專利名稱：制造顯示面板的設備和方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種用于顯示裝置的顯示面板的制造設備和制造方法。
背景技術：
液晶顯示器(LCD)是目前各種平板顯示器中應用最廣泛的。普通的LCD包括兩個面板和置于這兩個面板之間的液晶層，其中，這兩個面板設有場發(fā)生電極例如像素電極和共電極。LCD通過向場發(fā)生電極施加電壓在液晶層中產(chǎn)生電場，從而確定液晶層的液晶分子的取向，從而控制入射到液晶層的光的偏振。這種偏振可用來阻擋光穿過液晶層或者允許光穿過液晶層?？刹贾枚鄠€像素以顯示圖像，多個像素均控制液晶層中產(chǎn)生的電場來阻擋或透過光。
為了制造這種液晶顯示器，需要將多層薄膜圖案化。為此通常采用光刻工藝。
然而，因為光刻工藝包括非常復雜的步驟，例如包括薄膜的沉積、曝光、顯影、蝕刻和灰化，所以需要長的工藝時間和昂貴的設備。因此，這使得在生產(chǎn)液晶顯示器時制造時間加長且制造成本增加。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一方面在于提供一種制造顯示面板的設備和一種利用該設備制造顯示面板的方法，該方法的優(yōu)點在于無需光刻工藝利用薄膜就可以有效并精確地圖案化。
根據(jù)本發(fā)明的制造顯示面板的設備的一個示例性實施例包括安放部分，顯示面板設置在安放部分中，安放部分具有至少一個透光部分；模，設置在安放部分上，并包括至少一個定位鍵和圖案形成部分；模驅動器，用于驅動模；定位傳感器，設置在安放部分的下方，并通過透光部分確定顯示面板和模是否無誤差地對齊。
根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例，安放部分可包括固定吸盤，用來固定設置的顯示面板；支持件，用來支撐固定吸盤，透光部分可形成在固定吸盤內(nèi)。
根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例，定位鍵可包括突出和被突出包圍的凹進。
根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例，該設備還可包括形成在定位鍵的表面上的不透明膜。
根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例，不透明膜可包括金屬層、金屬氧化物膜和無機膜中的至少一個。
本發(fā)明的另一示例性實施例提供了一種用于制造顯示裝置的設備的模部件，其中，模部件要與安放部分接觸，該模部件包括主體；至少一個圖案形成部分，從對應于要形成在顯示面板上的預定圖案的主體突出；至少一個定位鍵，形成在主體上，以確定顯示面板和主體是否對齊；不透明膜，形成在定位鍵的表面上。
根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例，定位鍵具有突出和被突出圍繞的凹進。
根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例，不透明膜包括金屬層、金屬氧化物膜和無機膜中的至少一個。
本發(fā)明的另一示例性實施例提供了一種制造顯示面板的方法，該方法包括設置包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)的顯示面板，其中，非顯示區(qū)在顯示區(qū)的周圍形成并包括形成在非顯示區(qū)中的至少一個第一定位鍵；將顯示面板布置在具有透光部分的安放部分中；在顯示面板上涂覆有機膜；利用包括至少一個第二定位鍵和圖案形成部分的模壓制有機模；通過透光部分確定第一定位鍵和第二定位鍵的對齊狀態(tài)來無誤差地對齊顯示面板和模；使有機膜硬化；從硬化的有機膜去除模。
根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例，該方法還可包括在去除模之后蝕刻有機膜。
根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例，確定顯示面板和模是否無誤差地對齊的步驟可包括照射穿過透光部分的定位感測光；通過感測來自第一定位鍵或第二定位鍵的定位感測光的反射來確定第一定位鍵和第二定位鍵的位置關系。
根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例，該方法還可在確定顯示面板和模是否無誤差地對齊的步驟和使有機膜硬化的步驟之間包括一個步驟，所述步驟包括通過相對地移動顯示面板和模中的至少一個來對齊顯示面板和模。
根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例，使有機膜硬化的步驟可使用熱硬化和紫外線硬化中的至少一種。
根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例，該方法還可包括在使有機膜硬化的步驟中使用紫外線硬化時，額外地硬化位于與第二定位鍵對應的這部分處的有機膜。
根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例，有機膜可以是樹脂膜。
本發(fā)明的又一示例性實施例提供了一種制造顯示面板的方法，該方法包括在基底上形成柵極線；在柵極線上形成柵極絕緣層；在柵極絕緣層上形成半導體層和歐姆接觸層；在柵極絕緣層和歐姆接觸層上形成包括源電極的數(shù)據(jù)線；形成與源電極相對并與之隔開預定間隔的漏電極；在數(shù)據(jù)線和漏電極上形成鈍化層；在鈍化層上形成與漏電極連接的像素電極，其中，前述步驟中的至少一個包括在顯示面板上涂覆有機膜；利用模壓制有機膜；確定基底和模是否無誤差地對齊；使有機膜硬化；從硬化的有機膜去除模。
