專利名稱：具有變跡壁的像素化光學構件及其制造方法和在制造透明光學元件中的用途的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種結合有光學功能的透明元件產(chǎn)品，其特別應用在具有各種光學特性的眼科鏡片(ophthalmic lenses)中。
技術背景屈光校正鏡片通常由折射率高于空氣折射率的透明材料制成。鏡片的 形狀被選擇為使得材料/空氣界面處的折射對佩戴者的視網(wǎng)膜產(chǎn)生適當?shù)?聚焦。通常對鏡片進行切割，以便將鏡片以相對于被校正眼睛瞳孔的適當 位置安裝到鏡框中。在各種類型的鏡片或其它不必限定到眼科光學件的鏡片中，都期望能 以一種柔性的和模塊化的方式提供一種結構用以引入一種或多種光學功 能，同時仍然保持了切割光學元件以將其結合到所應用的框上的可能性， 或結合到一個別處選擇的框或任何固定有所述光學元件的其它裝置上的 可能性。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的一個目的是滿足這種需求。另一個目的是在適當?shù)墓I(yè)條件 下生產(chǎn)光學元件。因而，本發(fā)明提供一種生產(chǎn)透明光學元件的方法，該方法包括生產(chǎn)透 明光學構件的步驟，該透明光學構件具有至少一個平行于構件的一個表面 并置的單元陣列(set of cells)。每個單元被密封并包含具有光學特性的物 質，這些單元由具有變跡輪廓的壁隔開。本發(fā)明還提供一種生產(chǎn)透明光學元件的方法，該方法又包括沿所述表 面上形成的輪廓切割所述光學構件的步驟，該輪廓對應于光學元件所形成 的形狀。這些單元可填充有針對它們的光學特性而選擇的各種物質，例如與它 們的折射率、光吸收率或偏振性能、對電或光激勵的響應等等相關聯(lián)的特 性。因此這種結構有助于許多應用，特別是利用各種光學功能的應用。這 意味著光學元件表面通過像素的離散化提供了設計方面以及元件實施方 面的極大靈活性。因而這種通過像素的離散化在光學構件的表面上經(jīng)由單元陣列(army of cells)的產(chǎn)生來顯現(xiàn)，這些單元由具有變跡輪廓的壁隔開。 這種壁輪廓特別有利于透明光學構件產(chǎn)品，當通過所述構件觀察圖像時沒 有對比度的降低。可以通過離散化制作像素化結構，該結構由在平面中的一連串相鄰單 元組成。這些單元由壁隔開并引起光學構件缺乏透明度。在本發(fā)明中，在通過光學構件來觀察的圖像在沒有明顯對比度損失下 被察覺時認為該光學構件是透明的，也就是說，當通過所述光學構件來獲 得圖像的形成時沒有圖像質量的削弱。在本發(fā)明中，術語"透明"的定義 可適用于本說明書中如此定義的所有物體。將光學構件的單元隔開的壁與光線相互作用并使其發(fā)生衍射。衍射被 定義為當光波實質上受限時觀察到的光散射現(xiàn)象(J-P.Perez， "Optique: fondements et Applications [Optics: Basis and Applications],第七版,由 Dunod出版，2004年10月，262頁)。因而，包括這種壁的光學構件由于 所述壁導致的光散射而傳輸降質的圖象。這種微觀的衍射宏觀地顯示為散 射，并且在點光源的情況下，這種微觀的衍射表現(xiàn)為散射斑，這導致了通 過所述結構觀察到的圖像的對比度降低。這種對比度降低在本發(fā)明中可比 作如上所定義的透明度的降低。按照本發(fā)明的理解，對于生產(chǎn)一種包括像 素化光學構件的光學元件來說，這種情況是不可接受的。如果所述光學元 件是眼科鏡片則更加如此，眼科鏡片一方面必須是透明的，且另一方面必 須沒有外觀缺陷，所述外觀缺陷可削弱這樣一種光學元件的佩戴者的視 力。