專利名稱：：顯影劑保持元件、顯影設(shè)備、處理盒、成像裝置、制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種顯影劑保持元件、顯影設(shè)備、處理盒和成^象裝置，它們用于例如復(fù)印機、傳真機、打印機等之中。更準(zhǔn)確地，本發(fā)明涉及一種顯影劑保持元件和顯影i殳置，其通過^f呆持在顯影劑保持元件中的顯影劑傳送到顯影區(qū)域上，然后通過顯影在靜電潛像保持元件上的靜電潛像來形成調(diào)色劑圖像，其中顯影區(qū)^A靜電潛像保持元件和顯影劑保持元件相互面對并在其中形成間隙之處，并且還涉及包括該顯影設(shè)備的處理盒和成像裝置。而且，本發(fā)明涉及一種制造構(gòu)成顯影劑保持元件外表面的中空體的方法。
背景技術(shù)：
：通過使用包括調(diào)色劑和磁性載體的一種所謂的兩組分顯影劑(以后筒稱為顯影劑)來形成圖像的多種顯影設(shè)備，用于成像裝置如復(fù)印機、傳真機和打印才幾中(見曰本專利申請未審公開的公開號No.2000-347506)。這種顯影設(shè)備包括用作顯影劑保持元件的顯影輥，通過將顯影劑傳送到與作為靜電潛像保持元件的感光鼓面對的顯影區(qū)域，并且然后通過用顯影劑，對形成在感光鼓上的靜電^^ii行顯影，來形成調(diào)色劑圖像。該顯影輥包括顯影套筒和裝在該顯影套筒中的》茲輥。顯影套筒由非^茲性材料以圓筒形狀來形成?！菲澼佇纬伞菲潏觯瑸榱耸癸@影劑在顯影套筒的表面上形成^茲刷。當(dāng)顯影劑在顯影輥上形成/茲刷時，^茲性載體在顯影套筒上形成鏈條，沿著磁輥產(chǎn)生的磁力線，并且調(diào)色劑顆粒粘附到磁性載體鏈條上。作為改進(jìn)這種類型的顯影輥的精確度和耐久性的方法，日本專利申請未審公開的公告號No.Hei8-160736提出了一種顯影套筒的結(jié)構(gòu)，該顯影套筒包括大量^的^￡,每個^都有多角形的形狀，并JL^^的^^^卜的部分內(nèi)包括細(xì)小的凸凹，并且提出了一種通#顯影套筒上形成導(dǎo)電的樹脂;11莫、金屬處理層和類似物來獲得凹凸的方法。但是在JP-ANo.Hei8-160736中描述的結(jié)構(gòu)具有一些問題，如當(dāng)顯影軟遽續(xù)使用時，通過包^^在顯影劑中的調(diào)色劑粘附到細(xì)小的凸凹區(qū)域而導(dǎo)致的顯影性能的降低的缺陷，和對于這種結(jié)構(gòu)的顯影輥的制造過程復(fù)雜的缺陷。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是在考慮上述背景而進(jìn)行的，并且其目的是提供這樣一種顯影劑保持元件，其能夠在長時期形成高質(zhì)量的圖像，不會發(fā)生由于顯影性能下降導(dǎo)致的密度不均勻，并且提供一種制造構(gòu)成顯影劑保持元件的外表面的中空體的方法。而且，本發(fā)明的目的是提供一種包括這種顯影劑保持元件的顯影設(shè)備、處理盒和成像裝置。本發(fā)明的第一方面涉及一種包括磁場產(chǎn)生設(shè)備的顯影劑保持元件、和在其內(nèi)部包括磁場產(chǎn)生設(shè)備的中空體、以A^f茲場產(chǎn)生設(shè)備的磁力的作用下，將顯影劑吸引到其外表面。中空體的外表面隨才;uM^是供了大量凹陷。而且，當(dāng)通過^J]外表面的圓周方向輪廓曲線才y^亍頻率分析計算出頻譜時，在不超過i毫米的波長范圍內(nèi)，頻"i普的Jf^直強度不超過12。優(yōu)選地，在不超過l毫米的波長范圍內(nèi)，頻譜的峰值強度不超過10。有利地，通過線形顆粒與中空體的夕卜表面的隨才;u並撞，形成大量凹陷。本發(fā)明的第二方面涉及一種包括根據(jù)本發(fā)明的顯影劑保持元件的顯影設(shè)備。優(yōu)艦，顯影劑包括結(jié)晶粒度在20Mm到50pm(含)范圍內(nèi)的磁l"生顆粒。有利地，磁f生顆粒具有包括樹脂劍莫的結(jié)構(gòu)，該樹脂;M;t^著由磁性材料制成的核心元件。另外，樹脂覆膜包括充電控制劑和通過由三聚氰胺和諸如丙烯的熱塑性樹脂的交i^jy尋樹脂成分。本發(fā)明的第三方面涉及包括依據(jù)本發(fā)明的顯影設(shè)備的處理盒。本發(fā)明的第四方面涉及一種包括依據(jù)本發(fā)明的處理盒的成像裝置。本發(fā)明的第五方面涉及一種制造中空體的方法，用于制造在其外表面隨才;u也提供了大量凹陷的中空體。該方法包括下列步驟在中空體的夕卜表面提供大量凹陷；在旋轉(zhuǎn)中空體的同時獲得外表面在圓周方向的輪廓曲線；依據(jù)所得到的輪廓曲線，進(jìn)行頻率分析；通過比較頻率分析結(jié)果和預(yù)定判斷標(biāo)準(zhǔn)來判斷中空體的質(zhì)量。圖1另_表示當(dāng)乂人前面看時，依據(jù)本發(fā)明的一個實施例的成像裝置的結(jié)構(gòu)的示意圖；圖2是圖1所示的成像裝置的顯影設(shè)備的截面圖；圖3是圖2中沿m-m線的截面圖；圖4是圖1中所示的成像裝置的顯影套筒的透視圖；圖5是用于圖2所示的顯影設(shè)備的顯影劑中的磁性載體的截面圖；圖6是表示圖4所示的顯影套筒的磁化夕卜表面的示意圖；圖7是表示圖6所示的顯影套筒的夕卜表面的簡要示意圖；圖8是表示在圖4所示的顯影套筒外表面上#^抖站造處理的表面處理裝置的簡要結(jié)構(gòu)透視圖；圖9是沿圖8中n-n線的截面圖；圖10^]于圖8中的表面處理裝置的磁性研磨劑顆粒的透視圖；圖11是沿圖10中XI-XI線的截面圖；圖12是表示圖8中所示的表面處理裝置的顯影套筒的示意圖，并且每個磁性研磨顆粒繞著顯影套筒旋轉(zhuǎn)并JJ克其自身的軸線旋轉(zhuǎn)；圖13是表示其中圖12中所示的磁1"生研磨顆^^並撞顯影套筒外表面的狀態(tài)的示意圖；圖14是表示顯影套筒在圓周方向的輪廓曲線的例子的示意圖；圖15另_表示通過在圖14中所示的輪廓曲線上進(jìn)行快速傅利葉變化(FFT)而獲得的波長頻i普示例的示意圖；圖16，釋FFT頻譜的峰值強度和顯影套筒的外表面的拾取量中的變化率之間的每個關(guān)系的示意圖，通過比較分別通過圖8中的表面處理裝置進(jìn)行4站狄理的粗糙的顯影套筒和通過噴沙和噴^Mi行^^造處理的粗糙的顯影套筒。具體實施方式下面，將通過參考圖1到16來描ii^發(fā)明的一個實施例。圖1是表示依據(jù)本發(fā)明實施例的成像裝置從前面看時的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是圖1所示的成4象裝置的^l據(jù)本發(fā)明實施例的顯影i殳備的截面圖。圖3是圖2中沿ffl-m線的截面圖。圖4是圖3中所示的成像裝置的作為顯影支持元件的顯影套筒的透視圖。圖5是用于圖2所示的顯影設(shè)備的顯影劑中的磁性載體的截面圖。圖6是表示磁化的圖4所示的顯影套筒的外表面的示意圖。圖7是表示圖6所示的顯影套筒的外表面的簡要示意圖。圖8是表示在圖4所示的顯影套筒上^^亍*04造處理的表面處理裝置的簡要結(jié)構(gòu)透視圖。圖9是沿圖8中n-n線的截面圖。圖io是用于圖8中的表面處理裝置的磁1"生研磨劑顆粒的透視圖。圖11是沿圖io中xi-xi線的截面圖。圖12是表示圖8中所示的表面處理裝置的顯影套筒的示意圖，并且每個磁性研磨顆粒繞著顯影套筒旋轉(zhuǎn)并且繞其自身的軸線旋轉(zhuǎn)。圖13是表示其中圖12中所示的磁性研磨顆粒碰撞顯影套筒外表面的狀態(tài)的示意圖。圖14是表示顯影套筒在圓周方向的輪廓曲線的例子的示意圖。圖15是表示通it^圖14中所示的輪廓曲線上進(jìn)行快速傅利葉變化(FFT)而獲得的波長頻譜示例的示意圖。圖16萌釋FFT頻譜的峰值強度和顯影套筒的夕卜表面的拾取量中的變化率之間的相互關(guān)系的圖，通過比較分別通過圖8中的表面處理裝置進(jìn)行4封造處理的粗糙的顯影套筒和通過噴沙和噴^Mi行4封造處理的粗糙的顯影套筒。成像裝置101分別形成黃(Y)、品紅(M)、青(C)、黑(K)顏色的圖像，即，彩色圖像形M作為轉(zhuǎn)印材料的記彰氏張107(圖1中示出)上。注意到下面^黃、品紅、青、黑顏色單元分別用徵JiY、M、C和K的附圖標(biāo)記來描述。如圖1所示，成像裝置101包括至少一個裝置主體102、彭氏單元103、對齊專Fdt110、轉(zhuǎn)印單元104、定影單元105、多個激光寫入單元122Y、1WM、122C和122K以及多個處理盒106Y、106M、106C和106K。該裝置主體102形成為類似于箱體的形狀，例如，并且安^^W反或類似物上，在裝置主體102中，封裝入iii氏單元103、對齊專敘于IIO、轉(zhuǎn)印單元104、定影單元105、多個^Ut寫入單元122Y、U2M、IMC和1MK以及多個處理盒106Y、106M、106C和106K。多個必氏單元103提供在裝置主體部分102的下部。必氏單元103容納堆疊的記彰氏張107,并且包4自氏盒123和iti氏輥124，彩氏盒可以自由地/A^置主體102中放入和抽出。靡氏輥124壓在必氏盒123中的記影氏107的最上頁上。對于每個相對應(yīng)的處理盒106Y、106M、106C和106K,膨氏輥124將記錄紙張107的最上頁進(jìn)給到轉(zhuǎn)印單元104的將在后面進(jìn)行描述的傳輸帶129和將在后面進(jìn)行描述的顯影設(shè)備113的感光鼓108之間的空間。對齊輥對110提供在記影氏107從iii氏單元103傳輸?shù)睫D(zhuǎn)印單元104的傳輸路徑中，并且包括一對輥110a和110b，對齊輥對110將記彰氏107夾在一對輥110a和110b之間，并iL^允許調(diào)色劑圖像完全相互覆蓋的時刻將夾著的記影氏107進(jìn)給到轉(zhuǎn)印單元104和處理盒106Y、106M、106C和106K之間的空間。轉(zhuǎn)印單元104提供在iii氏單元103之上。轉(zhuǎn)印單元104包括驅(qū)動輥127、從動輥128、傳輸帶129和轉(zhuǎn)印輥130Y、130M、130C和130K。驅(qū)動輥127設(shè)置在記彰氏107的傳送方向的下游側(cè)，并JLit過作為驅(qū)動源的馬達(dá)驅(qū)動來旋轉(zhuǎn)。從動輥128通it^:置主體102可旋轉(zhuǎn)地支持，并且i殳置在記影氏107的傳輸方向的上游側(cè)。傳輸帶129形成為沒有末端的環(huán)形，并且懸掛在上面描述的驅(qū)動輥127和從動輥128上。當(dāng)驅(qū)動輥127被驅(qū)動來旋轉(zhuǎn)時，傳輸帶129繞著驅(qū)動輥127和從動輥128在圖1中的逆時針方向旋轉(zhuǎn)(無縫運轉(zhuǎn))。