根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例，顯示面板可包括反射區(qū)和透射區(qū)，其中，鈍化層的形成步驟可包括在基底上涂覆有機膜；利用設置有突出與突出和凹陷圖案的模壓制有機膜，當對有機膜應用突出時，突出在有機膜中形成接觸孔，當對有機膜應用突出和凹陷圖案時，突出和凹陷圖案使圖案凸出在有機膜上；確定基底和模是否無誤差地對齊；使有機膜硬化；通過從硬化的有機膜去除模來完成具有凸出表面和接觸孔的鈍化層。
根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施例，該方法還可包括通過蝕刻被鈍化層的接觸孔暴露的柵極絕緣層使柵極線的一部分暴露。


圖1是根據(jù)本發(fā)明的用于制造顯示面板的設備的示例性實施例的剖視圖；圖2A是在根據(jù)本發(fā)明的制造顯示面板的方法的示例性實施例的中間步驟中的顯示面板的頂視平面圖；圖2B是沿著圖2A中的IIb-IIb′線截取的顯示面板的剖視圖；
圖2C至圖2F是在根據(jù)本發(fā)明的制造顯示面板的方法的示例性實施例的中間步驟中的顯示面板和用于制造該顯示面板的設備的剖視圖；圖2G和圖2H是示出從安放部分下方的定位傳感器看到的圖2F的區(qū)域“A”中的第一定位鍵和第二定位鍵的位置關系的視圖；圖2I和圖2J是在根據(jù)本發(fā)明的制造顯示面板的方法的示例性實施例的中間步驟中的顯示面板和用于制造該顯示面板的設備的剖視圖；圖2K是在根據(jù)本發(fā)明的制造顯示面板的方法的示例性實施例的中間步驟中的顯示面板的剖視圖；圖3是包括通過根據(jù)本發(fā)明的制造顯示面板的方法的示例性實施例制造的顯示面板的示例性實施例的液晶顯示器的頂視平面圖；圖4和圖5分別是沿著圖3中的IV-IV′線和V-V′線截取的液晶顯示器的剖視圖；圖6、圖8、圖10和圖12是分別與根據(jù)本發(fā)明的制造顯示面板的方法的示例性實施例的中間步驟對應的圖3中示出的顯示面板的示例性實施例的頂視圖；圖7是沿著圖6中的VII-VII′線截取的顯示面板的示例性實施例的剖視圖；圖9是沿著圖8中的IX-IX′線截取的顯示面板的示例性實施例的剖視圖；圖11是沿著圖10中的XI-XI′線截取的顯示面板的示例性實施例的剖視圖；圖13是沿著圖12中的XIII-XIII′線截取的顯示面板的示例性實施例的剖視圖。
具體實施例方式
在下文中，現(xiàn)在將參照附圖來更充分地描述本發(fā)明，附圖中示出了本發(fā)明的實施例。然而，本發(fā)明可以以許多不同的形式實施，并且本發(fā)明不應被理解為局限于這里闡述的實施例。當然，提供這些示例性實施例使得本公開是徹底且完全的，這些示例性實施例將本發(fā)明的范圍充分地傳達給本領域的技術人員。相同的標號始終表示相同的元件。
應該理解，當元件被稱作“在另一元件上”時，該元件可直接在另一元件上，或者也可存在中間元件。相反，當元件被稱作“直接在另一元件上”時，不存在中間元件。如這里所用的，術語“和/或”包括相關的所列項的一個或多個的任意組合和全部組合。
應該理解，盡管在這里會用術語第一、第二、第三等來描述各種元件、組件、區(qū)域、層和/或部分，但是這些元件、組件、區(qū)域、層和/或部分不應被這些術語所限制。這些術語僅用來將一個元件、組件、區(qū)域、層或部分與另一元件、組件、區(qū)域、層或部分區(qū)別開來。因此，在不脫離本發(fā)明教導的情況下，下面討論的第一元件、組件、區(qū)域、層或部分可被稱為第二元件、組件、區(qū)域、層或部分。
這里所用的術語僅是為了描述具體的實施例，而不是用來限制本發(fā)明。如這里所用的，除非上下文明確地指明，否則單數(shù)形式也包括復數(shù)形式。還應該理解，術語“包含”或“包括”用在本說明書中時說明所述零件、區(qū)域、整體、步驟、操作、元件和/或組件的存在，而不排除一個或多個其它零件、區(qū)域、整體、步驟、操作、元件、組件和/或它們的組的存在或添加。
此外，關系術語例如“下面的”或“底部”與“上面的”或“頂部”可用來描述如圖中示出的一個元件與其它元件的關系。應該理解，除了圖中描述的方位之外，關系術語用來包括裝置的不同方位。例如，如果將一幅圖中的裝置翻轉，則被描述為在其它元件“下面”的元件將隨后會位于其它元件“上面”。因此，基于圖中的具體方位，示例性術語“在…下面”可包含“在…下面”和“在…上面”兩種方位。同樣，如果將一幅圖中的裝置翻轉，則被描述為在其它元件“之下”或“下面”的元件將隨后會位于其它元件“之上”。因此，示例性術語“在…之下”或“在…下面”可包括在…之上和在…之下兩種方位。
這里所用的所有術語(包括技術和科學術語)除非另行定義，否則具有本發(fā)明所屬領域中一名普通技術人員通常所理解的意思。術語，例如通常使用的詞典中定義的術語，應被解釋為與相關領域的范圍中的含義相一致的含義，除非這里特別地如此限定，否則不要以理想化的或過于正式的意義來解釋術語。
在這里參照剖視圖來描述本發(fā)明的實施例，剖視圖是本發(fā)明的理想化實施例的示意性圖示。同樣，結果所圖示的形狀的變化，例如制造技術和/或公差的變化是在預料之中的。因而，本發(fā)明的實施例不應被理解為局限于這里圖示的區(qū)域的特定形狀，而是包括例如由制造所造成的形狀上的偏差。例如，示出或描述為平坦的區(qū)域通?？删哂写植诤?或非線性特征。另外，示出的銳角可能為倒圓角。因而，圖中示出的區(qū)域實質上是示意性的，它們的形狀并不用來說明裝置的區(qū)域的實際形狀，因而不用來限制本發(fā)明的范圍。
在下文中，將參照附圖來詳細描述本發(fā)明。
現(xiàn)在將參照圖1來描述根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的制造顯示面板的設備。