本發(fā)明的一個目的是減少這種散射斑以減少對比度降低。具有變跡輪 廓的壁的單元陣列產(chǎn)品使散射斑擴散的減少成為可能，并因而增加包含這 樣一種陣列的物體的透明度。撞擊到壁上的光能集中到立體角內(nèi)，并且其變?yōu)榫哂薪嵌萫，長度d和光強度i的散射斑來被感知。為了將散射減到最少，能夠對這三個參數(shù)(e， d, i)的至少一個產(chǎn)生影響是有必要的。所述強度主要取決于構件內(nèi) 存在的壁的數(shù)量以及它們在所述光學構件表面上的分布。所述長度d更多 地與壁的幾何形狀有關聯(lián)，以及最小化該長度的裝置存在于變跡壁中，該 變跡壁將像素化光學構件的連續(xù)陣列的單元隔開。通過變跡壁，散射斑的長度通過抑制旁瓣(side lobes)而局部減少。在本發(fā)明中，術語"變跡"被理解為指壁外形的平滑。這種平滑等于 產(chǎn)生濾波器，該濾波器抑制傅立葉光譜的高空間頻率，并因而防止了寬角 度衍射。寬角度衍射的消除使對比度提高并因此改進了可通過這種像素化 系統(tǒng)來感知的圖像的質量。因而根據(jù)本發(fā)明，這種變跡對應于壁的幾何平 滑。因而，變跡修改壁的輪廓，包括消除銳邊。更特別地，這種修改包括 平滑(或鈍化)壁的至少一個邊緣，尤其通過圓整后者直到可獲得壁的高 斯輪廓。這種邊緣的平滑因此可將壁的接近90。的銳角轉化為曲線段。這 種曲線段可沿壁的側面在可變距離上延伸。在本發(fā)明中，變跡還包括如上 所述的壁陣列的產(chǎn)生，其中所述壁的每兩個側面都具有平行于襯底 (substrate)表面的相同或不同的斜率。按照定義，每個壁都具有四個邊緣，兩個在其頂部，兩個在其底部。 本發(fā)明中壁的"底部"被理解為指相距襯底最短距離的平行于所述襯底表 面的壁的側面。本發(fā)明中壁的"頂部"被理解為指相距襯底最遠距離的平 行于所述襯底表面的壁的側面，也就是說遠離襯底的相對側面。邊緣的平 滑在壁的底部和/或頂部上進行。有利地，每個壁都在其頂部上具有至少一 個平滑的邊緣。優(yōu)選地，每個壁都在其頂部上具有一些平滑的邊緣。這些 壁邊緣的平滑可以是對稱的或不對稱的。本發(fā)明中單元陣列還可包括具有 不同變跡輪廓的壁。在第一實施方式中，特別地，邊緣的平滑可通過化學的或物理化學的 蝕刻工藝獲得?？捎糜谶@種應用的蝕刻工藝，例如是等離子蝕刻。在本發(fā)明的第二實施方式中，在生產(chǎn)所述壁過程中通過利用掩模直接 獲得壁的變跡輪廓，在這些壁的生產(chǎn)過程中所述掩模以相距所述材料可變和可控的距離來放置。這種掩模的使用與壁的生產(chǎn)工藝兼容并因而與單元 陣列的生產(chǎn)工藝相符合。在這些工藝中，通過非限定性實例的方式可提及 到工藝，如熱印、熱模壓、微模塑、硬、軟、正或負光刻、微沉積(例如 微接觸印刷)、絲網(wǎng)印刷或噴墨印刷。有利地，為了利用掩模來生產(chǎn)變跡 輪廓，使用選自微模塑和光刻的生產(chǎn)壁的工藝。在生產(chǎn)單元陣列并因而生產(chǎn)變跡輪廓的壁陣列時，還可以將上述生產(chǎn) 所述壁的工藝與至少一種蝕刻工藝相結合。單元陣列的幾何形狀的特征是空間參數(shù)，這些空間參數(shù)通?？缮婕暗?平行于光學構件表面的單元的尺寸(d)，與將單元隔開的壁的高度(h)相對應的單元的高度，以及這些壁的(平行于構件表面測量的)厚度(e)。 平行于光學構件的表面，這些單元優(yōu)選由厚度為O.lOiam到10pm之間，優(yōu) 選在0.5|im到8pm之間的壁隔開。由于壁的變跡輪廓并因而帶來的所述壁 的邊緣的平滑，它們在底部的厚度大于它們在其頂部的切向厚度。