傳輸帶129和在傳輸帶129上傳輸?shù)挠涗浖?07^皮夾在轉(zhuǎn)印輥130Y、130M、130C及130K和*處理盒106Y、106M、106C和106K的感光鼓108之間。在轉(zhuǎn)印單元104中，通過將記彰氏107壓在感光鼓108的外表面之上，轉(zhuǎn)印輥130Y、130M、BOC和130K使處理盒106Y、106M、106C和106K的感光鼓108上的調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到從膨氏單元103進(jìn)給的記錄紙107。轉(zhuǎn)印單元104將已經(jīng)在其上轉(zhuǎn)印了調(diào)色劑圖像的記錄紙107傳輸?shù)蕉ㄓ皢卧?05。定影單元105在記影氏107的傳輸方向上提供在轉(zhuǎn)印單元104的下游，并且包括一對輥105a和105b，記錄紙107被夾持它們之間。通過加壓和力。熱該對輥105a和105b之間的記影氏107,定影單元105將已經(jīng)從感光鼓108轉(zhuǎn)印到記錄紙107上的調(diào)色劑圖像定影^^人轉(zhuǎn)印單元104傳輸來的記彰氏107上。激光寫入單元122Y、122M、122C和122K的^r—個都連接到裝置主體102的上表面。激光寫入單元122Y、122M、122C和122K分別相應(yīng)于處理盒106Y、106M、106C和106K。；狄寫入單元122Y、122M、122C和122K通過用^t^照射由充電輥109均勻充電的處理盒106Y、106M、106C和106K的感光鼓108的外表面，分別形成靜電潛像，充電4剮夸在后面進(jìn)行描述。處理盒106Y、106M、106C和106K提供在轉(zhuǎn)印單元104和^H敫光寫入單元122Y、122M、122C和122K之間。處理盒106Y、106M、106C和106K可拆離地連接到裝置主體102上，處理盒106Y、106M、106C和106K沿著i己錄紙107的傳輸方向設(shè)置成線。如圖2所示，處理盒106Y、106M、106C和106K的每個都包括盒體111、作為充電設(shè)備的充電輥109、作為靜電潛像保持元件的感光鼓108、作為清潔設(shè)備的清潔刮板112以及顯影設(shè)備113。相應(yīng)地，成像裝置101至少包括充電輥109、感光鼓108、清潔刮板112和顯影設(shè)備113。盒體111可分離地連接到裝置主體102上，并且其中容納充電輥109、感光鼓108、清潔刮板112和顯影設(shè)備113。充電輥109均勻充電感ifeJ支108的夕卜表面。感光鼓108設(shè)置為接g影設(shè)備113的顯影輥115,它們之間有一間隙，顯影4剮尋在后面進(jìn)行描述。感光鼓108形成為能夠繞中心軸線旋轉(zhuǎn)的柱狀或圓筒形狀。靜電^^ititi敫光寫入單元122Y、122M、122C和122K中相應(yīng)的一個形成在感光鼓108的夕卜表面上。感光鼓108通過將調(diào)色劑吸引到潛像上，將形成并保持在其外表面上的靜電潛像顯影，并且然后將如此得到的調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到位于感光鼓108和傳輸帶129之間的記彰氏107上。調(diào)色劑圖傳游印到記彰氏107上清潔刮板112將感ifei支108夕卜表面上殘留的轉(zhuǎn)印后殘^i周色劑清除。如圖2所示，顯影設(shè)備113至少包括顯影劑供應(yīng)單元114、殼體125、作為顯影劑保持元件的顯影輥115和作為控制元件的控制刮板116。顯影劑^yi單元114包括容器117和作為攪拌元件的一對攪拌螺桿118。容器117形成為盒形的形狀，具有與感光嚴(yán)108!^目同的長度。而且，沿容器117長度方向延伸的分隔壁119提供在容器117內(nèi)。分隔壁119將容器117的內(nèi)部空間劃分為第一空間120和第二空間121。另夕卜，第一空間120和第二空間121在其末端相互連通。容器117在第一空間120和第二空間121"嫁顯影劑。顯影劑包括調(diào)色劑和磁f生載體或磁性顆粒135(^f爾為磁粉，并且其截面在圖5中示出)。調(diào)色劑被按需要"^應(yīng)到第一空間120的第一端部，也就是與第二空間Ul相比更遠(yuǎn)離顯影輥115的位置。調(diào)色劑包括每個都是球形的精細(xì)顆粒，并iBt過乳劑聚合或懸浮液聚合方法制造。注意調(diào)色劑可以通過將通過'"曰^^a布不同類型的顏4+或染沖+獲得的合劾于脂塊粉碎^l青細(xì)碎塊來得到。調(diào)色劑的平均顆粒直^^人3jam到7pm(含)。這樣，調(diào)色劑可以通過碾壓或類似過程來制造。磁l"生載體135包括在第一空間120和第二空間121中。磁f生載體135的平均顆粒直徑是從20iam到50nm。如圖5所示，磁性載體135包括核心元件136、_核心元件136外表面的樹脂4137以及散布在樹脂鵬137中的氧化鋁顆粒138。核心元件136由作為磁性材料的鐵素體制造，并且形成為球形。核心元件136的整個夕卜表面由樹脂劍莫137M。樹脂劍莫137包括充電控制劑和通過將三聚絲^i者如丙烯的熱塑'N對脂交聯(lián)所制成的樹脂成分。該樹脂覆膜137具有彈性和強粘附度。氧化鋁顆粒138形成為球形，其外徑大于樹脂137的厚度。氧化鋁顆粒138由樹脂劍莫137的強粘附度保持。每個氧化鋁顆粒138沿磁性載體135的向外方向從樹脂137突出。攪拌螺軒118分別封^fe第一空間120和第二空間121內(nèi)。攪拌螺浙118的長度方向平行于容器117、顯影輥115和感光鼓108的長度方向。攪拌螺浙118提供為可繞軸向中心旋轉(zhuǎn)。攪拌螺軒118攪拌調(diào)色劑和磁性載體135并且沿著軸向中心傳輸顯影劑，同時繞軸向中心旋轉(zhuǎn)。在圖2所示的情況下，在第一空間120內(nèi)的攪拌螺^干118將顯影劑從前面提到的第一端部傳輸?shù)降诙瞬?。另一方面，在第二空間121的攪拌螺j干118將顯影劑從第^部傳輸?shù)降谝欢瞬俊Ｒ篱笆龅慕Y(jié)構(gòu)，顯影劑供應(yīng)單元114將提供到第一空間120的第一端部的調(diào)色劑傳輸?shù)降诙瞬?，同時與磁性載體135混合，然后從第一空間120的第二端部將調(diào)色劑和磁性載體135傳輸?shù)降诙臻g121的第二端部。然后，顯影劑供應(yīng)單元114將調(diào)色劑和磁性載體135供應(yīng)到顯影輥115的外表面，同時在第二空間121〉;曰^它們并且將它們在軸向中心方向傳輸。殼體125形成為盒形形狀，并且連接到上面提到的顯影劑供應(yīng)單元114的容器117。以這種方式，顯影輥115和容器117老財皮殼體125覆蓋。而且，殼體125在殼體125面對感光鼓108的部分提供一開口部分125a。顯影輥115形成為圓筒形狀，并且提供在第二空間121和感光鼓108之間，接近前面提到的開口部分125a。顯影輥115平行于感光鼓108和容器117。顯影輥115設(shè)置為靠近感光鼓108,其間有一間隙。如圖3所示，顯影輥115包括帶芯棒134，圓筒磁輥133(也稱為磁性元件)用作》茲場產(chǎn)生設(shè)備，即圓柱形磁場產(chǎn)生設(shè)備，并且圓筒形顯影套筒132作為中空體。帶芯棒134如此設(shè)置，使得其長度方向平行于感光鼓108的長度方向，并且以不旋轉(zhuǎn)的方式固定到殼體125。磁輥133由石茲性材料組成，并且其形成為圓筒形狀。另外，多個未示出的固定磁才ilil:接到磁輥133。磁輥133固定到帶芯棒134的外圓周，并且因此不允許繞軸向中心旋轉(zhuǎn)。每個固定的磁極是類似于長桿形狀的磁體，并JJ^接到》茲輥133。固定的》茲極沿磁輥133、即顯影輥115的長度方向延伸，并且提供為貫穿磁輥133的長度。具有前面提到的結(jié)構(gòu)的磁輥133被封裝(整個包含在)在顯影套筒132內(nèi)。一個固定的;茲極面對前面提到的攪拌螺桿118。固定的》茲極是在顯影套筒132、也;ttA^影輥115的外表面上產(chǎn)生磁力的拾^J茲極，并且因此導(dǎo)致容器117的第二空間121中的顯影劑粘附到顯影套筒132的外表面。另一固定磁極面對前面提到的感光鼓108。這個固定的磁極是，通過在顯影套筒132、即顯影輥115的外表面上產(chǎn)生磁性力，在顯影套筒132和感iti支108之間形成/茲場的顯影箱t才及。這個固定的磁極通過"ft^)磁場形成箱錄j,并且因此允許粘附到顯影套筒132的外表面的顯影劑中的調(diào)色劑，轉(zhuǎn)移到感光鼓108上。至少一個固定》茲極提供在前面提到的拾fa茲才及和顯影》茲極之間。通過在套筒132、即顯影輥115的外表面產(chǎn)生^茲力，所述至少一個固定-茲極在顯影之前將顯影劑傳輸?shù)礁泄夤?08上，并且也在顯影^將顯影劑/人感光鼓108傳輸?shù)饺萜?17中。當(dāng)顯影劑粘附到顯影套筒132的外表面上時，前面提到的固定磁極使顯影劑中的多個磁性載體135聚集并且沿著由固定磁極產(chǎn)生的磁力線堆積，并且因j)t/人顯影套筒132的外表面向外突出(在其上形成鏈)。在該狀態(tài)中，多個磁性載體135聚集且沿》茲力線堆積，并且因aH^人顯影套筒132外表面向外突出，該狀態(tài)表達(dá)為;茲性載體135在顯影套筒132的夕卜表面上形成鏈的狀態(tài)。然后，上面提到的調(diào)色劑顆粒連接到磁f生載體135的鏈上。筒言之，顯影套筒132通過使用由磁輥133產(chǎn)生的磁力將顯影劑吸引到外表面。如圖4所示，顯影套筒132形成為圓筒形狀。顯影套筒132整個包括(封裝)磁輥133,并且提供為使得繞軸向中心旋轉(zhuǎn)。顯影套筒132旋轉(zhuǎn)，使得其內(nèi)表面一個接一個的面對固定磁極。顯影套筒132由非磁性材^H(口鋁合金或不銹鋼(SUS)組成。如上所述，顯影套筒132的外表面通過使用表面處理裝置1的粗H^理而4對造化。鋁合金在材料可加工性和重量輕屬性上很優(yōu)秀。當(dāng)使用鋁合金時，優(yōu)選采用A6063、A5056或A3003。當(dāng)使用SUS時，優(yōu)選使用SUS303、SUS304或SUS316。顯影套筒132的外徑伊述17mm到18mm。顯影套筒132在軸向(軸向中心)方向的長>1優(yōu)選300mmm到350mm。顯影套筒132的夕卜表面，在顯影套筒132的軸向中心方向，從中央到兩端^4嫂^^斤增加(更4劃造)。另夕卜，如圖6和7所示，顯影套筒132的外表面提供了大量凹陷，每個凹陷有^^上橢圓的平面形狀，并JJt過4封勁口工形成。大量(多個)凹陷139在顯影套筒132上隨積4非列。明顯地，凹陷139包括其長度方向沿著顯影套筒的軸向方向延伸的凹陷139，和其長度方向沿著顯影套筒132的圓周方向延伸的凹陷139。