圖1是根據(jù)本發(fā)明的用于制造顯示面板的設備的示例性實施例的剖視圖。
根據(jù)本發(fā)明的用于制造顯示面板的設備的示例性實施例包括安放(arriving)部分40、模驅動器50、模60和定位傳感器70。
在圖1中，由于顯示面板10不是設備本身的一部分，所以用虛線示出顯示面板10，顯示面板10是將由該設備執(zhí)行工作的目標。顯示面板10包括基底12、將被圖案化的薄膜14和顯示面板定位鍵(alignment key)16。
工作目標顯示面板10放置在安放部分40上，安放部分40包括固定吸盤(fixing chuck)42和用來支撐固定吸盤42的支撐件46，固定吸盤42用來防止顯示面板10在制造過程中移動。
固定吸盤42包括真空吸盤和靜電吸盤中的至少一個，以將顯示面板10保持在適當?shù)奈恢谩Ｍ腹獠糠?4形成在固定吸盤42中。透光部分44使定位傳感器70能夠確定顯示面板10和模60的對齊狀態(tài)。透光部分被形成為具有比顯示面板定位鍵16的橫截面積寬的橫截面積。透光部分44可以是穿過固定吸盤的孔或是被透明玻璃阻擋的孔等，使得光可經(jīng)過透光部分44透射。
布置由模驅動器50驅動的模60，使得模60可與安放部分40接觸。模60包括主體62、圖案形成部分64和模定位鍵66，圖案形成部分64從主體62向安放部分40突出并具有預定圖案。圖案形成部分64包括不同形狀的突出64a和64b，用于開始與顯示面板10接觸時形成特定圖案。模定位鍵66形成在模60的與顯示面板定位鍵16對應的位置上。模定位鍵66包括突出66a和被突出66a圍繞的凹進66b。
不透明膜68均勻地設置在模定位鍵66的表面上，用來反射或吸收被照射的感測光。可以由定位傳感器70或由另一光源(未示出)來提供被照射的感測光。不透明膜68包括金屬膜、金屬氧化物膜和無機膜中的至少一種。由于形成在模定位鍵66的突出66a和凹進66b上的不透明膜68使得模定位鍵66的突出66a和凹進66b在視覺上可識別。因此，在模定位鍵的背面上看，用顯示面板定位鍵16可容易地確定對齊的狀態(tài)。
定位傳感器70設置在安放部分40下方。定位傳感器70可通過檢測經(jīng)過透光部分44反射的被照射的感測光來確定顯示面板定位鍵16和模定位鍵66的對齊狀態(tài)。
雖然未示出，但是將在下面描述的用來使有機膜硬化的紫外線光照射部分可安置在模60的上部。
在本發(fā)明的示例性實施例中，如果定位傳感器70設置在安放部分40的下部，則具有用其它可能具有不同圖案部分的模來容易地替代模驅動器50和紫外線光照射部分(未示出)的優(yōu)點，模驅動器50和紫外線光照射部分安置在用來制造顯示面板的設備的模部件中。此外，由于模驅動器50位于顯示面板10的上部并且用于紫外線硬化的紫外線光照射部分(未示出)也位于顯示面板10的上方，所以即使在狹窄的空間內(nèi)也可容易地進行壓印光刻(imprintlithography)工藝，從而提高了制造效率。
現(xiàn)在，將參照圖2A至圖2K來描述根據(jù)本發(fā)明的制造顯示面板的方法的示例性實施例。
圖2A是在根據(jù)本發(fā)明的制造顯示面板的方法的示例性實施例的中間步驟中的顯示面板的頂視圖，圖2B是沿著圖2A中的IIb-IIb′線截取的顯示面板的剖視圖，圖2C至圖2F是在根據(jù)本發(fā)明的制造顯示面板的方法的示例性實施例的中間步驟中的顯示面板和用于制造顯示面板的設備的剖視圖。圖2G和圖2H是示出從安放部分下方的定位傳感器看到的圖2F的區(qū)域“A”中的第一定位鍵和第二定位鍵的位置關系的視圖，圖2I和圖2J是在根據(jù)本發(fā)明的制造顯示面板的方法的示例性實施例的中間步驟中的顯示面板和用于制造顯示面板的設備的剖視圖，圖2K是在根據(jù)本發(fā)明的制造顯示面板的方法的示例性實施例的中間步驟中的顯示面板的剖視圖。
首先，如圖2A和圖2B中所示，設置了制造工藝的目標的顯示面板10。
顯示面板10用在平板顯示裝置中，例如除了液晶顯示器之外的有機發(fā)光二極管(OLED)顯示器、等離子體顯示面板(PDP)、電泳顯示(EPD)裝置或其它類似的顯示器中。顯示面板10設有顯示區(qū)和非顯示區(qū)，其中，非顯示區(qū)形成在顯示區(qū)的周圍。
顯示面板10包括由透明玻璃或其它具有相似性質的材料制成的基底12、薄膜14和顯示面板定位鍵16，其中，薄膜14和顯示面板定位鍵16形成在基底12上。
薄膜14可以是已形成有特定圖案的薄膜，或者是需要形成特定圖案的薄膜。特定圖案可以是凹進、突出、用來驅動顯示裝置的信號線或其它相似的圖案。
雖然在該示例性實施例中，薄膜14僅形成在顯示區(qū)中，但是在可替換的構造中，薄膜14也可形成在非顯示區(qū)中。
顯示面板定位鍵16單獨地形成在沿著顯示面板10的非顯示區(qū)的縱向的兩個相對的角落中。這些顯示面板定位鍵16要用來確定顯示面板10的布置位置。通過在基底12上使包括金屬膜、金屬氧化物膜和無機膜中的至少一種的薄膜圖案化來形成顯示面板定位鍵16?？赏ㄟ^根據(jù)本示例性實施例的壓印光刻工藝使顯示面板定位鍵16圖案化，也可通過光刻工藝使顯示面板定位鍵16圖案化。
可選擇的示例性實施例包括顯示面板定位鍵16可單獨地形成在顯示面板10的非顯示區(qū)的橫向的兩個相對的角落中的構造，或者包括顯示面板定位鍵16可單獨地形成在對角線方向上的兩個角落中的構造。此外，顯示面板定位鍵16的數(shù)量可以按需求為一個、三個或多個。
此后，如圖2C中所示，將顯示面板10設置并固定在安放部分40上。
然后，如圖2D中所示，在顯示面板10上涂覆有機膜17。