有利地， 具有變跡輪廓的壁在其頂部(S)的切向厚度為在其底部(B)的厚度的 5%到95%之間。這些壁具有l(wèi)|im到50pm之間的高度，并優(yōu)選在lpm到20pm之間。如上所述，這些具有變跡輪廓的壁在其底部和/或頂部使其邊緣平滑， 并可選地具有相同或不同斜率的側面。對平行于襯底表面的直線，壁的側 面的斜率在卯°到15°之間，優(yōu)選為90°到45°之間。該壁陣列(以及因此而來的光學構件的該單元陣列)可直接在剛性透 明支撐件上，或柔性透明膜內(nèi)形成，該柔性透明膜隨后被轉移到剛性透明 支撐件上。所述剛性透明支撐件可以在容納該單元陣列的一側上是凸起的 或凹入的，或是平坦的。在本發(fā)明中，該并置的單元陣列優(yōu)選構成為使得填充系數(shù)1大于90%，填充系數(shù)被定義為每單位面積構件內(nèi)填充有物質的單元所占據(jù)的面積。換 句話說，至少在有該單元陣列的構件區(qū)域內(nèi)，該單元陣列占據(jù)了構件面積 的至少90%。有利地，填充系數(shù)在90%到99.5%之間，并包括90%和99.5%。 包含在至少一些單元內(nèi)的具有光學特性的物質為液體或凝膠形式。特 別地，所述物質可具有至少一種選自于著色、光致變色、偏振以及折射率 等的光學特性。本發(fā)明的另一目的是生產(chǎn)上述光學構件的方法，該方法包括在襯底上形成具有變跡輪廓的壁陣列的，以限定平行于構件的所述表面的單元；用 具有光學特性的液體或凝膠形式的物質集中地或單獨地填充這些單元；以 及在這些單元的遠離襯底的相對側面上密封單元。光學構件的單元陣列可包括含有不同物質的幾個單元陣列。同樣地，每個單元可填充有具有一個或多個上述光學特性的物質。還可在構件的厚 度上堆疊幾個單元陣列。在該實施方式中，這些單元陣列可以在每層中具 有相同或不同的特性，或者在每個單元陣列中的單元還可具有不同的光學 特性。本發(fā)明的另一方面涉及一種用在上述方法中的光學構件。這種光學構 件包括至少一個并置的平行于該構件的一個表面的透明單元陣列，每個單 元由具有變跡輪廓的壁隔開。每個單元被密封并含有至少一個具有光學特 性的物質。本發(fā)明的另一方面涉及一種透明光學元件，特別是通過切割這種光學 構件生產(chǎn)的一種眼鏡。 一種眼鏡包括眼科鏡片。術語"眼科鏡片"被理解 為指可適配到眼鏡框中以保護眼睛和/或校正視力的鏡片，這些鏡片選自無 焦點的、單焦點的、雙焦點的、三焦點的以及漸進鏡片。雖然眼科光學件 是本發(fā)明應用的優(yōu)選領域，應該理解的是本發(fā)明可適用于其它類型的透明 光學元件，例如用于光學儀器、濾光器、特別用于光刻的鏡片，光學取景 鏡片，眼睛護目鏡，用于照明裝置的光學件等等。在本發(fā)明中，眼科光學 件包括在眼科鏡片、隱形眼鏡以及眼部植入物。


下面通過參照附圖對非限定的示意性實施方式的描述使本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點更清楚，其中圖1為本發(fā)明光學構件的主視圖；圖2為由這種光學構件獲得的光學元件的主視圖；圖3為本發(fā)明一個實施方式的光學構件的示意性剖面圖；以及圖4a-4e示出了不同壁輪廓的主視圖，圖4a示出了沒有變跡輪廓的壁，而4b-4e示出了具有變跡輪廓的壁。
具體實施方式