每個具有其縱向方向沿著顯影套筒132的軸向方向的凹陷139的數(shù)量，大于每個具有其縱向方向沿著顯影套筒132的圓周方向的凹陷139的數(shù)量。而且，凹陷139在長度方向(主軸)的長yt^從0.05腿到03mm(含)，其在寬度方向(副軸)的寬^A從0.02mm到0.1mm(含)。注意在圖6和7中從右到左的方向^_顯影套筒132的軸向方向。控制刮板116提供到接近感光鼓108的顯影設(shè)備113的端部?？刂乒伟?16連接到前面提到的殼體125，控制刮板116和顯影套筒132的外表面之間有間隙?？刂乒伟?16削去顯影劑在顯影套筒132的外表面上超出預(yù)^度的部分，并且將它落回到容器117。因此，控制刮板116使傳輸?shù)斤@影區(qū)域131的顯影劑在顯影套筒132的夕卜表面上具有理想的厚度。在具有前述結(jié)構(gòu)的顯影設(shè)備113中，顯影劑供應(yīng)單元114充分';^^調(diào)色劑和磁f生載體135,并且固定磁極使如此^給的顯影劑吸引并粘附到顯影套筒132的外表面上。然后，在顯影設(shè)備113中，通過固定磁極粘附到顯影套筒132上的顯影劑，隨著顯影套筒132的旋轉(zhuǎn)傳輸?shù)斤@影區(qū)域131。顯影設(shè)備113使已經(jīng)通過控制刮板116而具有理想厚度的顯影劑吸引并粘附到感光鼓108上。以這種方式，顯影i殳備113保持在顯影輥115上的顯影劑，將顯影劑傳輸?shù)斤@影區(qū)域131，并ilitit^感^J支108上顯影靜電^^象形成調(diào)色劑圖像。此后，顯影設(shè)備113在顯影后將顯影劑清除到容器117中。然后，顯影后的顯影劑再次充分和第二空間121中其它剩余顯影劑混合，并且用于在感光鼓108上顯影,爭電潛H具有前述結(jié)構(gòu)的成像裝置101在記彭氏107上以如下方法形成圖像。首先，成像裝置101旋轉(zhuǎn)感光鼓108，并且用充電輥109均勻地充電感光鼓108的外表面。在處理盒106Y、106M、106C和106K中的每個，感光鼓108的外表面用激絲照射，并且因此靜電^f象形絲感itJ支108的夕卜表面上。此后，當(dāng)靜電^f象定位在顯影區(qū)域131時，粘附到顯影設(shè)備113的顯影套筒132外表面的顯影劑，被吸引并且粘附到感光鼓108的外表面。因此，靜電^f斜^影，并且調(diào)色劑圖像形^感ifej支108的夕卜表面上。這^,當(dāng)記彰氏107通iti^氏單元103的必氏輥124等傳送并且定4錄處理盒106Y、106M、106C和106K的感光鼓108以及轉(zhuǎn)印單元104的傳輸帶129之間時，成像裝置101將形成在感光鼓108的外表面上的調(diào)色劑圖^#印到記錄紙107上。在成像裝置101中，定影單元105固定記彰氏107上的調(diào)色劑圖像。以il種方式，成像裝置101在記彰氏107上形成彩色圖4象。隨后，將要描述在顯影套筒132上進(jìn)行4對造處理的方法。前面提到的顯影套筒132的外表面通過圖8和9所示的表面處理裝置1的粗4狄理而變粗4造。如圖8和9所示，表面處理裝置1包括基底3、固定保持單元4、電磁線圏移動單元5、作為滑動設(shè)備的可移動的保持單元6、可移動的卡盤單元7、作為磁場產(chǎn)生單元的電,茲線圈8、容器9、收集單元IO、冷卻單元ll、線性編碼器75、控制設(shè)備76(圖9中所示)和M型位移計80(圖9中所示)?；?形成為平4反形狀，并且安^工廠的地3反、臺或類似物上?；?的^Ji4面^f呆持與水平方向平4于。差^底3的平面形狀形成為矩形。固定保持單元4包括多個圓柱12、保持基底13、直立支架14、圓筒保持元件15和保持卡盤16。圓柱12提供為/A^底3的長度方向(以后稱為箭頭X)的一端部突出。保持基底13形成為類似平板的形狀，并且連接到圓柱12的頂端。直立支架14形成為類似平板的形狀，并且提供為從保持基底13上突出。圓筒4呆持元件15形成為圓筒形狀，并iUi接到直立支架14和保持基底13上。圓筒保持元件15設(shè)置為比直立支架14接i^&體3的中心，從而其軸向中心平行于水平方向和箭頭X。在圓筒保持元件15內(nèi)部，容納連接到第一端部9a的法蘭元件Slb、51c和51d(即容器9的第一端部9a)。法蘭元件51b、51c、51d和第一端部9a將在后面描述。保持卡盤16設(shè)置為接近圓筒保持元件15,即保"Nrl^底13,并JlJi接到前述基底3。保持卡盤16卡住容器9,容器的第一端部9a容納在圓筒保持元件15內(nèi)，并且因此保持容器9的第一端部9a。具有前述結(jié)構(gòu)的固定保持單元4保持容器9的第一端部9a。電磁線圈移動單元5包括一對線性引導(dǎo)件17、電磁線圈保持基底18和電磁線圈移動激勵器19。線性引"!^牛17包括導(dǎo)軌20和滑塊21。導(dǎo)軌20設(shè)置在基底3上。每個導(dǎo)軌20形成為垂直線形狀，并且如此設(shè)置使得其長度方向平行于基底3的長度方向，即箭頭X?；瑝K21由導(dǎo)軌20支撐，為了可以沿著導(dǎo)軌20的縱向方向，如箭頭X,移動。在線性引導(dǎo)件17對中，導(dǎo)軌20在R間沿著基底3的寬度方向(今后也稱為箭頭Y)設(shè)置有特定的距離。注意箭頭X和箭頭Y明顯相互垂直，并且它們都平行于水平方向。電磁線圈保持基底18形成為平板形狀，并且安裝在前述滑塊21上。電磁線圈保持基底18的Ji^面設(shè)置為平行于水平方向。電磁線圈係特基底18的Ji4面4是供了電》茲線圏8。電石茲線圈移動激勵器19連4妄到基底3，并且使前述電;茲線圈保持基底18沿箭頭X滑動并移動。前述電磁線圈移動單元5利用電磁線圈移動激勵器19使電磁線圈係游基底18、即電-茲線圏8沿箭頭X滑動和移動。另外，通過電》茲線圈移動單元5移動的電磁線圈8的移動i^變，可以在范圍0mm/sec到300mm/sec之內(nèi)改變。而且，通過電磁線圈移動單元5移動的電磁線圈8的移動范圍大約為600mm。可移動保持單元6包括一對線性引導(dǎo)件22、保持基底23、第一激勵器24、第二激勵器25、移動基底26、軸7w走轉(zhuǎn)單元27和保持卡盤28。線性引導(dǎo)件22包括導(dǎo)軌29和滑塊30。導(dǎo)軌29設(shè)置在基底3上。導(dǎo)軌29的每個形成為垂直線形狀，并且設(shè)置成使得其長度方向平行于基底3的長度方向，即箭頭X。滑塊30通過導(dǎo)軌29支持，從而可沿導(dǎo)軌29的長度方向、即箭頭X移動。在該對線性引導(dǎo)件22中，導(dǎo)軌29設(shè)置為在其之間沿箭頭Y、即基底3的寬度方向，有特定的距離。保持基底23形成為類似平纟反的形狀，并且安裝在前述的滑塊30上。保持基底23的Ji^面設(shè)置為平行于水平方向。第一激勵器24連接到基底3，并且^Ji面提到的保持基底23沿箭頭X滑動并移動。第二激勵器25安^保持基底23上，并且使移動基底26沿箭頭Y滑行并移動。移動基底26形成為類似平板的形狀，并且設(shè)置成使得其Ji^面平行于水平方向。軸7"走轉(zhuǎn)單元27包括一對軸承31、作為芯軸的中空支持元件32、作為旋轉(zhuǎn)設(shè)備的驅(qū)動電機33、以及卡盤圓筒34。軸7"于31設(shè)置為沿箭頭X相互分開一定距離，并且安裝在移動基底26上。由磁性材料組成的中空保持元件32，形成為圓筒形狀，并且由軸承31支持，從而可繞軸向中心旋轉(zhuǎn)。中空保持元件32設(shè)置為其軸向中心平行于前述的箭頭X,即，固定保持單元4的圓筒保持元件l5的軸向中心。中空保持元件32設(shè)置為/M多動基底26向固定保持單元4突出，從而其中空保持元件32的第一端部32a位于容器9中，而且其第二端部32c位于移動基底26上。如圖9所示，中空保持元件32插入圓筒形處理目標(biāo)物2中。另外，滑輪35固定到位于可移動基底26上的中空保持元件32的第二端部32c上?；?5和中空保持單元32同4W殳置。驅(qū)動馬達(dá)33安M移動基底26上，并且滑輪36連接到驅(qū)動馬達(dá)33的輸出軸。驅(qū)動馬達(dá)33的輸出軸的軸向中心平行于箭頭X。沒有端部的正時皮帶37由上述滑輪35和36懸置，驅(qū)動馬達(dá)33繞軸向中心旋轉(zhuǎn)中空保持元件32。通過繞軸向中心旋轉(zhuǎn)中空保持元件32，驅(qū)動馬達(dá)33繞平行于容器9的長度方向的中空4緣元件32的軸向中心旋轉(zhuǎn)處S^f象物2。換句i封兌，驅(qū)動馬達(dá)33起到權(quán)利要求的范圍中引用的旋舉H殳備的作用?？ūP圓筒34包括安裝在移動基底26上的圓筒體38、可滑動i^^^供在圓筒體38上的卡盤軸39?？ūP軸39形成為圓柱形狀，并ili殳置成^f吏《尋其長度方向平^f亍于箭頭X?？ūP軸39容納在中空^#元件32內(nèi)，并且其和中空保持元件32同軸排列。多對卡盤釘40連接到卡盤軸39上。一對卡盤釘40連接到卡盤軸39上，在從卡盤軸39向外的方向從卡盤軸39的外圓周表面突出。而且，卡盤釘40能夠在從中空保持元件32向外的方向，從中空保持元件32的外圓周表面突出。該對卡盤4丁40提供為使得乂人卡盤軸39和中空保持元件32的突出量可以自由改變。多對卡盤釘40沿前述卡盤軸39的長度方向、即箭頭X間隔設(shè)置。隨著卡盤軸39向圓筒體38收縮，卡盤釘40對從卡盤軸39和中空保持元件32的突出量增加。Sl^卡盤軸39向圓筒體38的收縮，上面的卡盤圓筒34使卡盤釘40進(jìn)一步在卡盤軸39的向外方向突出。結(jié)果，卡盤釘40壓向安裝在中空保持元件32的外圓周的處理目標(biāo)物2的內(nèi)表面。因此，卡盤圓筒34通過^吏用卡盤釘40固定卡盤軸39、中空保持元件32和處理目標(biāo)物2。換句話說，處理目標(biāo)物2被保持，同時其外表面被曝露，其中外表面是要經(jīng)歷粗糙處理的平面。此時，自然，卡盤軸39、中空保持元件32、處理目標(biāo)物2、后面描述的圓筒元件50、即容器9是相互同軸的。前面提到的卡盤圓筒34和卡盤釘40與中空##元件32以A^器9同軸地保持處理目標(biāo)物2。準(zhǔn)確地，卡盤圓筒34和卡盤釘40保持處理目標(biāo)物2，從而處理目標(biāo)物2的外表面將曝露在容器9的中心，其中所i^卜表面是將要經(jīng)歷粗糙處理的平面。前述卡盤圓筒34、卡盤釘40和中空保持元件32形成保持設(shè)備。保持卡盤28安裝在上面提到的移動基底26上。保持卡盤28夾住后面描述的連接到容器9的第二端部9b的法蘭元件51a，從而保持容器9的第二端部9b。保持卡盤28控制容器9繞軸向中心的旋轉(zhuǎn)。通過^J)激勵器24和25，具有前述結(jié)構(gòu)的可移動的保持單元6，沿著相互垂直的箭頭X和Y，移動保持卡盤28、中空保持元件32和類似物。