通過旋涂法或狹縫涂覆法以凝膠形式或具有流動性的液體形式在顯示面板10上涂覆有機膜17。有機膜17保護下面的薄膜14，并作為用于使其它膜(未示出)絕緣的絕緣層，所述其它膜可形成在薄膜14上面或下面。有機膜17可形成特定圖案并執(zhí)行與光刻工藝中的光敏膜相同的功能。當以這樣的方式使用薄膜時，這種技術稱為壓印光刻。因為有機膜17包含熱硬化劑和紫外線硬化劑中的至少一種，所以可通過加熱或紫外線來使有機膜17硬化。
在本示例性實施例中，在將顯示面板10設置在安放部分40上之后，將有機膜17涂敷在顯示面板10上，但是本發(fā)明不局限于此。即，有機膜17可在將顯示面板10設置在安放部分40上之前涂敷在顯示面板10上。
此后，如圖2E和圖2F中所示，通過模60對涂覆的有機膜17施加壓力。通過在有機膜17的上部上定位模60并驅動模驅動器50來施加壓力，從而在有機膜17中形成特定圖案。
圖案形成部分64由不同形狀的突出64a和64b組成。因此，當施加壓力時，有機膜17變成具有與模60的突出64a和64b的形狀分別對應的壓制部分18a和18b的壓制的有機膜18。圖案形成部分64a和64b中的每個可形成為具有不同的高度。如果適當?shù)剡x擇圖案形成部分64a和64b的高度，則當進行壓制時，突出64a和64b中的每個的上表面可與薄膜14完全的緊密接觸。
此后，如圖2F中所示，定位傳感器70設置在安放部分40的下部，并且穿過透光部分44朝著區(qū)域“A”上的顯示面板定位鍵16和模定位鍵66照射感測光。然后，定位傳感器70確定顯示面板10和模60是否對齊。
對齊顯示面板10和模60之間的相互位置十分重要，以在顯示面板10的期望區(qū)域內(nèi)形成特定圖案。可通過照射感測光來確定顯示面板定位鍵16和模定位鍵66之間的對齊位置和對齊誤差以確定位置對齊，從而精確地對齊顯示面板10和模60。
圖2G示出了精確對齊顯示面板定位鍵16和模定位鍵66的示例，圖2G表明，顯示面板10和模60在恰當?shù)奈恢脤R，并且在顯示面板10和模60之間沒有產(chǎn)生對齊誤差。相反，在圖2H中，因為顯示面板定位鍵16和模定位鍵66沒有處于對齊的位置，所以產(chǎn)生了對齊誤差，因此，顯示出顯示面板10和模60沒有在恰當?shù)奈恢脤R。
因此，與圖2G中的沒有對齊誤差的情形不同，當產(chǎn)生對齊誤差時，例如在圖2H中所示，執(zhí)行校正對齊誤差的步驟。在使壓制的有機膜18硬化之前，通過相對于彼此移動顯示面板10和模60中的至少一個來執(zhí)行校正步驟。即，通過相對地移動安放部分40和模60中的至少一個來精確地對齊顯示面板10和模60。
在精確地對齊顯示面板10和模60之后，如圖2I中所示，在模60的上部確定紫外線光照射部分(未示出)的位置之后，通過將紫外光照射到壓制的有機膜18來使壓制的有機膜18硬化。當通過照射紫外線使壓制的有機膜18硬化時，模60可由使紫外光穿過的透明材料聚二甲基硅氧烷制成。
在可選擇的示例性實施例中，可通過熱硬化使壓制的有機膜18硬化。當用熱來使壓制的有機膜18硬化時，模60可由不透明材料制成。
然而，位于模定位鍵66下部的B部分中的不透明膜68在壓制的有機膜18的紫外線硬化過程中阻擋了紫外光。因此，在這部分沒有進行硬化。因此，除了與位于模定位鍵66下面的B部分對應的壓制的有機膜18之外，對包括壓制部分18a和18b的整個壓制的有機膜18進行了硬化。
此后，如圖2J中所示，從硬化的有機膜19去除模60。
當去除模60時，因為在B部分沒有進行紫外線硬化且這部分處于液態(tài)或凝膠態(tài)，所以模60易于去除。因此，在去除模60的過程中可減少對不透明膜68的損壞。因此，即使施加壓力并隨后去除模60時，也可確保不透明膜68的固有性能。當通過紫外線使壓制的有機膜18硬化時，不透明膜68通過防止下面的壓制的有機膜18硬化而使得模60易于與有機膜分開。因此，進一步延長了不透明膜68的替換時間，從而降低了顯示面板的制造成本。在B部分中，在去除模60之后，通過利用單獨的紫外光或熱的硬化工藝來進行硬化。
另一方面，可用熱硬化來代替紫外線硬化。當進行熱硬化時，B部分也和其它部分一樣被硬化。因此，不透明膜68優(yōu)選地包括金屬膜、金屬氧化物膜和強無機膜(strong inorganic film)中的至少一種；從而可減少對不透明膜68的損壞。因此，延長了不透明膜68的替換時間，從而降低了顯示面板的制造成本。
在用模60壓制的有機膜17的過程中，當模60的圖案形成部分64與薄膜14變得完全的緊密接觸時，將涂覆薄膜14的與那些圖案形成部分64對應的上部的有機膜17壓離或擠離薄膜14，從而，在完全的緊密接觸之處幾乎沒有或沒有留下有機膜17。因此，參照圖2K，通過硬化工藝直接形成具有預定圖案21和22的有機膜20。因此，如果有機膜20的成形是顯示面板制造中的最后一步，例如如下面描述的有機膜20用來形成鈍化層180或無機絕緣體187，則不需要蝕刻工藝。
然而，如圖2F、圖2I和圖2J中所示，當應該暴露下面的薄膜14的預定部分且有機膜19殘留在硬化的有機膜19的壓制部分19a和19b中時，通過蝕刻整個硬化的有機膜19來暴露薄膜14的預定部分，如圖2K中所示。
有機膜20可在沉積工藝中用作掩模。有機膜20下方的區(qū)域不會容納任何將要沉積在其上的材料，而剩下的暴露的區(qū)域將容納沉積物。如果利用圖案化的有機膜作為蝕刻掩模來蝕刻下面的薄膜14，則可通過去除薄膜14的沒有被有機膜20覆蓋的區(qū)域來使薄膜14圖案化。有機膜20還可用作顯示面板10的組成元件。當殘留的有機膜20沒有用作顯示面板10的組成元件時，可通過單獨的蝕刻工藝來去除殘留的有機膜20，然后，可用正在蝕刻的薄膜14或在薄膜14頂部上的成為新薄膜14的新沉積的層再次進行壓印光刻的工藝。
在根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的顯示面板的制造設備和制造方法中，為了在薄膜上形成特定圖案，無需現(xiàn)有光刻工藝使用的工藝例如曝光和顯影，通過利用模60的壓制工藝即可容易地形成特定圖案。這種工藝稱作壓印光刻工藝，可通過減少在光刻工藝中需要大量時間和成本的工藝例如曝光和顯影來提高制造效率。