圖1示出的光學構件10是眼鏡的鏡片毛坯。眼鏡包括上述眼科鏡片。當然，雖然眼科光學件是本發(fā)明應用的優(yōu)選領域，應該理解的是本發(fā)明可 適用于其它類型的透明光學元件。圖2示出了通過沿預定輪廓切割鏡片毛坯IO而獲得的眼鏡片11，預 定輪廓在圖1中由虛線示出。該輪廓是預先任意提供的，被標記在鏡片毛 坯的面積內(nèi)的。因而可使用大量生產(chǎn)的鏡片毛坯來獲得可適配到各種眼鏡 框的鏡片。被切割鏡片的邊緣可用常規(guī)方式?jīng)]有任何問題地修整，以使其 形狀與眼鏡框相匹配，并與將鏡片緊固到該眼鏡框的方法和/或美觀原因相 匹配。還可在鏡片上鉆孔14，例如用以容納用于將其緊固到眼鏡框上的螺 絲。鏡片毛坯10的大體形狀可遵照產(chǎn)業(yè)標準，例如具有70 mm (毫米) 的圓形輪廓，凸起的前表面12以及凹入的后表面13 (圖3)。因而可使 用常規(guī)的切割、修整和鉆孔工具來從鏡片毛坯IO獲得鏡片11。在圖1和2中，切掉了部分表面層以顯示出鏡片毛坯IO和鏡片11的 像素化結構。這種結構由形成在構件的層17內(nèi)的單元或微腔15的陣列組 成，每個單元由具有變跡輪廓的壁18 (圖3)隔開。在這些圖中，層17、 壁18和單元15的尺寸相對于鏡片毛坯IO和其襯底16的尺寸已被夸大， 使得更容易分析所述圖。引入單元15的陣列的層17可覆蓋有許多附加層19、 20 (圖1)，正 如在眼科光學件中常用的那樣。這些層具有例如抗沖擊功能、抗劃傷功能、 著色功能、抗反射功能、抗污功能等等。在示出的實例中，引入單元陣列 的層17被直接置于透明襯底16上方，但應該理解的是它們之間可以有一 個或多個中間層，例如具有抗沖擊功能、抗劃傷功能或著色功能的層。而且，對于幾個單元陣列可以以形成于襯底上的多層堆疊方式存在。 因而例如對于多層堆疊來說，特別地可以包括一層含有容納提供元件光致 變色功能的物質的單元陣列，和另一層提供元件折射率變化功能。包含單 元陣列的這些層還可與附加層交替。這是因為引入單元陣列的層可以如眼 科光學件中常用的那樣由許多附加層覆蓋。這些層具有例如抗沖擊功能、抗劃傷功能、著色功能、抗反射功能、抗污功能等等。圖4a示出了在這里作為參考而描繪的沒有變跡輪廓的壁18。該壁具 有如上所述的底部(B)和頂部(S)。該頂部和底部的各個都具有兩個帶 有接近90。銳角的邊緣。直線(Dl)表示所述壁的頂部的切線。直線D2 和D3表示與壁的每個側面相切的直線。在壁沒有變跡輪廓的情況下，所 述壁的每個側面(F1, F2)都垂直于直線Dl，該直線Dl平行于襯底16 或平行于用作壁的支撐件的膜，該膜可隨后被轉移到襯底16上。圖4b示出了具有變跡輪廓的壁的第一變例。在這種情況下，變跡是 通過使壁18頂部(S)上的兩個邊緣平滑來形成。在壁的頂部(S)的切 線(Dl)處測量的壁的厚度呈現(xiàn)為在其底部(B)處壁的厚度的大約卯％。圖4c示出了具有變跡輪廓的壁的第二變例。在這種情況下，變跡是 通過使壁18的底部(B)處的兩個邊緣平滑來形成。圖4d示出了具有變跡輪廓的壁的第四變例，其中，對頂部的兩個邊 緣以及底部的一個邊緣(Al)進行了平滑。在這種表示方式中，該壁具有 兩個不同斜率的側面，側面(Fl)具有相對于襯底16的表面為45。的斜率， 而側面(F2)具有相對于襯底16的表面為75。的斜率。在壁的頂部(S) 的切線(Dl)處測量的壁的厚度小于在其底部(B)處壁的厚度的10%。圖4e示出了具有變跡輪廓的壁的第三變例。在這種情況下，變跡是 通過使壁18的頂部(S)以及底部(B)處的邊緣平滑來形成，該平滑是 對稱的并生成高斯輪廓的變跡壁。透明襯底16可由各種廣泛用在眼科光學件中的聚合物材料的玻璃制 成。作為非限定的指示，可使用的聚合物材料包括聚碳酸酯材料；聚酰 胺；聚酰亞胺；聚砜；聚對苯二甲酸乙二醇酯/聚碳酸酯共聚物；聚烯烴， 尤其是聚降冰片烯；二甘醇雙(烯丙基碳酸酯)聚合物和共聚物；(甲基) 丙烯酸聚合物和共聚物，尤其是衍生自雙酚A的(甲基)丙烯酸聚合物和 共聚物；硫代(甲基)丙烯酸聚合物和共聚物；氨基甲酸酯和硫代氨基甲 酸酯聚合物和共聚物；環(huán)氧聚合物和共聚物；以及環(huán)硫化物聚合物和共聚 物。