簡言之，可移動保持單元6沿著箭頭X和Y移動由保持卡盤28保持的容器9?？梢苿涌ūP單元7包括保持基底41、線性引導(dǎo)件42和保持卡盤43。保持基底41固定在線性引導(dǎo)件22的一對軌道29的端部，該端部是更接近固定保持單元4的端部。保持基底41形成為類似平板的形狀，并且設(shè)置成其Ji4面平行于水平方向。線性引導(dǎo)件42包括軌道44和滑塊45。軌道44安m呆持基底41上。勒道44的每個形成為直線形狀，并且設(shè)置為使其長度方向平行于箭頭Y、即基底3的寬度方向?；瑝K45由軌道44支持從而可沿軌道44的長度方向、即箭頭Y移動?！?#卡盤43安裝在滑塊45上。保持卡盤43位于前面提到的保持卡盤16和28之間。保持卡盤43通過卡住接近容器9第二端部9b的部分來保持容器9。前述可移動的卡盤單元7通過使保持卡盤43保持容器9來定位容器9。而且，當(dāng)容器9沿軸向中心移動時，可移動卡盤單元7防止容器9從軸岸^走轉(zhuǎn)單元27、即表面處理裝置1脫落，以這種方式，保持卡盤43和上面提到的^f緣卡盤28^H乍保持容器9。如圖9所示，電磁線圈8包^^成為圓筒形狀的外覆層46和多個設(shè)置在外覆層46內(nèi)部的線圈單元47,并且，上形成為環(huán)形的形狀。電磁線圏8內(nèi)徑大于容器9的外徑。換句^i兌，在電磁線圏8的內(nèi)表面和容器9的夕卜表面之間形成間隙。而且，電浪t線圈8在軸向中心方向的總長度，與容器9在軸向中心方向的總長度相比短很多。優(yōu)選電磁線圈8在軸向中心方向的總長度不大于容器9在軸向中心方向的總長度的三分t。在說明示例中，電磁線圈8的內(nèi)徑是90mm,電箱t線圈8在軸向中心方向的總長^1A85mm。夕卜絲層46安絲前面提到的電磁線圈保持基底18上，從而夕卜覆層46的軸向中心、即電-茲線圈8的軸向中心本身平行于箭頭X。電磁線圈8和中空保持單元32、卡盤軸39以及容器9同4W殳置。多個線圈單元47設(shè)置成沿著夕卜覆層46、即電石茲線圈8的圓周方向相互平4亍。通過圖9中示出的三4目交流電源48將電流^o到線圈單元47。不同相位的電流i^a到多個線圏單元47中，并且因此多個線圈單元47產(chǎn)生不同相位的磁場。然后，通過組合這些不同相位的磁場，電磁線圈8在其內(nèi)部產(chǎn)生具有繞電磁線圈8的軸向中心旋轉(zhuǎn)的磁場(旋轉(zhuǎn)磁場)。前述電-茲線圈8接^i^A^目交流電源48來的電流，并且產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)石茲場。同時，電磁線圈8通過電磁線圈移動單元5沿軸向中心的長度方向、即容器9移動。然后，通過^JD前面提到的旋轉(zhuǎn)磁場，電磁線圈8將后面描述的磁性磨料顆粒65定位到處理目標(biāo)物2的外周上，并且使磁性磨料顆粒65繞容器9和處理目標(biāo)物2的軸向中心旋轉(zhuǎn)(移動)。這^，通過^^1前面提到的旋轉(zhuǎn)磁場，電磁線圈8使磁性磨料顆粒65和處理目標(biāo)物2的外表面石並撞。另外，轉(zhuǎn)換器49提供在^目交流電源48和電磁線圈8之間。換句i封兌，表面處理裝置l包括轉(zhuǎn)換器49。轉(zhuǎn)換器49能夠改變通it^目交流電源48^。到電磁線圈8上的電源的頻率、電流值和電壓值。通過改變0到電石茲線圈8上的電源的頻率、電流值和電壓值，轉(zhuǎn)換器49增加或減少通iiH^目交流電源48口到電磁線圈8上的電源，并且因此改變由電磁線圈8產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)石茲場的強度。如圖9所示，容器9包括圓筒元件50，其具有單一結(jié)構(gòu)的外壁(外壁形成單一壁)，多個法蘭元件51、一對削刮密封支持架52、一對削刮密封板53、一對定位元件54和作為分隔設(shè)備的多個分隔元件55。圓筒元件50形成為圓筒形狀，并且形成容器9的夕卜蓋。由于圓筒元件50形成為單一結(jié)構(gòu)，容器9的外壁形成為單一結(jié)構(gòu)，并且也是圓筒形狀。圓筒元件50、即容器9的外徑優(yōu)選約40mm到80mm。而且，圓筒元件50的厚度優(yōu)選約為0.5mm到2.0mm。圓筒元件在軸向中心方向的長度約為600mm到800mm。圓筒元件50由非磁性材料構(gòu)成。圓筒元件50提供有多個磨料顆粒供應(yīng)孔57。當(dāng)然，每個磨料顆粒供應(yīng)孔57貫穿圓筒元件50，并且允許圓筒元件50的夕卜部和內(nèi)部相互連通。密封帽58連接到每個磨料供應(yīng)孔57。通*料供應(yīng)孔57，磁性磨料顆粒65進(jìn)入圓筒元件50、即容器9并/人其中排出。另一方面，通過密封磨料顆^牛供應(yīng)孔57，密封帽58防il^茲性磨料顆粒65從圓筒元件50、即容器9中出來。多個法蘭元件51中的每個都形成為環(huán)形或圓筒形。多個法蘭元件51(示例中是3個)中的多數(shù)、即所有的除了一個以外，都連接到圓筒元件50的第一端部9a，并且一個法蘭元件51(下面用附圖標(biāo)記51a表示)連接到圓筒元件50的第二端部9b。連接到圓筒元件50的第一端部9a的一個法蘭元件51(下面用附圖標(biāo)記51b表示)形成為圓環(huán)形狀，并且與圓筒元件50的外4勤目酉洽。另一個法蘭元件51(下面用附圖標(biāo)記51c表示)形成為圓環(huán)形狀，并且S己合于前述法蘭元件51b的外周。剩下的法蘭元件51(下面用附圖標(biāo)記51d表示)整個包括具有圓環(huán)形狀的環(huán)部分59和具有圓柱形狀的柱部分60。環(huán)部分59提供為從柱部分60的外邊緣突出。法蘭元件51d的環(huán)部分59配合于法蘭元件51c的外周。前述法蘭元件51d用軸承74可旋轉(zhuǎn)地支持從動桿73。從動桿73形成為圓柱形狀，并且和容器9的圓筒元件50同軸沒置。從動桿73的端面壓向中空保持元件32。從動桿73和中空保持元件32—起旋轉(zhuǎn)，并且支持中空保持元件32的第一端部32a，該第一端是自由端。前述法蘭元件51a形成為環(huán)形形狀，并且其S給于圓筒元件50的第二端9b的外圓周。中空保持元件32通過法蘭元件51a的內(nèi)側(cè)。注意圓筒元件50的第一端部9a和第二端部9b也分別形成為容器9的第一端部和第二端部。該對削刮密封支架52都形成為環(huán)形形狀。削刮密封支架52中的第一個配合于圓筒形容器50的第一端部9a的內(nèi)圓周，并且削刮密封支架52中的第二個配合于圓筒元件50的第二端部9b的內(nèi)圓周。中空保持元件32通過第二削刮密封支架52的內(nèi)側(cè)。該對削刮密封板53的每一個都形成為網(wǎng)目艮形狀。削刮密封板53中的第一個形成為類似圓盤的形狀，設(shè)置在圓筒元件50的第一端部9a的內(nèi)圓周，也連接在上面提到的第一密封支架52上。另夕卜，從動桿73通過第一削刮密封板53的內(nèi)側(cè)。削刮密封板53中的第二個形成為環(huán)形形狀，設(shè)置在圓筒元件50的第二端部9b的內(nèi)圓周，也連接在上面提到的第二密封支架52上。中空保持元件32通過第二削刮密封板53的內(nèi)側(cè)。當(dāng)由于將要在后面描述的磁1"生磨料顆粒65和處理目標(biāo)物2的夕卜表面碰撞，通過削刮處理目標(biāo)物2形成刮屑時，削刮密封板53防止刮屑/人圓筒元件50、即容器9漏出。該對定位元件54中的每一個都形成為圓柱形狀。定位元件54中的第一個配合于第一端部32a的外圓周，該第一端部是中空保持元件32的自由端。定位元件54中的第二個適合于中空保持元件32的中部32b的外圓周。該中部32b位于圓筒元件50的內(nèi)側(cè)，并且4妄近第二端部9b。定位元件對54通過將處理目標(biāo)物2夾在其中，而將處理目標(biāo)物2定位在中空保持元件32上。注意第一端部32a形成中空保持元件32的接近于保持固定單元4且遠(yuǎn)離可移動^#單元6的端部。在容器9內(nèi)部，中部32b形成中空保持元件32的端部，該端部遠(yuǎn)離固定保持單元4且接近可移動保持單元6。61,即分隔元件55配合于圓筒元件50的內(nèi)圓周，并且因itbii接到圓筒元件50。另外，中空保持元件32通過分隔元件55的內(nèi)側(cè)。多個主體61、即分隔元件55設(shè)置在削刮密封板53對之間。而且，多個主體61、即分隔元件55沿軸向中心P、即圓筒50的長度方向間隔并排設(shè)置。在圖示中，提供7個分隔元件55。主體61提供有通孔63。篩網(wǎng)部分62連接到主體61從而填錢孔63。由于篩網(wǎng)部分62形成為篩網(wǎng)形狀，篩網(wǎng)部分62允許空氣和刮屑通過，并且防jL^磁性磨料顆粒65從其中通過。前述多個分隔元件55沿著圓筒元件50、即容器9的軸向中心、也t議處理目標(biāo)物2的軸向中心P分隔圓筒元件50、即容器9的內(nèi)部空間。另夕卜，軸向中心P形成容器9的軸向中心和中空保持元件32的軸向中心，也形成了容器9的長度方向。換句話說，軸向中心P和容器9的長度方向相互平行。而且，前i^A體61和篩網(wǎng)部分62、即分隔元件55由非磁性材料構(gòu)成。具有前述結(jié)構(gòu)的容器9在多個分隔部分55之間的空間容納由磁性材料構(gòu)成的磨料顆粒65(以后稱為磁f生磨料顆粒)，并且將連接到中空保持元件32的處理目標(biāo)物2封^'j圓筒元件50中。簡言之，容器9封狄S^f象物2和磁性磨料顆粒65。而且，在由于前面提到的旋轉(zhuǎn)磁場，繞處理目標(biāo)物2的外圓周旋轉(zhuǎn)(移動)等的同時磁性磨料顆粒65和處理目標(biāo)物2的外表面碰撞。每個磁性磨料顆粒65作為和處理目標(biāo)物2碰撞的線形顆粒，/人處理目標(biāo)物2外表面削刮-"^分，并且因此使處理目標(biāo)物2的外表面變粗糙。注意，在圖解示例中，磁性磨料顆粒65形成為圓柱形狀，并且外徑約為0.5mm到1.4mm，總長部約為3.0mm到14.0mm。磁性磨料顆粒65由磁性材料例如奧氏體不銹鋼或馬氏體不銹鋼構(gòu)成。如圖IO所示，磁性磨料顆粒65形成為類似腳趾的圓柱形狀。磁性磨料顆粒65形成為具有0.5mm到1.2mm(含)的外徑。當(dāng)L表示總長度且D表示外徑時，磁性磨料顆粒65形成為使得L/D是從4到10(含)。而且，如圖10和11所示，磁性磨料顆粒65每端的外邊緣部分65a繞整個周長倒角，并且每個都形成為具有圓弧形的截面。外邊緣部分65a形成為具有0.05mm到0.2mm(含)的曲率半徑r。如圖12所示，由于前述旋轉(zhuǎn)》茲場，上面的磁性磨料顆粒65沿前ii^器9和顯影套筒132的圓周方向旋轉(zhuǎn)(軌道旋轉(zhuǎn))，同時沿其長度方向中心旋轉(zhuǎn)(自轉(zhuǎn))。