因此，如果通過采用根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的使用壓制模60的壓印光刻工藝來制造顯示面板，則可有效精確地對特定材料進行圖案化。
現(xiàn)在，將參照圖3至圖13來詳細描述根據(jù)本發(fā)明另一示例性實施例的制造顯示面板的方法。根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的顯示面板用于透反射型液晶顯示器。
首先，將參照圖3至圖5來詳細描述包括用根據(jù)本發(fā)明的制造顯示面板的方法制造的顯示面板的液晶顯示器的示例性實施例。
圖3是包括通過根據(jù)本發(fā)明的制造顯示面板的方法制造的顯示面板的示例性實施例的液晶顯示器的頂視平面圖，圖4和圖5分別是沿著圖3中的IV-IV′線和V-V′線截取的液晶顯示器的剖視圖。
包括根據(jù)本發(fā)明制造的顯示面板的液晶顯示器的示例性實施例包括薄膜晶體管陣列面板100；共電極面板200，與薄膜晶體管陣列面板100相對；液晶層3，置于薄膜晶體管陣列面板100和共電極面板200之間，并包括相對于兩個顯示面板100和200的表面豎直和水平取向的液晶分子。
可以通過90°扭轉式向列(TN)法、豎直對齊(VA)法或電控雙折射(ECB)法來使液晶層3取向。
首先，如圖3和圖5中所示，在薄膜晶體管陣列面板100中，多條柵極線121和多條存儲電極線131形成在絕緣基底110上，絕緣基底110由諸如透明玻璃或者其它相似材料的材料制成。雖然在前面的圖中沒有示出，但是絕緣基底110可以是單獨形成在基底12的頂部上的基底?？蛇x擇地，絕緣基底110可由基底12的全部組成，或者僅由基底12的一部分組成。
柵極線121主要在水平方向上延伸，彼此分開且傳輸柵極信號。各柵極線121具有多個包括柵電極124的突出，柵極線121一端的延伸部分125具有用來與外部電路(未示出)連接的寬區(qū)域。
存儲電極線131主要在豎直方向上延伸，并包括多個包括存儲電極133的突出。向存儲電極線131施加預定電壓，預定電壓例如為施加到共電極面板200的共電極270的共電壓。
優(yōu)選地，柵極線121和存儲電極線131由諸如鋁(Al)或鋁合金的鋁金屬、諸如銀(Ag)或銀合金的銀金屬、諸如銅(Cu)或銅合金的銅金屬、諸如鉬(Mo)或鉬合金的鉬金屬、鉻(Cr)、鈦(Ti)、鉈(Ta)或其它具有相似性質的物質制成。
柵極線121和存儲電極線131可包括兩層，例如包括具有不同物理性質的下層(未示出)和上層(未示出)。在這種構造中，上層可由低電阻率的金屬制成，例如由諸如鋁(Al)或鋁合金的鋁金屬制成，以減少柵極線121和存儲電極線131的信號延遲或壓降。這種構造的下層由與其它材料(具體地講，為氧化銦錫(ITO)和氧化銦鋅(IZO))具有優(yōu)良的接觸性能的諸如鉬(Mo)、鉬合金、鉻(Cr)或其它類似物質的材料制成。下層和上層的組合可包括例如鉻和鋁-釹(Nd)合金。
可選擇的示例性實施例包括柵極線121和存儲電極線131可具有單層結構或者包括三層或更多層結構的構造。
此外，柵極線121和存儲電極線131的側表面相對于基底110的表面傾斜，并具有大約20°至大約80°的傾角。
例如，由硅氮化物(SiNx)制成的柵極絕緣層140形成在柵極線121和存儲電極線131上。
由氫化非晶硅(α-Si)、多晶硅等制成的多個半導體帶151形成在柵極絕緣層140的上部。半導體帶151主要在豎直方向上延伸，多個突出154從半導體帶151朝著柵電極124延伸，多個延伸部分157從半導體帶151延伸。此外，因為半導體帶151在其與柵極線121和存儲電極線131相交處周圍具有較寬的寬度，所以半導體帶151實質上增大了由柵極線121和存儲電極線131覆蓋的表面積。
在半導體帶151的上部，形成多個歐姆接觸帶161和歐姆接觸島165。歐姆接觸帶161和歐姆接觸島165由諸如以高濃度摻雜n-型雜質或硅化物的n+氫化非晶硅的材料制成。歐姆接觸帶161具有多個突出163，突出163和歐姆接觸島165成對地形成并位于半導體帶151的突出154上。
半導體帶151、歐姆接觸161和165的側表面也相對于基底110的表面傾斜，且其傾角為大約30°至大約80°。
彼此分開的多條數(shù)據(jù)線171和多個漏電極175形成在歐姆接觸161和165及柵極絕緣層140上。
數(shù)據(jù)線171主要在豎直方向上延伸，以與柵極線和存儲電極線131相交。數(shù)據(jù)線171傳遞數(shù)據(jù)電壓。各數(shù)據(jù)線171包括其一端具有寬區(qū)域的延伸部分179，以與其它層或外部設備(未示出)連接。
各漏電極175包括與一個存儲電極133疊置的延伸部分177。數(shù)據(jù)線171包括多個突出，沿著數(shù)據(jù)線171的長度方向；長度部分，包括構成源電極173的突出。源電極173圍繞漏電極175的一個端部的一部分。柵電極124、源電極173、漏電極175和半導體帶151的突出154構成薄膜晶體管(TFT)，薄膜晶體管的溝道形成在源電極173和漏電極175之間的突出154中。
優(yōu)選地，數(shù)據(jù)線171和漏電極175由難熔金屬制成，例如由鉭、鈦、鉻和鉬制成。數(shù)據(jù)線171和漏電極175可以具有多層結構，多層結構由用鉬(Mo)、鉬合金或鉻(Cr)制成的下層(未示出)和用鋁金屬制成的上層(未示出)組成。上層位于下層之上。
與柵極線121和存儲電極線131相似，數(shù)據(jù)線171和漏電極175的側表面相對于其上形成有數(shù)據(jù)線171和漏電極175的層傾斜，其傾角為大約30°至大約80°。