引入單元陣列的層17優(yōu)選位于其凸起的前表面12上，而凹入的后表 面13保持空閑，使得在需要時可選地通過機加工和拋光來成形。光學構件還可位于鏡片的凹入表面上。當然，光學構件還可引入到扁平的光學元 件內(nèi)。單元填充有液體或凝膠狀態(tài)下的具有光學特性的物質?？梢钥蛇x地實 施該構件前表面的前期處理，從而便于壁材料以及微腔底部的表面潤濕。 形成具有光學特性的物質的溶液或懸浮液對于陣列的所有微腔可以是相 同的，這種情況可通過以下方式被簡單地引入，即將構件浸入到合適的 溶池內(nèi)、采用絲網(wǎng)印刷類型的工藝、旋涂工藝、用輥或刮墨刀涂布所述物 質的工藝、或噴霧工藝。對于單個微腔還可使用噴墨頭局部注射。為了密封被填充的微腔陣列，例如應用了涂有粘合劑的塑料膜，其被 熱焊或熱壓到壁18的頂部上。還可將溶液中的可固化材料沉積到將封閉 的區(qū)域上，這種材料不與容納在微腔中的具有光學特性的物質混溶，并隨 后固化該材料，例如利用加熱或照射。一旦微腔15的陣列已經(jīng)完成，構件可接收附加層或涂層19、 20以完 成其制造。這種類型的構件大量生產(chǎn)并隨后被存儲以根據(jù)用戶需求在以后 再次取出和個別地切割。如果具有光學特性的物質不打算保留在液體或凝膠狀態(tài)下，可對其進 行固化處理，例如在物質已被沉積之后合適階段下進行加熱和/或照射程 序。在一個變例中。由微腔陣列組成的光學構件被構造為柔性透明膜形 式。這種膜可通過與上述那些技術類似的技術生成。在這種情況下，膜可 在平坦的襯底上，即沒有凸起或凹入的襯底上生成。該膜例如以工業(yè)規(guī)模來制造，具有相對大的尺寸，然后被切割到適當 的尺寸以被轉移到鏡片毛坯的襯底16上。這種轉移可通過幾種方式來進 行，即粘接柔性膜、熱形成膜或乃至采用真空物理粘和作用。接著該膜 可如先前情況下一樣接收各種涂層，或者可被轉移到襯底16上，該襯底如上所述本身涂覆有一個或多個附加層。在本發(fā)明的一個應用領域中，引入到微腔15內(nèi)的物質的光學特性是 其折射率。該物質的折射率在構件的表面上是變化的用以獲得校正鏡片。 在本發(fā)明的第一實施方式中，該變化可在制造微腔15陣列的過程中通過 引入不同折射率的物質來生成。在本發(fā)明的另一實施方式中，該變化可通過將折射率可在隨后利用照 射調(diào)節(jié)的物質引入到微腔15中來獲得。然后通過將鏡片毛坯IO或鏡片11 曝光到光線中來進行校正光學功能的寫入，該光線的能量在該表面上是變 化的以獲得期望的折射率分布，從而校正患者的視力。這種光線典型地由激光器產(chǎn)生，寫入裝置類似于用于蝕刻CD-ROM類或其它光存儲介質的 裝置。感光物質或多或少的曝光可由激光器能量的變化和/或曝光時間的選 擇而產(chǎn)生?？捎迷谶@種應用中的物質，例如可以由介孔材料(mesoporous materials)和液晶制成。液晶可通過例如照射所引起的聚合或固化反應來 凝固。因而，液晶可在選擇的狀態(tài)下被凝固以便在通過液晶的光波中引入 預定的光延遲。在采用介孔材料的情況下，材料的折射率通過其孔隙率的 變化來控制。另一種可能性是使用具有已知特性的光敏聚合物，其在照射 引起的固化反應進程中改變它們的折射率。這些折射率變化歸因于材料密 度的改變以及化學結構方面的變化。優(yōu)選的是使用固化反應期間僅經(jīng)受非 常小的體積變化的光敏聚合物。溶液或懸浮液的選擇性固化在射線下進行，該射線相對于構件的表面 是空間差異的(spatially differentiated)，從而獲得期望的折射率變化。這 種變化是根據(jù)對待校正患者眼睛的所估計的屈光異常而預先確定的。在本發(fā)明的另一應用中，以液體或凝膠形式引入到微腔中的物質具有 偏振特性?？捎迷谶@種應用中的物質中，特別地可以由液晶制成。