如圖9所示，收集單元10包括空氣;^u7vf66、空氣排出孑L67、篩網(wǎng)元件68、空氣排出管69和灰塵收集器70(在圖8中示出)?？諝饬魅牍?6提供為比第二削刮支架52更接近圓筒元件50、即容器9的邊緣(在可移動的保持單元6側(cè))，并且具有在圓筒元件50即容器9內(nèi)部的開口。壓縮空氣或類似物從未圖示的壓縮空氣輸入源供應(yīng)到空氣Wu7vf66?？諝饬魅牍?6引導(dǎo)壓縮空氣到圓筒元件50即容器9的內(nèi)部?？諝馀懦隹?7貫穿圓筒元件50，并且因此使容器9的內(nèi)部和外部相互連通。空氣排出孔67提供為比第一削刮密封支架52遠(yuǎn)離圓筒元件50、即容器9的邊緣(在遠(yuǎn)離可移動保持單元6側(cè))。篩網(wǎng)元件68連接在圓筒元件50上，便于填充氣^#出孔67。篩網(wǎng)元件68使刮屑和空^其中通過，并且防iU茲性磨料顆粒65從其中通過。換句i封兌，篩網(wǎng)元件68防ibf茲性磨料顆粒65從圓筒元件50即容器9泄漏?？諝馀懦龉?9是連接到接近空氣排出孔67之處的管道?？諝馀懦龉?9圍繞空氣排出孔67的外邊緣?？諝馀懦鲦軱67和空氣排出管69將空氣引導(dǎo)到圓筒元件50即容器9的外部，其中空從空氣滬u7v管66供應(yīng)到圓筒元件50即容器9的?；覊m收集器70連接到空氣排出管69，并且將空氣吸到空氣排出管69的內(nèi)部?；覊m收集器70通過抽吸空氣排出管69內(nèi)部的空氣，將空氣和前述刮屑吸收到圓筒元件50即容器9的內(nèi)部?；覊m收集器70收集刮屑。上面提到的收集單元10將空氣通過空氣流入管66供應(yīng)到圓筒元件50即容器9，并且使用空氣和灰塵收集器70，通過空氣排出孔67和空氣排出管69引導(dǎo)刮屑到圓筒元件50即容器9的外部。然后，收集單元10收集灰塵收集器70中的刮屑。如圖8所示，冷卻單元11包括冷卻風(fēng)扇71和冷卻管72。冷卻風(fēng)扇71將壓縮空氣供應(yīng)到冷卻管72。冷卻管72是管道系統(tǒng)。冷卻管72將壓縮空氣從冷卻風(fēng)扇71引導(dǎo)到電磁線圏8。冷卻管72把由冷卻風(fēng)扇71供給的壓縮空氣吹到電磁線圈8。冷卻單元ll通過壓縮空氣吹到電磁線圈8來冷卻電石茲線圈8。如圖9所示，線性編碼器75包括主體和可移動地4是供到主體77上的傳感器78。主體77線性延伸，并且連接到基底3。主體77設(shè)置為平行于軌道20對之間的軌道20。主體77的總長度比前述容器9長。主體77設(shè)置在主體77的長向的兩個端部沿容器9的長度方向/A^器9向外突出的位置。傳感器78提供為沿著主體77、即容器9的長度方向可移動。傳感器78連接到電磁圈保持基底18。精確地說，傳感器78連接到電磁線圈8，且電磁線圈保持基底18夾置在二者之間。上面的線性編碼器75檢測傳感器78相對于主體77、即容器9的位置，并且向控制設(shè)備76輸出檢測結(jié)果。經(jīng)這種方式，線性編碼器75檢測電磁線圈8相對于容器9即處理目標(biāo)物2的位置，并且向控制設(shè)備76輸出檢測結(jié)果?？刂圃O(shè)備76是包括RAM、ROM、CPU等的計算機?？刂圃O(shè)備76連接到電磁線圏移動單元5、可移動保持單元6、可移動卡盤單元7、電磁線圈8、轉(zhuǎn)換器49、收集單元10、冷卻單元ll、線性編碼器75、反射型位移計80等，并且通過控制這些單元來控制整個表面處理裝置1。相應(yīng)于電磁線圈8的每個相對于處理目標(biāo)物2的位置，控制設(shè)備76存儲電磁線圈8的旋轉(zhuǎn)磁場的強度，磁場強度通過線性編碼器75檢測。換句話說，控制設(shè)備76儲存涉及功率的信息片段，其可通過轉(zhuǎn)換器49調(diào)整并施加到電磁線圈8上，相應(yīng)于電磁線圈8相對于處理目標(biāo)物2的每個位置。另外，控制設(shè)備76對于處理目標(biāo)2即顯影套筒132的每個產(chǎn)品編號存儲關(guān)于功率的信息片段。在圖示的實施例中，控制設(shè)備76事先儲存一模式，其中醋電磁線圈8從長度方向(軸向方向)的中央位置移動到其兩端，轉(zhuǎn)換器49逸斬增加施加到電磁線圈8上的功率。然后，控制設(shè)備76根據(jù)事先儲存的功率模式使轉(zhuǎn)換器的通過電磁線圈8改變旋轉(zhuǎn)磁場的強度。以這種方式，在圖示實施例的情況下，控制設(shè)備76使轉(zhuǎn)換器49改變由電磁線圈8產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場的強度，從而旋轉(zhuǎn)磁場強度在處理處理目標(biāo)物2的兩端部時將比處理處理目標(biāo)物2的中部時強。如上所述，控制設(shè)備76根據(jù)電磁線圈8相對于容器9、即處理目標(biāo)物2的位置，使轉(zhuǎn)換器49改變由電-茲線圈8產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)-茲場的強度，該位置由線性編碼器進(jìn)行檢測。而且，控制設(shè)備76執(zhí)行作為輪廓曲線的頻率分析的快速傅利葉變換(FFT)，其中輪廓曲線是處理目標(biāo)物2外表面在粗糙處理之后的凸凹測量結(jié)果。進(jìn)一步，在通過求解按波長獲得的頻譜表示波長分量的強度中，通過施加FFT計算的輪廓曲線的凸凹，特定波長分量和其強度預(yù)先在控制設(shè)備76中設(shè)置，并且這些用作為判斷處理目標(biāo)物2是否是缺陷項目的標(biāo)準(zhǔn)。而且，對于控制設(shè)備76,連接不同種類的輸入設(shè)備、如鍵盤和諸如顯示器的顯示設(shè)備。反射型位移計80是反射型非接觸激光測量設(shè)備，并且在外表面通過4對狄理變粗糙后，通過使用光學(xué)設(shè)備測量處理目標(biāo)物2的外表面的凹凸。反射型估游計80定4媒一定測量位置，處理目標(biāo)物2在夕卜表面通it^4狄理變斗到能滑行并移動出容器9到達(dá)該測量位置。以下，將給出對于通過用具有前述結(jié)構(gòu)的表面處理裝置1處理(粗糙)處理目標(biāo)物2的外表面來制造顯影套筒132的過程的描述。首先，處理目標(biāo)物2、即顯影套筒132的產(chǎn)品編號等被從輸入設(shè)^^入到控制設(shè)備76。然后，柱形帽64在處理目標(biāo)物2的長度方向(軸向方向)的兩端配合于該目標(biāo)物的外圓周。然后，前述第二定位元件54配合于中空保持元件32的外圓周。下面，中空保持元件32位于其兩端連接有帽64的處理目標(biāo)物2的內(nèi)側(cè)。這^，前述第一定位元件54配合于中空保持元件32的外圓周。然后，處理目標(biāo)物2通過收縮卡盤圓筒34的卡盤桿39固定到中空保持元件32。這時，中空保持元件32、處理目標(biāo)物2等是同軸的。以這種方式，處理目標(biāo)物2連接到中空保持元件32。然后，處理目標(biāo)物2和中空保持元件32都容納在容器9也就是處理空間中，磁l"生磨料顆粒65供應(yīng)到容器9的圓筒元件50。以這種方式，磁性磨料顆粒65和處理目標(biāo)物2都裝在容器9中。另外，容器9用保持卡盤28和43卡住。這樣，處理目標(biāo)物2和容器9都連接到可移動保持單元6。接下來，容器9的圓筒元件50、中空保持元件32、處理目標(biāo)物2等都同軸。這些連"l^t喿作當(dāng)然是在用激勵器24和25調(diào)整移動基底26的位置同時進(jìn)行的。而且，這些操作當(dāng)然是在調(diào)整保持基底41的位置的同時進(jìn)4亍的。固定保持單元4保持容器9的第一端部9a，使得容器9的第一端部9a由保持卡盤16卡住或等4介方式。下面，使冷卻單元11向電磁線圈8吹壓縮空氣，同時空^t過收集單元10的空氣流入管66供應(yīng)到容器9的內(nèi)部，且同時容器9中的空^Jt過灰塵收集器70吸取。然后，使驅(qū)動馬達(dá)33將處理目標(biāo)物2和中空保持元件321繞軸向中心P旋轉(zhuǎn)。這^,通it^"電磁線圈8乂A^相交流電源48i^口功率，使電磁線圈8產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)^茲場。結(jié)果，磁性磨料顆粒65位于電i茲線圈8的內(nèi)部，繞軸向中心P旋轉(zhuǎn)(旋轉(zhuǎn)即移動)同時自轉(zhuǎn)。因此，磁性磨料顆粒65和處理目標(biāo)物2的外表面碰撞，并J4站造化處理目標(biāo)物2的外表面。然后，當(dāng)電磁線圈移動單元5按需要沿著軸向中心P移動電磁線圈8。結(jié)果，由于前述旋轉(zhuǎn)-茲場，新iiA電-茲線圈8內(nèi)部的磁性磨料顆粒65開始移動(自4沐旋轉(zhuǎn))，同時從電磁線圈8離開的磁性磨料顆粒65停止移動。而且，由于分隔元件55分隔容器9內(nèi)部的空間，磁性磨料顆粒65被禁止移動到分隔元件55O卜，并且因itl^茲性磨料顆粒65從電磁線圈8中出來，^/人前述的旋轉(zhuǎn)磁場中出來。然后，電磁感應(yīng)移動單元5沿箭頭X往復(fù)移動電磁線圈8預(yù)定次數(shù)后，處理目標(biāo)物2外表面的粗糙完成。另外，隨著電磁線圏8從處理目標(biāo)物2的中部向其兩端移動，由電磁線圈8產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場強度增加。旋轉(zhuǎn)磁場強艦強，磁性磨料顆粒65的移動越難。相應(yīng)地，隨著旋轉(zhuǎn)磁場的強度增加，磁性磨料顆粒65活躍地和處理目標(biāo)物2碰撞，并且處理目標(biāo)物2的外表面的粗糙程度增加。當(dāng)在處理目標(biāo)物2外表面上的前述laif造處理完成時，；^o到電磁線圈8和驅(qū)動馬達(dá)33上的功率停止。而且，收集單元10和冷卻單元11也停止。使可移動保持單元6的保持卡盤28釋放容器9的保持。當(dāng)固定保持單元4的^#卡盤16和可移動卡盤單元7的保持卡盤43##對容器9的支持時，通過<賴第一激勵器24，移動基底26沿箭頭X^/A^器9的第二端9b遠(yuǎn)離的方向滑行并移動。接下來，處理目標(biāo)物2/錄器9中取出，同時通過中空保持元件32保持。以后，移動基底26滑行并移動到處理目標(biāo)物2的容器9的外部的預(yù)定測量位置，然后停止。這之后，可移動保持單元6的驅(qū)動馬達(dá)33旋轉(zhuǎn)，從而處理目標(biāo)物2和中空保持元件324繞軸向中心P旋轉(zhuǎn)。