所述的方法，其中所述第一微透鏡具有第一厚度， 并且所述第二微透鏡具有小于所述第一厚度的第二厚度。
全文摘要
本發(fā)明提供一種用于形成微透鏡的圖案掩模、圖像傳感器及其制造方法。其中用于形成微透鏡的圖案掩模包括掩模圖案部，其對應(yīng)于矩陣形式的像素區(qū)域交錯排列，其中所述掩模圖案部的相鄰角相互重疊。
文檔編號G03F1/14GK101201539SQ20071019899
公開日2008年6月18日 申請日期2007年12月11日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月11日
發(fā)明者全承鎬 申請人:東部高科股份有限公司