在本發(fā)明的另一應用中，以液體或凝膠形式引入到微腔中的物質具有 光致變色特性?？捎迷谶@種應用中的物質中，作為例子可由包含中央單元 (central unit)如螺嗯嗪、螺吲哚啉[2，3']苯并惡嗪、苯并吡喃、螺嗪均 相金剛烷(spiroxazine homoazaadamantane)、螺芴雜環(huán)-(21"1)-苯并吡喃 (spirofluorene- (2H) -benzopyrane)或萘并[2，l-b]吡喃核的光致變色化合 物制成。在本發(fā)明中，具有光學特性的物質可以是能改變傳波程度的染料或顏料。
權利要求
1. 一種生產(chǎn)透明光學元件的方法，包括生產(chǎn)透明光學構件的步驟，該透明光學構件具有至少一個平行于所述構件的一個表面并置的單元陣列，每個單元被密封并含有具有光學特性的物質，這些單元由具有變跡輪廓的壁隔開。
2、 如權利要求1所述的方法，其中，所述壁的變跡輪廓是在所述壁 的至少一個邊緣的平滑步驟過程中獲得。
3、 如權利要求1和2中任一項所述的方法，其中，所述壁的變跡輪 廓是在所述壁的底部和/或頂部進行的平滑步驟過程中獲得。
4、 如前述任一項權利要求所述的方法，其中，所述平滑步驟在所述 壁的頂部的至少一個邊緣上進行。
5、 如前述任一項權利要求所述的方法，其中，所述平滑步驟在所述 壁的頂部的兩個邊緣上進行。
6、 如前述任一項權利要求所述的方法，其中，所述壁的變跡輪廓還 包括所述壁的生成，其中，所述壁的兩個側面的每個都具有平行于襯底表 面的相同的斜率。
7、 如前述任一項權利要求所述的方法，其中，所述壁的變跡輪廓還 包括所述壁的生成，其中，所述壁的兩個側面的每個都具有平行于襯底表 面的不同的斜率。
8、 如前述任一項權利要求所述的方法，其中，所述壁邊緣的平滑是 對稱的或不對稱的。
9、 如前述任一項權利要求所述的方法，其中，所述邊緣的平滑提供 了具有高斯輪廓的壁。
10、 如前述任一項權利要求所述的方法，其中，所述邊緣的平滑通過 化學的或物理化學的蝕刻工藝來進行。
11、 如權利要求IO所述的方法，其中，所述工藝是等離子蝕刻。
12、 如前述任一項權利要求所述的方法，其中，所述壁的變跡輪廓在 所述壁的生產(chǎn)過程中通過在所述生產(chǎn)方法中利用掩模來直接獲得，所述掩 模被放置在與構成所述壁的材料相距可變且可控的距離處。
13、 如權利要求12所述的方法，其中，生產(chǎn)所述壁的工藝選自于熱 印、熱模壓、微模塑、光刻、微沉積、絲網(wǎng)印刷或噴墨印刷。
14、 如權利要求13所述的方法，其中，所述生產(chǎn)工藝選自于微模塑 和光刻。
15、 如前述任一項權利要求所述的方法，其中，所述壁的變跡輪廓通 過在掩模下將蝕刻工藝與壁生產(chǎn)工藝相結合來獲得。
16、 如權利要求l所述的方法，其中，還包括沿所述表面上定義的輪 廓切割所述光學構件的步驟，所述輪廓與所述光學元件的定義的形狀相對應。
17、 如權利要求1-16中任一項所述的方法，其中，還包括穿過所述光 學構件鉆孔的步驟，用以將所述光學元件緊固到定位支撐件。
18、 如前述任一權利要求所述的方法，其中，所述光學構件的所述單 元陣列直接形成在剛性透明支撐件上，或形成在隨后被轉移到剛性透明支 撐件上的柔性透明膜內(nèi)。
19、 如權利要求18所述的方法，其中，所述剛性透明支撐件被選擇 為在容置所述單元陣列的側面上是凸起的、凹入的或平坦的。
20、 如前述任一項權利要求所述的方法，包括在襯底上形成具有變跡 輪廓的壁的陣列，以限定平行于所述構件的所述表面的單元；用液體或凝 膠形式的具有光學特性的物質集中地或單個地填充所述單元；以及在所述 單元的遠離所述襯底的相對側密封所述單元。