反射型位移計80移動到處理目標(biāo)物2外表面的凹凸可一皮測量的位置，因jtb^其圓周方向的一次旋轉(zhuǎn)時測量凹凸。通過反射型位移計80測量的處理目標(biāo)物2夕卜表面的凹凸，發(fā)送到控制設(shè)備76。當(dāng)在圓周方向的一次旋轉(zhuǎn)期間測量的處理目標(biāo)物2的外表面的凹凸發(fā)送時，控制設(shè)備76進(jìn)行FFT,FFT是表示凹凸的輪廓曲線的頻率分析。圖14表示輪廓曲線的例子，圖15表示通過進(jìn)行FFT獲得的頻譜的例子(以后，這種頻譜簡稱為FFT頻譜)。圖14中的7jc平軸表示處理目標(biāo)物2在圓周方向的距離。圖14中垂直軸表示處理目標(biāo)物2橫截面的表面的深度。圖15中的7jc平軸表示夕卜表面的輪廓曲線的波長，即形成在外表面上的凹凸的波長。圖15的垂直軸表示外表面輪廓曲線每個波長的振幅的絕對值。然后，控制設(shè)備76判斷FFT頻譜在不超過lmm的波長范圍內(nèi)的部分的峰值是否不超過12,并且因此判斷處理目標(biāo)物2是否是缺陷項目。在圖15的情況中，由于"^值密度約為7.8，判斷處理目標(biāo)物2是非缺陷項目。當(dāng)判斷作為非缺陷項目時，處理目標(biāo)物2被識別為非缺陷項目，并JL/人中空保持元件32除去。然后，新的處理目標(biāo)物2被連接并處理。以這種方式，顯影套筒132的外表面^皮^4造化，粗糙化過程完^^獲得輪廓曲線，進(jìn)行FFT，并且然后FFT的結(jié)果用于判斷顯影套筒132是否是缺陷項目。因此，通過用顯影套筒132夕卜表面的輪廓曲線#似亍FFT,可能獲得顯影套筒132(圖14中所示)，該顯影套筒的在不超過lmm的波長范圍內(nèi)FFT頻譜的峰值不超過12，并且其外表面從其中部到其兩端部的粗糙it^斤增加。根據(jù)該實施例，大量J^橢圓的凹陷隨^J也提供在顯影套筒132的外表面上，該顯影套筒的在不超過lmm的波長范圍內(nèi)的FFT頻謹(jǐn)峰值強度不超過12。FFT頻譜通過用作為外表面用反射型位移計80測量結(jié)果的輪廓曲線獲得。佳月具有上面特征的顯影套筒132,給顯影劑小的壓力，并且因此抑制顯影劑變差。相應(yīng)地，顯影劑的拾取量在長時間內(nèi)保彬l、定，允許顯影劑形成高質(zhì)量圖像，在長時間內(nèi)沒有密度不均勻。而且，通過采用這樣的顯影套筒132,該顯影套筒132的通過使用上面的輪廓曲線獲得的在波長不超過lmm的范圍內(nèi)的FFT頻譜Jf值不超過lO,口到顯影劑上的壓力可大大減少，這樣可在長時間內(nèi)形成更高質(zhì)量圖像，沒有密度不均勻。_^*圓的凹痕139形成在顯影套筒132的外表面上(主軸從0.05mm到0.3mm(含)，副軸從0.02mm到O.lmm(含))，其中^""個遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于通過傳統(tǒng)吹沙力口工形成的凹痕。相應(yīng)地，即使隨時間的改變凹痕139也不會磨損。這使它可能在長時間變化時抑制顯影劑拾取量的減少。在顯影套筒132中，形成在外表面上的橢圓凹痕139隨枳4非列。由于顯影劑通過凹痕139拾取，拾取顯影劑的位置在外表面上隨才/U非列。這可防止圖像不均勻。另夕卜，[個長度方向沿著顯影套筒132軸向的凹痕139的數(shù)量，大于每個長度方向沿著顯影套筒132的圓周方向的凹痕139的數(shù)量。結(jié)果，通過凹痕139拾取的顯影劑顆粒沿著顯影套筒132的軸線方向線性排列。相應(yīng)地，即使當(dāng)顯影套筒132旋轉(zhuǎn)時，拾取的顯影劑顆粒不會從顯影套筒的外表面落下。以這種方式，橢圓凹痕139可以產(chǎn)生類似于迄今為止一直使用的V-槽的作用，并且可以保證充分的顯影劑拾取量。而且，由于橢圓凹痕139通過使-茲性磨料顆粒65與外表面隨才;u並撞形成，可能防止顯影套筒132的軸向中心彎曲、內(nèi)部和外部直徑改變、和/或形成橢圓形狀的4黃斷面。換句{封兌，可獲得顯影套筒132的高偏4科青度。進(jìn)一步，凹凸隨機形成在顯影套筒132上。這種凹凸防止供應(yīng)到感光嚴(yán)108的顯影劑的量不均勻，并且因此防止形成密度不均勻的圖像。通過使位于旋轉(zhuǎn)磁場內(nèi)部的磁性磨料顆粒65和顯影套筒132的外表面碰撞，磁l"生磨料顆粒65更隨才;U也和顯影套筒132的外表面碰撞。結(jié)果，可能容易獲得以下特征在波長范圍不超過lmm的范圍內(nèi)，F(xiàn)FT頻譜的峰值強度不超過10。換句話說，更均勻地凹凸可以形成在顯影套筒的外表面上，并且因此可以獲得比其它方式更均勻的圖像。另夕卜，通過定位旋轉(zhuǎn)磁場內(nèi)部的磁性磨料顆粒65,凹凸可以形成在顯影套筒132的外表面上，可避免對于在顯影套筒132外表面上形成凹凸增加必需的處理。結(jié)果，可能防止用于在顯影套筒132外表面上形成凹凸的處理復(fù)雜化，并且相應(yīng)地防止處理所需的成本增加。而且，凹凸可以通過定位在旋轉(zhuǎn)磁場內(nèi)部的磁性磨料65來形成在顯影套筒132的外表面上。在凹凸形成期間，每個磁性磨料顆粒65繞其中心部分以長度方向旋轉(zhuǎn)，并且沿著旋轉(zhuǎn)磁場的徑向繞顯影套筒132外圓周旋轉(zhuǎn)。由于此原因，磁性磨料顆粒65在長度方向的兩端的外邊緣部分65a和顯影套筒132碰撞，并且因jtM艮多凹凸、特別是凹痕139沿著顯影套筒132的軸線(長度)方向形成在顯影套筒132的外表面上。結(jié)果，形成在顯影套筒132外表面上的凹痕B9可以保證產(chǎn)生和以1tPf吏用的V-槽類似的作用，并且可以保證顯影劑的充足拾取量。而且，由于旋轉(zhuǎn)》茲場，磁性磨料顆粒65和顯影套筒132外表面的隨才;u並撞，更確保在顯影套筒132的外表面上形成隨機的凹凸。相應(yīng)地，可能防止通過顯影套筒132形成的圖像不均勻。將顯影套筒132和磁性磨料顆料65-"^^容器9中，確4科茲性磨料顆粒65和顯影套筒132的外表面碰撞。結(jié)果，可以確保在顯影套筒132的外面上進(jìn)行樹狄理。由于磁性磨料顆粒65和旋轉(zhuǎn)的顯影套筒132在容器9中碰撞，磁l"生磨料顆粒65甚至更隨才;U也和顯影套筒132的外表面碰撞。這使它可能以比其它方式更高的^)t度形成更均勻的凹痕139，并且因otb^得^艮少不均勻的圖H依據(jù)上面的成像裝置101，由于顯影劑中磁性載體135的平均顆粒尺寸是從20pm到5(Vm(含)，這種顯影劑的使用使它能夠獲得具有優(yōu)秀的間隔尺寸和很少不均勻性的高質(zhì)量圖像。磁性載體135的平均顆粒尺寸小于20pm是不優(yōu)選的。這是因為，如果這樣，每個磁性載體135的小萄t化^/f茲性載體135向顯影輥115的磁性粘合力微弱，使得磁性載體135更容易粘到顯影鼓108上。相反，磁性載體135的平均顆粒尺寸大于50pm也是不優(yōu)選的。這是因為如^it樣，磁性載體135和感光鼓108上的靜電潛像之間的電場是多余的，使均勻圖像不能獲得(圖像質(zhì)量下降)。而且，可以損:供處理盒106Y、106M、106C和106K，以A^j象裝置101可以在長時間形成并4是供高質(zhì)量圖^f象，因為它們包括前面提到的設(shè)備113。另外，由于顯影套筒132和感光j支108之間的間隙是從O.lmm到0.4mm(含)，可以確保調(diào)色劑從在顯影套筒132上形成的鏈的顯影單元，供應(yīng)到感光鼓108上，并且高質(zhì)量圖像可以相應(yīng)地形成。不優(yōu)選顯影套筒132和感光鼓108之間的間隙小于O.lmm。這是因為，如果這樣，顯影套筒132和感光JL108之間的電場如此強，使得磁性載體135粘附到感光嚴(yán)108上。相反，由于下面的原因也不優(yōu)選顯影套筒132和感光鼓108之間的間隙大于0.4mm。如果這樣，顯影套筒132和感光鼓108之間的電場太弱，使得可以供應(yīng)到感光嚴(yán)108上的調(diào)色劑的量減少。結(jié)果，顯影效率下降，電場在圖^ii緣的邊緣作用太大，不能獲得均勻的圖像。在該實施例中，使用的顯影劑包括磁性載體135，磁性載體每一個都通過用樹脂劍菱137a^核心元件136形成，其中樹脂覆膜由充電控制劑和樹月旨成分混合制造，樹脂成分由熱塑性樹脂和三聚絲樹脂交l^^得。這樣，磁性載體135通過用彈性樹脂覆膜137M核心元件136獲得。由于樹脂覆膜137是彈性的，其吸"i^磁性載體135上的撞擊，并且防ib磁性載體135被磨損。相應(yīng)地，磁性載體135可以比傳鄉(xiāng)W茲性載tt較長壽命。而且，大于樹脂4tl莫137厚度的氧化鋁顆粒138散落在前述樹脂^M137上。在該實施例中，^ft^]的是包括提供了從樹脂膜137突出的氧化鋁顆粒138的磁性載體135的顯影劑。因此，氧化鋁顆粒138可以成塊石並撞樹脂覆膜137，并且可以清潔用過的物體。結(jié)果，可以防止樹脂膜137磨損和用舊，并ibf目應(yīng)地使i茲性載體135的壽命比傳統(tǒng)的磁性載體長。該導(dǎo)致實現(xiàn)調(diào)色劑拾取量的穩(wěn)定，即在長時間內(nèi)形成高質(zhì)量的圖像。由于選^it過使用乳化聚合方法或懸浮聚合獲得的調(diào)色劑，調(diào)色劑具有完美球形以至于產(chǎn)生視覺上改ii^'j余在圖像上的密度不均勻的效果。由于磁性磨料顆粒65的外徑D是從0.5mm到1.2mm(含)，形^作為處理目標(biāo)物顯影套筒132夕卜表面上的凹凸，Ptt時間的變化不可f膽損變化。接下來，顯影套筒132可以防止顯影劑拾取量的下降，否則該下降將會隨著時間的改變而出現(xiàn)。這^^抑制Pi!4"時間的改變，并且防止圖像變淺。如上所述，可能提供能夠在顯影套筒132的夕卜表面上進(jìn)行斗對^理的磁性磨料顆粒65和表面處理裝置1，從而減少顯影套筒132隨著時間的改變的顯影劑拾取量的下降，并且防止圖像不均勻。而且，總長度L和外徑D的比率(L/D)是從4到12(含)。由于這個原因，在磁性磨料顆粒65的長度方向的兩端的外邊緣部分65a確定地和顯影套筒132夕卜表面碰撞。另夕卜，磁性磨料顆粒65的總長狄夠長，以在顯影套筒132的外表面上形成具有足夠深度(大的)的凹凸。相應(yīng)地，可能確定地形成凹凸，并且保證顯影套筒132的顯影劑的充足拾取量。進(jìn)一步，^F茲性磨料顆粒65的兩端的外邊緣部分65a是倒角的并且^-"個形成圓弧形的截面。相應(yīng)地，光滑凹凸可形成在作為處理目標(biāo)物的顯影套筒132的外表面上，并且防止顯影劑對于顯影套筒132即磁性載體135等隨著時間而改變。由于每個形^f茲性J^+顆粒65在長度方向兩邊緣的外邊緣部分65a的曲率半徑r是從0.05誦到a2mm(含)，光滑凹凸可以形成在作為處理目標(biāo)物的顯影套筒132的外表面上。