歐姆接觸帶161、半導體帶上的突出163和歐姆接觸島165在下面的半導體帶151與上面的數(shù)據(jù)線171和漏電極175之間為層狀結構，并執(zhí)行降低它們之間的接觸電阻的功能。各半導體帶151具有未被數(shù)據(jù)線171、漏電極175或歐姆接觸161、163和165覆蓋而暴露的暴露部分(例如，源電極173和漏電極175之間的部分)。
由無機材料硅氮化物或硅氧化物制成的鈍化層180形成在半導體帶151的暴露部分、數(shù)據(jù)線171和漏電極175上。由具有優(yōu)良的平坦化性質和光敏性的有機材料制成的有機絕緣體187形成在鈍化層180的上方。有機絕緣體187的表面具有突出和凹陷圖案(例如波狀圖案)，從而使將設置在有機絕緣體187上的反射電極194(將在下面描述)的反射效率最大化。分別在柵極線121的延伸部分125和數(shù)據(jù)線171的延伸部分179，去除有機絕緣體187，而僅保留鈍化層180。
用來暴露數(shù)據(jù)線171的延伸部分179的接觸孔183和與柵極絕緣層140一起用來暴露柵極線121的延伸部分125的接觸孔182形成在鈍化層180中。另外，用來暴露漏電極175的延伸部分177的接觸孔185形成在鈍化層180和有機絕緣體187中。接觸孔182、183和185可以形成為各種形狀，例如形成為多邊形或圓形形狀，這些接觸孔的側壁傾斜成大約30°至大約85°的角度，或者可選擇地具有階梯形狀。
多個像素電極190形成在有機絕緣體187上。
各像素電極190包括透明電極192和反射電極194，反射電極194形成在透明電極192的上部上。透明電極192由透明導電材料ITO或IZO中的至少一種制成，反射電極194由不透明且具有反射能力的鋁或鋁合金、銀或銀合金或其它具有相似性質的物質制成。像素電極190還可包括接觸輔助層(未示出)，接觸輔助層由鉬或鉬合金、鉻、鈦、鉭或具有相似性質的其它物質制成。接觸輔助層確保透明電極192和反射電極194的接觸性能，并執(zhí)行防止透明電極192氧化反射電極194的功能。
參照圖3，一個像素大致上劃分為透射區(qū)TA 195和反射區(qū)RA。透射區(qū)TA 195是去除反射電極194的區(qū)域，反射區(qū)RA是涂敷反射電極194的區(qū)域。在透射區(qū)TA 195中去除有機絕緣體187，兩個基底100和200之間的液晶層在透射區(qū)TA 195中，液晶層橫跨兩個基底100和200之間的單元間隙(cell gap)或距離是反射區(qū)RA中的該單元間隙的大約兩倍大小。因此，光穿過液晶層3時產(chǎn)生的光程差的效果可補償反射區(qū)RA和透射區(qū)TA中的光。
像素電極190通過接觸孔185與漏電極175的延伸部分177物理地且電連接，以從漏電極175接收數(shù)據(jù)電壓。對其施加數(shù)據(jù)電壓的像素電極190與共電極270在液晶層3中產(chǎn)生電場，從而使像素電極190和共電極270之間的液晶分子重新取向。
此外，因為各像素電極190和共電極270構成電容器(以下稱作“液晶電容器”)，所以即使薄膜晶體管截止之后，它們也會保持施加的電壓。為了提高電壓存儲能力，設置了另一個與液晶電容器并聯(lián)連接的電容器，該電容器稱為存儲電容器。
通過將漏電極175的延伸部分177和存儲電極133疊置來形成存儲電容器?？蛇x擇的示例性實施例包括通過將像素電極190和與其相鄰的柵極線121疊置來形成存儲電容器的構造。在該可選擇的示例性實施例中，可省略存儲電極線131。
像素電極190與柵極線121和鄰近柵極線121的數(shù)據(jù)線171疊置，以提高開口率，但是像素電極190不是必須與柵極線121和數(shù)據(jù)線171疊置。
像素電極190的可選擇的示例性實施例包括其包含透明導電聚合物的構造。另外，在液晶顯示器為反射型顯示器的示例性實施例中，像素電極190可由不透明的反射材料制成。
多個接觸輔助件95和97形成在數(shù)據(jù)線的延伸部分179和柵極線的延伸部分125處的鈍化層180上。接觸輔助件95通過接觸孔182與柵極線121的延伸部分125連接，接觸輔助件97通過接觸孔183與數(shù)據(jù)線171的延伸部分179連接。接觸輔助件95和97執(zhí)行補充柵極線121的延伸部分125和數(shù)據(jù)線171的延伸部分179與外部設備(未示出)之間的粘附并保護這些延伸部分125和179的功能。然而，接觸輔助件95和97不是必需的，因此，它們的有無是可選擇的。此外，接觸輔助件95和97可與透明電極192或反射電極194同時形成。
稱作黑矩陣的光阻擋構件220形成在由絕緣材料如透明玻璃制成的基底210上，并形成在與薄膜晶體管陣列面板100相對的共電極面板200中。光阻擋構件220防止不同像素的像素電極190之間光泄漏，并限定與像素電極190相對的組成單個像素的顯示區(qū)的開口區(qū)。
多個濾色器230形成在基底210和光阻擋構件220上。各濾色器230可顯示三原色(如紅色、綠色和藍色)中的一種。濾色器230設置在透射區(qū)TA 195和反射區(qū)RA的上方。多個濾色器230中的每個位于兩條相鄰的數(shù)據(jù)線171之間，并可布置在豎直方向上，且互相連接，從而形成一條帶?？蛇x擇的示例性實施例包括濾色器230以對角線或三角形圖案布置的構造。
根據(jù)反射區(qū)RA和透射區(qū)TA中的光穿過濾色器230的次數(shù)的不同，各濾色器230可補償色調(diào)差。色調(diào)是指特定顏色的明暗(shading)。在透反射型顯示器的示例性實施例中，光可兩次或多次穿過反射區(qū)上方的濾色器230，一次是從外面進來再一次是到外面去，但是光只能穿過透射區(qū)TA 195上方的濾色器230一次。為了補償這種光穿過濾色器230的次數(shù)的不同，將透射區(qū)TA的厚度形成得比反射區(qū)RA的厚度大。可選擇的，可通過保持濾色器230的厚度相同并在反射區(qū)RA的濾色器230中形成孔來補償色調(diào)差。