21、 一種光學構件，包括至少一個平行于所述構件的一個表面并置的 透明單元陣列，每個單元由具有變跡輪廓的壁隔開，每個單元被密封并含 有至少一個具有光學特性的物質。
22、 如權利要求21所述的光學構件，其中，包含在至少一些所述單 元中的具有光學特性的所述物質是液體或凝膠形式。
23、 如權利要求21或22所述的光學構件，其中，所述光學特性選自于著色特性、光致變色特性、偏振特性或折射率特性。
24、 如權利要求21-23中任一項所述的光學構件，其中，平行于所述 光學構件表面的所述單元，由厚度(e)在0.10^im到10(im之間的壁隔開。
25、 如權利要求24所述的光學構件，其中，所述壁的厚度在0.5|am到8jam之間。
26、 如權利要求24和25中任一項所述的光學構件，其中，所述壁的 底部的厚度大于所述壁的頂部的切向厚度。
27、 如權利要求26所述的光學構件，其中，所述壁的在其頂部(S) 的切向厚度為所述壁的底部(B)的厚度的5%到95%之間。
28、 如權利要求21-27中任一項所述的光學構件，其中，所述壁的高 度在liam到50i!m之間，并優(yōu)選在liam到20pm之間。
29、 如權利要求21-28中任一項所述的光學構件，其中，壁的所述兩 個側面是相同的或不同的。
30、 如權利要求21-29中任一項所述的光學構件，其中， 一個壁的側 面到平行于所述襯底表面的直線的斜率為90°到15°之間。
31、 如權利要求30所述的光學構件，其中， 一個壁的側面到平行于 所述襯底表面的直線的斜率為90°到45°之間。
32、 如權利要求21-31中任一項所述的光學構件，其中，填充系數(shù)在 90%到99.5%之間。
33、 如權利要求21-32中任一項所述的光學構件，其中，具有變跡輪 廓的所述壁具有至少一個平滑的邊緣。
34、 如權利要求21-33中任一項所述的光學構件，其中，所述壁在其 底部和/或頂部變跡。
35、 如權利要求21-34中任一項所述的光學構件，其中，所述壁在壁 的頂部的至少一個邊緣上變跡。
36、 如權利要求21-35中任一項所述的光學構件，其中，所述壁在壁 的頂部的兩個邊緣上對稱地或不對稱地變跡。
37、 如權利要求21-36中任一項所述的光學構件，其中，所述壁具有 平行于所述襯底表面的相同斜率的兩個側面。
38、 如權利要求21-36中任一項所述的光學構件，其中，所述壁具有平行于所述襯底表面的相同斜率的兩個側面。
39、 如權利要求21-38中任一項所述的光學構件在透明光學元件制造 中的用途，所述光學元件選自于眼科鏡片、隱形眼鏡、眼部植入物、用于 光學儀器的鏡片、濾光器、光學取景鏡片，眼睛護目鏡、用于照明裝置的光學件。
40、 一種眼鏡，通過切割如權利要求21-38中任一項所述的光學構件 來生產(chǎn)。
41、 如權利要求40所述的眼鏡，其中，穿過所述構件(10)鉆通至 少一個孔，用以將鏡片(11)緊固到眼鏡框。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種透明光學構件(10)，該透明光學構件包括至少一個平行于所述構件的表面并置的透明單元陣列(15)，每個單元由具有平行于所述構件表面的變跡輪廓的壁(18)隔開，以及每個單元被密封并含有至少一個具有光學特性的物質。特別是所述單元(15)可具有由壁形成的高斯輪廓。本發(fā)明還涉及一種用于制造這種光學構件的方法及其用于制造光學元件的用途。特別地所述光學元件可以是眼鏡。
文檔編號G02F1/1339GK101268404SQ200680034140
公開日2008年9月17日 申請日期2006年7月13日 優(yōu)先權日2005年7月20日
發(fā)明者克里斯蒂安·博韋, 吉勒·馬蒂厄, 讓-保羅·卡諾 申請人:埃西勒國際通用光學公司