由于磁性磨料顆粒65由諸如奧氏體不銹鋼或馬氏體不銹鋼的磁性材料組成，磁法磨料顆粒65可以容易;4^得，并且用于生產(chǎn)磁性磨料顆粒65成本可減少?？刂圃O(shè)備76可以依據(jù)電》茲線圈8相對于容器9即顯影套筒132的位置，改變由電磁線圈8產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)石茲場的強度。當(dāng)旋轉(zhuǎn)磁場更強時，磁性磨料顆粒65更活躍iM多動，當(dāng)和顯影套筒132的外表面石並撞時，磁性磨料顆粒65的運動能量變得更高，并于是顯影套筒132外表面的^L^造增加。P錄這些效果，顯影套筒132在軸向方向的長度方向的任意部分的外表面的粗糙可以按需改變。因此，當(dāng)顯影套筒132用作顯影套筒時，可以在顯影套筒132的一定部分增力口拾取量，以M顯影套筒132的一定部分減少拾取量。相應(yīng)地，通過使顯影套筒132拾取少量顯影劑的部分表面更扭隨，該拾取少量部分的拾取量可被增加。以這種方式，可以防ibit過包括顯影套筒132的成像裝置101形成的圖像不均勻。因此，顯影套筒132的夕卜表面通ii^L4狄理可以變4封造，從而可防止圖像的不均勻。由于控制設(shè)備76按照預(yù)定模式改變旋轉(zhuǎn)磁場的強度，顯影套筒132的外表面通過4對狄理可以穩(wěn)定地以固定模式處理。由于兩端部控制設(shè)備76在處理顯影套筒132的兩端時比處理其中央部分的時設(shè)置更大的旋轉(zhuǎn)磁場強度，拾取量小的顯影套筒132的兩端部分的外表面可以制作的比拾取量大的中間部分更扭隨。通過使拾取量少的顯影套筒132的兩端部的外表面更并對造，兩端部的拾取量可以增加，相應(yīng)地，可以確定地防止通過包括顯影套筒132的成像裝置101形成的圖像不均勻。這樣，顯影套筒132的外表面可以通過4封狄理確定^4^造，從而可防止圖像不均勾。,電磁線圈8的移動，顯影套筒132一狄理，并且同時磁性磨料顆粒65快速/A^走轉(zhuǎn)磁場中出來。結(jié)果，作用在磁性磨料顆粒65上的磁場強度快速變化(下降)。該變化使已經(jīng)按》辦排列的磁性磨料顆粒65位移，并且因otl^茲化減弱。因此，電磁線圈8的移動產(chǎn)生處理顯影套筒132和同時清除磁性磨料顆粒65的剩余3茲'1"生的4乍用。如上所述，除了表面處理裝置1之外該結(jié)構(gòu)不需要用于清除磁性磨料顆粒65剩余磁性的設(shè)備。相應(yīng)地，磁性磨料顆粒65可以容易地消磁，并且可以長時間在顯影套筒132上進(jìn)行連續(xù)的處理，從而表面處理的處理效率增強。因此，可能獲得作為基于顯影套筒132高容量制造的大量生產(chǎn)裝置的表面處理裝置1。將顯影套筒132保持在容器9的中央，使磁性磨料顆粒65和顯影套筒132的夕卜表面M上均勻碰撞。接下來，顯影套筒132的外表面可以被均勻地處理。由于磁性磨料顆粒65繞顯影套筒132的外圓周移動(旋轉(zhuǎn))，磁性磨料顆粒65可以確定地和處理目標(biāo)物的夕卜表面碰撞，并且因此顯影套筒132可以確定地處理。通過旋轉(zhuǎn)顯影套筒132,磁性磨料顆粒65和顯影套筒132的外表面均勻碰撞，顯影套筒132的外表面可更均勻地處理。采用總長度比容器9短的電磁線圈8,可產(chǎn)生強旋轉(zhuǎn)磁場，產(chǎn)生在容器9中的浪費的旋轉(zhuǎn)磁場減少，與采用包括總長vl^等于容器9的電磁線圈8的表面處理設(shè)備的情"L^目比。結(jié)果，在顯影套筒132上的處理效率可以提高，并且可以節(jié)省功率消耗。而且，由于電磁線圈8比容器9短，容器9的兩端可4皮彎曲。這種固定防止容器9隨著磁性磨料顆粒65的運動等振蕩(移動)。結(jié)果，可能使磁性磨料顆粒65和顯影套筒132的外表面石並撞更均勻，并且因此更均勻地處理顯影套筒132的外表面。由于容器9具有圓筒形狀，當(dāng)旋轉(zhuǎn)磁場作用到磁f生磨料顆粒65上時，容器9不a礙磁性磨料顆粒65在圓周方向的運動。相應(yīng)地，可以實觀3急定的處理。分隔部分55沿長度方向分隔容器9內(nèi)部的空間。因此，通過用分隔部分55限制磁1"生磨料顆粒65的可移動區(qū)域(旋轉(zhuǎn)/公轉(zhuǎn)區(qū)域)，可以進(jìn)行更有效的處理。而且，可以防ibf茲性磨津牛顆粒65移動遠(yuǎn)離分隔元件55。這使磁性磨料顆粒65和旋轉(zhuǎn)石茲場分別確定M^目互移動成為可能，并且因此確定地使磁性磨料顆粒65消磁。分隔元件55由非磁性材料構(gòu)成，并Jj目應(yīng)地不負(fù)W茲化。由于該原因，分隔元件55不M護(hù)^茲性磨料顆粒65的運動，磁化的刮屑等也不會吸引并粘附到分隔元件55上。相應(yīng);也，可以進(jìn)#^、定的處理。通過提供多個分隔元件55，一次要^f造的區(qū)域可被限制成顯影套筒132夕卜表面的特定部分。因此，分隔元件55確定地限制磁性磨料顆粒65的可移動區(qū)域(旋轉(zhuǎn)/公轉(zhuǎn)區(qū)域)，并且因此可以進(jìn)行更有^i也處理。另外，由于可以防jii^茲性磨料顆粒65移動遠(yuǎn)離分隔元件55，磁性磨料顆粒65可以確定;也消》茲。采用單結(jié)構(gòu)的外壁用于容器9的圓筒元件150,可以使電磁線圈8和顯影套筒132之間的矩離縮短，并且因此由電磁線圈8產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場可以更有效地用于處理。密封板53的使用使防ibf茲性磨料顆粒65從容器9中出來成為可能，并且因此提高在處理時的可操作性和生產(chǎn)力。如果進(jìn)行連續(xù)處理，該效果可以進(jìn)一步增大。這樣，表面處理裝置1可以加工(處理)顯影套筒132，作為基于高容量處理的^M^莫生產(chǎn)裝置。另夕卜，處理目標(biāo)物2上的表面粗4狄理完成后即刻，可移動保持單元6可以移動處理目標(biāo)物2到測量表面粗45i復(fù)的測量位置，同時中空4呆持元件32保持在處理對象物2中。因此，處理目標(biāo)物2上的表面粗糙處理完成后即刻，可以測量處理目標(biāo)物2的表面^U隨。相應(yīng)地，可能縮M^面粗4^t理和4劃造測量之間的時間周期。因此，與使用專門的測量裝置的傳統(tǒng)情"L4目比，顯影套筒132的生產(chǎn)力可以增加。通過反射型位移計80測量處理目標(biāo)物2外表面上的凹凸，同時驅(qū)動馬達(dá)33繞軸向中心P旋轉(zhuǎn)處理目標(biāo)物2，處理目標(biāo)物2由中空^#元件32保持。以這種方式，可以獲得在處理目標(biāo)物2圓周方向的測量結(jié)果。因此，可以獲得高可靠性的測量結(jié)果。通it^Jt型位移計80,測量處理目標(biāo)物2的夕卜表面上的粗4嫂，可以獲得高分辨率和高精度的處理目標(biāo)物2的輪廓曲線?？刂圃O(shè)備76在由反射型位移計80測量的處理目標(biāo)物2的圓周方向的輪廓曲線進(jìn)行FFT，并且判斷處理目標(biāo)物2是否是缺陷項目，基于得到的頻語中預(yù)定波長成分的強度。以這種方式，可容易地進(jìn)行缺P自/非缺陷判斷，通過預(yù)設(shè)頻率成分和其用于判斷的強度。接下來，可以容易地制造用于顯影輥115的顯影套筒132,其在長時間保持顯影劑拾取量的穩(wěn)定，從而可以提供穩(wěn)定的圖像。在前述成像裝置101中，處理盒106Y、106M、106C和106K每個都包括盒體lll、充電輥109、感itJ支108、清潔刮板112和顯影設(shè)備113。根據(jù)本發(fā)明，但是，處理盒106Y、106M、106C和106K不必需包4舌盒體111、充電輥109、感光鼓108、清潔刮板112，只M個都至少包括顯影設(shè)備113。而且，前述實施例中，成像裝置101包括可拆卸;fe^接到裝置主體102的處理盒106Y、106M、106C和106K。才艮據(jù)4^發(fā)明，然而，成像裝置101可以不必要包括處理盒106Y、106M、106C和106K，只要它包括至少顯影設(shè)備113。顯而易見地，在上述實施例中描述的顯影套筒B2的外徑、^茲性磨料顆粒65的尺寸和容器9的圓筒元件50的外徑可以按需改變。而且，考慮倒角部分的曲率半徑，倒角形狀的尺寸、相4造表面的目標(biāo)粗4造度、處理時間(處理條件)、電磁線圈8往復(fù)次數(shù)的數(shù)量、磁f生磨料顆粒65的耐久性等，理想的為顯影套筒132的兩端選擇合適的形狀。另夕卜，考慮*1|14面的目標(biāo)*14嫂、處理時間(處理條件)、電磁線圈8的往復(fù)次數(shù)的數(shù)量、磁性磨料顆粒65的耐久性等，也可以確定容納在容器9中的磁1"生磨料顆粒65數(shù)量的適當(dāng)量。隨后，本發(fā)明的發(fā)明者研磨鋁件使其具有018的外徑，作為處理目標(biāo)物2、即顯影套筒132、作為前述中空體，并JJt過使用圖8和9中示出的裝置在圓周表面上形成凹凸。處理在下列條件下進(jìn)行石茲性磨料顆粒65由SUS304制造，每個都采用直徑00.8x5mm;三相交流電源48的電流^iA24A;電磁線圈8的移動i4^L100mm/sec,電磁線圈8的往復(fù)次數(shù)是3。此時，處理目標(biāo)物2設(shè)置為自由旋轉(zhuǎn)，負(fù)載放置其上，且自由旋轉(zhuǎn)ii^A300RPM。作為該處理的結(jié)果，獲得顯影套筒132的不失見則性Rz的十點高M(jìn)12pm。顯影套筒132通過^J]由KeyenceCorporation制造的^t^聚焦型LT系列激光位移傳感器、作為反射型位移計80來測量，并且在以每轉(zhuǎn)12秒的速度旋轉(zhuǎn)顯影套筒132—轉(zhuǎn)的同時從顯影套筒132中以相等間隔獲取18000個數(shù)據(jù)。用18000數(shù)據(jù)中的4096數(shù)據(jù)進(jìn)行FFT分析。由于包括在數(shù)據(jù)中的噪聲成分或許在FFT結(jié)果中產(chǎn)生不規(guī)則的峰值，5個-數(shù)據(jù)移動平均數(shù)被計算來獲得相對于波長的頻譜強度。另外，通過調(diào)整位于其上的負(fù)載，相似的處理在其它處理目標(biāo)物2上進(jìn)行，從而處理目標(biāo)物2可以分別在2500RPM、4000RPM、5000RPM、6000RPM旋轉(zhuǎn)。然后，以和3000RPM的情;X^目同的方式，獲取數(shù)據(jù)并JL^"每個處理目標(biāo)物2進(jìn)行FFT分析。