共電極270形成在光阻擋構件220和濾色器230上，其中，共電極270由透明導電材料如ITO或IZO制成，或者由其它具有相似性質的物質制成。
現(xiàn)在，將參照圖6至圖13來詳細地描述根據(jù)本發(fā)明另一示例性實施例的制造圖3中示出的液晶顯示器的薄膜晶體管陣列面板的方法。
首先，如圖6和圖7中所示，通過諸如濺射的方法在絕緣基底110上形成導電層，該導電層由諸如鋁(Al)或鋁合金的鋁金屬、諸如銀(Ag)或銀合金的銀金屬、諸如銅(Cu)或銅合金的銅金屬、諸如鉬(Mo)或鉬合金的鉬金屬、鉻(Cr)、鈦(Ti)、鉈(Ta)或其它具有相似性質的物質制成。
然后，采用壓印光刻工藝在導電層上涂覆用于圖案化的有機膜，并通過壓制工藝、對齊工藝、硬化工藝和利用上述的模的蝕刻工藝對有機膜進行圖案化，其中，壓印光刻工藝是如上所述的根據(jù)本發(fā)明的制造顯示面板的方法的示例性實施例。然后，通過利用圖案化的有機膜作為蝕刻掩模蝕刻導電層來形成包括多個存儲電極133的多條存儲電極線131及包括多個柵電極124和延伸部分125的多條柵極線121。用于壓印光刻工藝的圖案化的有機膜執(zhí)行與光刻工藝中的光敏膜相同的功能，并在形成柵極線121和存儲電極線131之后去除所述有機膜。
接著，如圖8和圖9中所示，順序地堆疊柵極絕緣層140和氫化非晶硅膜以覆蓋柵極線121和存儲電極線131，其中，氫化非晶硅膜是用N+雜質摻雜的非晶硅膜?？赏ㄟ^低溫化學氣相沉積(LPCVD)法和等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)法來形成柵極絕緣層140和氫化非晶硅膜。利用根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的壓印光刻工藝用氫化非晶硅膜來制成包括多個突出154和多個延伸部分157的多個半導體帶151和多個歐姆接觸圖案164。柵極絕緣層140由硅氮化物或其它具有相似性質的物質制成。用于壓印光刻工藝中的圖案化的有機膜執(zhí)行與光刻工藝中的光敏膜相同的功能。
接著，如圖1O和圖11中所示，通過濺射或其它合適的方法堆疊由導電層，該導電層由難熔金屬例如鉭、鈦、鉻和鉬金屬制成。
然后，通過利用根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的壓印光刻工藝蝕刻導電層來形成多個漏電極175、多個延伸部分177和包括多個源電極173的數(shù)據(jù)線171。用于壓印光刻工藝的圖案化的有機膜執(zhí)行與光刻工藝中的光敏膜相同的功能。
將歐姆接觸圖案164劃分為兩個歐姆接觸163和165，通過去除歐姆接觸圖案164的沒有被數(shù)據(jù)線171和漏電極175覆蓋的一部分使這兩個歐姆接觸之間的半導體154的一部分暴露。根據(jù)一個示例性實施例，隨后產(chǎn)生氧等離子體，以穩(wěn)定暴露的半導體154的表面。
接著，如圖12和圖13中所示，通過化學氣相沉積(CVD)法形成由硅氮化物或其它具有相似性質的物質制成的鈍化層180，并用由有機材料制成的有機絕緣體形成材料涂覆鈍化層180，通過根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的壓印光刻工藝對有機絕緣體187進行圖案化。由于可在用于壓制工藝的模(對應于圖2F中的標號60)的主體中形成突出和凹陷形狀的圖案，所以圖案的突出和凹陷形狀形成在圖案化的有機絕緣體187中。突出和凹陷形狀可用于提高下面描述的反射電極194的反射效率。
此外，在有機絕緣體187中形成用來暴露延伸部分177上部的鈍化層180的多個接觸孔185。通過去除有機絕緣體187在透射區(qū)TA 195中的一部分使鈍化層180暴露。再參照圖2K，在用有機絕緣體187圖案化鈍化層180之后，在這一步驟中，沒有去除用于壓印光刻工藝的圖案化的有機膜20。這與通過蝕刻工藝去除有機膜的其它步驟不同。
然后，通過利用圖案化的有機絕緣體187的蝕刻工藝對下面的鈍化層180進行圖案化來完成多個接觸孔185。
接著，通過根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的壓印光刻工藝來形成多個透明電極192，這些透明電極192通過接觸孔185與漏電極175連接。當通過壓印光刻工藝在反射區(qū)RA的透明電極192的上部形成反射電極194時，完成了圖3中示出的通過根據(jù)本發(fā)明的制造方法的示例性實施例制造的薄膜晶體管陣列面板100，其中，反射電極194由銀、鋁或其它類似物質制成。在壓印光刻工藝中使用的用來形成透明電極192和反射電極194的圖案化的有機膜20執(zhí)行與光刻工藝中的光敏膜相同的功能。
在描述中，描述了用壓印光刻工藝形成薄膜晶體管陣列面板100的所有薄膜的情況，但是在可選擇的示例性實施例中，可用壓印光刻工藝僅形成一些薄膜，另一些薄膜通過光刻工藝或形成圖案工藝(picture process)來形成。
如果利用根據(jù)本發(fā)明的一些示例性實施例的制造顯示面板的設備和制造顯示面板的方法來執(zhí)行壓印光刻工藝，則無需在光刻工藝中所包括的例如曝光和顯影的工藝，即可容易地形成薄膜本身或用于蝕刻薄膜的蝕刻掩模圖案。
此外，由于用于確定顯示面板和模的對齊的定位傳感器可設置在安放部分的下部，所以模驅動器和用于紫外線硬化的紫外線光照射部分可易于安置在顯示面板的上部的上方。因此，即使在很小的空間內(nèi)，也可易于進行壓印光刻工藝。