作為該過程的結(jié)果，獲4*個顯影套筒132的不MJ'JRz的十點高度，也是12^m。測量通過該過程獲得并且用在顯影設(shè)備中的每個套筒的性能。通過檢測初始拾取量、初始形成的圖像、^:行10000頁后拾取量的變化率、以及運行10000頁后形成的圖像來i刊介性能。^H介結(jié)^表1和圖16中示出。作為本發(fā)明的實施例，表1示出了實施例1是套筒通過前述并封狄J錄500RPM變4封造，實施例2是套筒通過^Hif狄理在4000PRM變粗糙，實施例3是套筒通過4站狄J錄3000PRM變粗4造，實施例4是套筒通過4站狄理在2500PRM變粗糙。另外，作為比較例，表1示出了比較例1是同樣尺寸的中空體通過噴沙灃14狄理變斗對造，比較例2是同樣尺寸的中空體通過噴i5M封狄理類似地變^4造，比較例3是同樣尺寸的中空體通過在6000RPM^4造處理的類似4站造處理，如上所述。圖16是表示比較例1-4和實施例1-4。在這個曲線中，垂直軸是拾取量的變化率，并且水平軸是在不超過lmm的一定波長范圍內(nèi)的頻譜的峰值強度。<table>tableseeoriginaldocumentpage31</column></row><table>表1中的^K介范圍包括E.'表示套筒實際上可j錢性很好；G表示套筒實際上可^J]性好；并且P表示套筒實際上可使用性差。而且，用于該檢測的顯影劑包括載體和調(diào)色劑，載體每個都有35|am的直徑，調(diào)色劑顆粒的平均顆粒尺寸是從3(am到7pm(含)。載體的平均顆粒尺寸是從20pm到5(^m(含)。根據(jù)表1,,A41中顯而易見的是示例1到4的每一個在運行10000頁(10K頁)以后還具有足夠好的可使用性，并且比較例3評價為在實際上工作性很差。結(jié)果清楚;44示當(dāng)拾取量變化率不大于10%時，可獲得實際上可^J)性足夠好的套筒。這里，圖16示出點劃線，其連接通過使用圖8和9所示的裝置處理其表面的實施例l"4和比較例3的點。這里，考慮FFT頻譜的峰值強度范圍不大于拾取量變化率的10%，這樣可以獲得實際上可利用性足夠好的套筒，并JL^波長范圍不超過lmm的范圍內(nèi)。從圖16中清楚地看出，峰值強度不超過12，表示點線和拾取量10%變化率的交點。另外，當(dāng)拾取量變化率不大于6%時，拾取量變^5J寸圖像質(zhì)量的影響僅是很小的程度，并且隨著時間過去可以獲得穩(wěn)定的圖像質(zhì)量。從圖16中，同樣清楚i錄出，當(dāng)FFT頻值強度不超過io時，變化率不超過6%。換句話說，明顯的是，在實施例1中，拾取量變化率對圖像質(zhì)量的影響很小，并錄每個實施例2至4中，拾取量變化率以很小程度影響圖像質(zhì)量，使得隨著時間變化可以獲得穩(wěn)定的圖像。相應(yīng)地，1和圖16中清楚;似尋到，類似實施例1-4的顯影套筒132,被圖8和9的表面處理裝置處理和評價，隨著時間的變化僅經(jīng)過小的拾取量變化，并且隨著時間的it去，可以^是供穩(wěn)定的圖^f象質(zhì)量。而且，拾取量和FFT頻譜的峰值密度之間的關(guān)系從圖16中看是很明顯的。結(jié)果，代替需要長時間測量的拾取量變化率，可在處理后立即測量的FFT頻譜峰值強度可以用于判斷處理套筒是否有缺陷。通過采用峰值強度，可以確定得顯影套筒132，其僅經(jīng)過隨時間變化小的拾取量變化，并且可以隨著時間的過去提供穩(wěn)定圖像。如上所述，下面的方法是作為制造可以提供高圖像質(zhì)量且可以維持拾取量隨時間穩(wěn)定的套筒的有效方法。更精確地說，在該方法中，首先，處理目標(biāo)物2的外表面通過利用處于粗糙處理中產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場內(nèi)的磁性磨料顆粒65變粗糙。然后，非接觸型的反射型位移計80固定到測量位置，然后獲得關(guān)于處理目標(biāo)物2外表面的凹凸的數(shù)據(jù)，同時處理目標(biāo)物2被旋轉(zhuǎn)一定角度。這之后，通過利用如此獲取的數(shù)據(jù)進(jìn)行FFT分析，算出相對于波長的頻譜強度。然后，M，僅FFT頻i普的峰值強度不超過一定值的處理目標(biāo)物2被判斷為非缺陷項目。依據(jù)本發(fā)明實施例，大量橢圓凹痕隨才/l4供在中空體的外表面上，并JUM吏用外表面的輪廓曲線進(jìn)行頻率分析的結(jié)果，在波長不超過lmm的范圍內(nèi)，頻譜的峰值強度不超過12。相應(yīng)地，顯影劑保持元件的利用僅給顯影劑很小的壓力，并且因此抑制顯影劑的變差。接下來，顯影劑的拾取量在長時間保持德定，這使得顯影劑形成高質(zhì)量圖像，長時間內(nèi)避免密度不均勻。依據(jù)本發(fā)明實施例，大量橢圓凹痕隨才/l4是供在中空體的外表面上，并且從使用外表面的輪廓曲線進(jìn)行頻率分析的結(jié)果，在波長不超過lmm的范圍內(nèi)，頻譜的峰值強度不超過10。相應(yīng)地，施加在顯影劑上的壓力更小，并且因此顯影劑的變形被進(jìn)一步抑制。接下來，顯影劑的拾取量長時間保彬t、定，這使得顯影劑形成高質(zhì)量圖像，長時間內(nèi)避免密度不均勻。依據(jù)本發(fā)明實施例，通過JI4且麻繩的線型顆粒和外表面的隨才;u並撞形成大量橢圓凹痕。以這種方式，乂人頻率分析的結(jié)果中，在不超過lm的波長范圍內(nèi)，不超過10的頻^f直峰強度的特性容易獲得。依據(jù)本發(fā)明實施例，由于顯影設(shè)備包括依據(jù)本發(fā)明實施例的顯影劑保持元件，顯影設(shè)備可以形成長時間內(nèi)可it^不均勻的高質(zhì)量圖像。依據(jù)本發(fā)明實施例，磁性顆粒的直徑是從20pm到50pm(含)。相應(yīng)地，顯影劑的4錢使它可隨時間過去，獲得具有優(yōu)秀圖像粒度的穩(wěn)定的圖像。依據(jù)本發(fā)明實施例，磁)"生顆粒具有樹脂劍莫，磁性才村轉(zhuǎn)'J成的核心元件^t其中。使用的樹脂覆膜包括充電控制劑和通過由三聚^^樹脂和諸如丙烯的熱塑性樹脂之間交聯(lián)形成的樹脂成分。該結(jié)構(gòu)磁性顆4錄表面磨損性上更優(yōu)越，并且因此顯影劑的^JD使它可隨時間濟L^，獲得具有優(yōu)秀粒度的穩(wěn)定圖像。依據(jù)本發(fā)明實施例，由于處理盒包括依據(jù)本發(fā)明實施例的顯影設(shè)備，可提供粒度小且優(yōu)秀的成像裝置，并且也f議能夠提供沒有不均勻的高質(zhì)量圖像。4^據(jù)本發(fā)明實施例，由于成像裝置包括依據(jù)本發(fā)明實施例的處理盒，可提供粒度小且優(yōu)秀的成像裝置，并且也IU^能夠提供沒有不均勻的高質(zhì)量圖像。依據(jù)本發(fā)明的實施例，輪廓曲線在圓周方向被測量，同時在4對造化中空體后旋轉(zhuǎn)中空體，進(jìn)^^皮如此測量的輪廓曲線的頻率分析，并且然后通過和預(yù)定判斷標(biāo)準(zhǔn)比較頻率分析的結(jié)果，進(jìn)行判斷，從而確定中空體是否是缺陷項目。相應(yīng)地，通過預(yù)定判斷標(biāo)準(zhǔn)，缺陷/非缺陷判斷可以容易地進(jìn)行。結(jié)果，可能容易地制造用于顯影輥的顯影劑保持元件，由于顯影劑拾取量維持在長時間維#^急定，其可以提供穩(wěn)定的圖像。需要注意本發(fā)明不限于前述實施例。換句話說，本發(fā)明可以修改并以在不背離本發(fā)明實質(zhì)的前提下以不同方式實現(xiàn)。權(quán)利要求1、一種顯影劑保持元件，其包括石茲場產(chǎn)生設(shè)備；以及中空體，該中空體在其內(nèi)部包含磁場產(chǎn)生設(shè)備，并且用磁場產(chǎn)生設(shè)備的磁力將顯影劑吸附到其夕卜表面上，其中中空體的夕卜表面隨才;u械供有大量凹痕；并且在波長范圍不大于lmm的范圍內(nèi)的頻譜J^值不超過u，其中該頻語是通過使用夕卜表面圓周方向的輪廓曲線進(jìn)^M率分析來計算出。2、根據(jù)權(quán)利要求所述的顯影劑保持元件，其中在不超過lmm的波長范圍內(nèi)的頻譜Jf^直不超過10。3、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顯影劑保持元件，其中大量凹^it過線型顆粒和中空體夕卜表面的隨才;U並撞來形成。4、一種顯影設(shè)備，包括根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顯影劑保持元件。5、才艮據(jù)權(quán)利要求4所述的顯影設(shè)備，其中，所述顯影劑包括顆粒尺寸在20jim到50jim(含)范圍內(nèi)的磁性顆粒。6、根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯影設(shè)備，其中磁性顆粒具有包括樹脂覆膜的結(jié)構(gòu)，由磁l"生材料制成的核心元件由該樹脂覆膜覆蓋，并且該樹脂覆膜包括充電控制劑和通過在三聚ll^樹脂和諸如丙烯的熱塑性樹月旨之間進(jìn)行交聯(lián)而獲得的樹脂成分。7、—種處理盒，包括根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯影設(shè)備。8、一種處理盒，包括根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的顯影設(shè)備。9、一種成像裝置，包括根據(jù)權(quán)利要求7所述的處理盒。10、一種成像裝置，包括根據(jù)權(quán)利要求8所述的處理盒。11、一種制造中空體的方法，該中空體的外表面隨才Mki是供有大量凹痕，所述方法包括以下步驟在中空體的外表面上提供大量凹痕；在旋轉(zhuǎn)該中空體的同時，獲得夕卜表面在圓周方向的輪廓曲線；進(jìn)行所獲得輪廓曲線的頻率分析；和通過將頻率分析結(jié)果^f貞定判斷標(biāo)〉斜目比較，判斷中空體的質(zhì)量。全文摘要本發(fā)明涉及一種顯影劑保持元件，其包括磁場產(chǎn)生設(shè)備和其內(nèi)部包含磁場產(chǎn)生設(shè)備的中空體，并且用磁場產(chǎn)生設(shè)備的磁性力將顯影劑吸附到其外表面上。中空體的外表面隨機地提供有大量凹痕；并且在波長范圍不大于1mm的范圍內(nèi)的頻譜峰值不超過12，其中頻譜通過使用外表面圓周方向的輪廓曲線進(jìn)行頻率分析來計算出。文檔編號G03G21/18GK101122763SQ200710142110公開日2008年2月13日申請日期2007年7月10日優(yōu)先權(quán)日2006年7月10日發(fā)明者中村茂治,今村剛,大澤正幸,寺嶋美惠子,渡辺將樹,神谷紀(jì)行,肥塚恭太,阿部纮也,高野善之申請人:株式會社理光