此外，當模定位鍵中的不透明膜由金屬膜、金屬氧化物膜和強無機膜制成時，防止了不透明膜在模與有機膜分離時可能受到的損壞。
當用紫外線使有機膜硬化時，不透明膜防止下面的有機膜18硬化，由此，?？梢子谂c有機膜分離。因此，進一步延長了不透明膜68的替換時間，從而進一步降低了顯示面板的制造成本。
因此，根據(jù)通過利用本發(fā)明的壓模的示例性實施例的壓印光刻工藝制造顯示面板的方法，可有效精確地對預定的薄膜進行圖案化。
雖然已經(jīng)結合當前認為實用的示例性實施例描述了本發(fā)明，但是要明白，本發(fā)明不局限于公開的實施例，相反，本發(fā)明旨在覆蓋包括在權利要求的精神和范圍內(nèi)的各種修改和等同排列。
權利要求
1.一種制造顯示面板的設備，包括安放部分，顯示面板設置在所述安放部分中，所述安放部分具有至少一個透光部分；模，設置在所述安放部分上，并包括至少一個定位鍵和圖案形成部分；模驅動器，用于驅動所述模；定位傳感器，設置在所述安放部分的下方，并通過所述透光部分確定所述顯示面板和所述模是否無誤差地對齊。
2.如權利要求1所述的設備，其中，所述安放部分包括用來固定所設置的顯示面板的固定吸盤和用來支撐所述固定吸盤的支持件；所述透光部分形成在所述固定吸盤內(nèi)。
3.如權利要求1所述的設備，其中，所述定位鍵包括突出和被所述突出包圍的凹進。
4.如權利要求1所述的設備，還包括形成在所述定位鍵的表面上的不透明膜。
5.如權利要求4所述的設備，其中，所述不透明膜包括金屬層、金屬氧化物膜和無機膜中的至少一個。
6.一種用于制造顯示裝置的設備的模部件，其中，所述模部件要與安放部分接觸，所述模部件包括主體；至少一個圖案形成部分，從對應于要形成在顯示面板上的預定圖案的所述主體突出；至少一個定位鍵，形成在所述主體上，以確定所述顯示面板和所述主體是否對齊；不透明膜，形成在所述定位鍵的表面上。
7.如權利要求6所述的用于制造顯示裝置的設備的模部件，其中，所述定位鍵具有突出和被所述突出圍繞的凹進。
8.如權利要求6所述的用于制造顯示裝置的設備的模部件，其中，所述不透明膜包括金屬層、金屬氧化物膜和無機膜中的至少一個。
9.一種制造顯示面板的方法，包括設置包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)的顯示面板，其中，所述非顯示區(qū)在所述顯示區(qū)的周圍形成并包括形成在所述非顯示區(qū)中的至少一個第一定位鍵；將所述顯示面板布置在具有透光部分的安放部分中；在所述顯示面板上涂覆有機膜；利用包括至少一個第二定位鍵和圖案形成部分的模壓制所述有機模；通過所述透光部分確定所述第一定位鍵和所述第二定位鍵的對齊狀態(tài)來無誤差地對齊所述顯示面板和所述模；使所述有機膜硬化；從所述硬化的有機膜去除所述模。
10.如權利要求9所述的方法，還包括在去除所述模之后蝕刻所述有機膜。
11.如權利要求9所述的方法，其中，所述確定顯示面板和模是否無誤差地對齊的步驟包括照射穿過所述透光部分的定位感測光；通過感測來自所述第一定位鍵或所述第二定位鍵的定位感測光的反射來確定所述第一定位鍵和所述第二定位鍵的位置關系。
12.如權利要求9所述的方法，還在所述確定顯示面板和模是否無誤差地對齊的步驟和使所述有機膜硬化的步驟之間包括一個步驟，所述步驟包括通過相對地移動所述顯示面板和所述模中的至少一個來對齊所述顯示面板和所述模。
13.如權利要求9所述的方法，其中，在使所述有機膜硬化的步驟中使用熱硬化和紫外線硬化中的至少一種。
14.如權利要求13所述的方法，還包括在使所述有機膜硬化的步驟中使用紫外線硬化時，額外地硬化位于與所述第二定位鍵對應的這部分處的有機膜。
15.如權利要求9所述的方法，其中，所述有機膜是樹脂膜。
16.一種制造顯示面板的方法，包括在基底上形成柵極線；在所述柵極線上形成柵極絕緣層；在所述柵極絕緣層上形成半導體層和歐姆接觸層；在所述柵極絕緣層和所述歐姆接觸層上形成包括源電極的數(shù)據(jù)線；形成與所述源電極相對并與其隔開預定間隔的漏電極；在所述數(shù)據(jù)線和所述漏電極上形成鈍化層；在所述鈍化層上形成與所述漏電極連接的像素電極，其中，前述步驟中的至少一個包括在所述顯示面板上涂覆有機膜；利用模壓制所述有機膜；確定所述基底和所述模是否無誤差地對齊；使所述有機膜硬化；從所述硬化的有機膜去除所述模。
17.如權利要求16所述的方法，其中，所述顯示面板包括反射區(qū)和透射區(qū)，其中，所述鈍化層的形成步驟包括在所述基底上涂覆所述有機膜；利用設置有突出與突出和凹陷圖案的模壓制所述有機膜，當對所述有機膜應用所述突出時，所述突出在所述有機膜中形成接觸孔，當對所述有機膜應用所述突出和凹陷圖案時，所述突出和凹陷圖案使圖案凸出在所述有機膜上；確定所述基底和所述模是否無誤差地對齊；使所述有機膜硬化；通過從所述硬化的有機膜去除所述模來完成具有凸出表面和接觸孔的鈍化層。
18.如權利要求17所述的方法，還包括通過蝕刻被所述鈍化層的接觸孔暴露的所述柵極絕緣層使所述柵極線的一部分暴露。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種用于制造顯示面板的包括安放部分的設備，在該安放部分中設置了未完成的顯示面板。該設備具有至少一個透光部分；模，設置在安放部分上，并包括至少一個定位鍵和圖案形成部分；模驅動器，驅動模；定位傳感器，設置在安放部分下面，并通過透光部分確定顯示面板和模是否無誤差地對齊。因此，通過利用壓制模的壓印光刻工藝能夠有效精確地將特定材料在顯示面板上圖案化。
文檔編號G03F9/00GK101071263SQ200610139300
公開日2007年11月14日 申請日期2006年9月22日 優(yōu)先權日2006年5月9日
發(fā)明者張在赫, 盧南錫, 裴廷穆 申請人:三星電子株式會社