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光學設備的制作方法

文檔序號:2678754閱讀:144來源:國知局
專利名稱:光學設備的制作方法
技術領域
本發(fā)明涉及一種光學設備,其具有用于沿著光軸方向驅動透鏡的驅動源,尤其是涉及這樣一種光學設備,其包括用作驅動源的振動型線性致動器。
背景技術
某些光學設備包括用作驅動透鏡的驅動源的振動型線性致動器(例如參見日本專利公開公報No.10(1998)-90584)。
在日本專利公開公報No.10(1998)-90584中提出的光學設備中,具有振動型線性致動器,該振動型線性致動器由振動器和接觸構件形成,其中所述振動器通過機電能量轉換作用產(chǎn)生出振動,而所述接觸構件與所述振動器壓力接觸。
在該振動型線性致動器中,振動器被固定在透鏡保持構件上,接觸構件被固定在鏡筒的固定構件上,通過促使所述振動器產(chǎn)生驅動振動,使得透鏡保持構件與該振動器一同移動;或者,接觸構件被固定在透鏡保持構件上,振動器被固定在鏡筒的固定構件上,通過促使所述振動器產(chǎn)生驅動振動,使得透鏡保持構件與接觸構件一同移動。
在日本專利公開公報No.10(1998)-90584中提出的光學設備中,這種振動型線性致動器被用來驅動兩個分別用于改變放大率和用于聚焦的透鏡。與電磁型線性致動器相比,這種振動型線性致動器更易于小型化,并且因此在減小光學設備的尺寸方面使用這種振動型線性致動器非常有效,其中所述電磁型線性致動器利用由面對著磁體的線圈所產(chǎn)生的磁力來產(chǎn)生出驅動力。
但是,振動型線性致動器在這樣一種狀態(tài)下工作,即振動器和接觸構件相互壓力接觸,從而使得它們易于磨損。
另外,為了校正隨著放大率的變化的成像面的變動以及進行自動聚焦而得以驅動的聚焦透鏡,與用于改變放大率的透鏡相比更頻繁地受到驅動。因此,當振動型線性致動器被用來驅動聚焦透鏡時,其磨損會快于用于驅動放大率改變透鏡的振動型線性致動器。這樣就會導致這樣一種可能性,即光學設備的耐用性受損。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種具有高耐用性的緊湊的光學設備。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面,提供了一種光學設備,包括沿著光軸方向移動以便改變放大率的第一透鏡,和沿著光軸方向移動以聚焦的第二透鏡。這種設備還包括振動型線性致動器,其利用通過機電能量轉換作用所產(chǎn)生的振動驅動所述第一透鏡;和電磁型線性致動器,其利用電磁能量驅動所述第二透鏡。
通過下面參照附圖對優(yōu)選實施例進行描述,本發(fā)明的其它目的和特征將變得容易明了。


圖1A至1D示出了當從四個方向觀看時一個作為本發(fā)明實施例的攝像設備中的透鏡鏡筒的結構。
圖2是一個剖視圖,沿著一個平行于光軸的平面示出了本實施例中的鏡筒。
圖3是一個剖視圖,沿著一個垂直于光軸的平面示出了本實施例中的鏡筒。
圖4是一個剖視圖,沿著一個垂直于光軸的平面示出了本實施例中的鏡筒。
圖5是一個分解透視圖,示出了本實施例中的鏡筒。
圖6是一個方框圖,示出了本實施例中的攝像設備的電氣結構。
具體實施例方式
下面將參照附圖對本發(fā)明的一個優(yōu)選實施例進行描述。
圖1A至5示出作為本發(fā)明實施例的攝像設備中的鏡筒的結構。圖1A至1D分別示出了當從四個方向,即右側、后側、左側、前側進行觀看時本實施例中的鏡筒,其外部構造被去除。圖2示出了本實施例中的鏡筒沿著一平面的剖視圖,其中所述平面平行于光軸并且與滑塊和振動型線性致動器中的振動器之間的壓力接觸面垂直。圖3示出了當從對象側觀看時本實施例的鏡筒沿著一平面的剖視圖,其中所述平面垂直于光軸并且垂直于用于驅動第二透鏡組的振動型線性致動器的壓力接觸面。圖4示出了當從對象側觀看時本實施例中的鏡筒沿著一平面的剖視圖,其中所述平面垂直于光軸并且垂直于用于驅動第四透鏡組的振動型線性致動器的壓力接觸面。圖5是一個分解透視圖,示出了本實施例中的鏡筒。圖6示出了本實施例中的攝像設備的電氣結構。
在圖1A至6中,從對象側開始依次,附圖標記401代表固定的第一透鏡組,402代表能夠沿著光軸方向移動用于改變放大率的第二透鏡組,415代表光量調節(jié)裝置,403代表固定的第三透鏡組,404代表能夠沿著光軸方向移動用于校正隨著放大率改變的成像面的變動并且用于進行焦點調節(jié)的第四透鏡組。
附圖標記405代表后側鏡筒,其保持著在后面進行描述的圖像捕獲器件和低通濾波器(LPF),并且該后側鏡筒被固定在未示出的照相機主體上。附圖標記406代表第一透鏡保持構件,其保持著第一透鏡組401,并且通過螺釘407、408和409固定在后側鏡筒405上。
附圖標記410和411代表導桿(導向構件),其由后側鏡筒405和第一透鏡保持構件406保持成基本上平行于光軸方向。
附圖標記412代表第二透鏡保持構件,其保持第二透鏡組402,并且用于切斷多余光線的遮光片432固定于該第二透鏡保持構件上。第二透鏡保持構件412在配合部分412a處與導桿410配合,以便被沿著光軸方向導引,并且在配合部分412b處與導桿411配合,以防止其環(huán)繞導桿410旋轉。附圖標記413代表第三透鏡保持構件,其保持第三透鏡組403,并且通過螺釘416固定在后側鏡筒405上。附圖標記414代表第四透鏡保持構件,其保持第四透鏡組404,并且在配合部分414a處與導桿411配合,以便被沿著光軸方向導引,并且在配合部分414b處與導桿410配合,以防止其環(huán)繞導桿411旋轉。
當從光軸方向進行觀看時,光量調節(jié)裝置415具有這樣一種外形,即在垂直方向(第一方向)上的長度大于在水平方向(第二方向)上的長度。光量調節(jié)裝置415通過螺釘417固定在后側鏡筒405上。盡管在附圖中沒有示出光量調節(jié)裝置415的細節(jié),但是光量調節(jié)裝置415是所謂的閘刀型光闌,其中一對光圈葉片在由電機旋轉的杠桿作用下基本上豎直平移,來增大或者減小光圈的直徑。
附圖標記418代表滑塊,其由相互粘結起來的磁體和摩擦材料形成,并且通過粘結等方式固定在第二透鏡保持構件412上的方形孔412c內(nèi)。
附圖標記419代表振動器,其由機電能量轉換元件和板狀彈性構件形成,所述機電能量轉換元件在板狀彈性構件上產(chǎn)生出振動。振動器419中的彈性構件由鐵磁體制成,鐵磁體受到滑塊418中磁體的吸引,使得滑塊418的摩擦材料的壓力接觸面418a與沿著光軸方向在兩個位置處形成于振動器419中彈性構件上的壓力接觸面419a、419b發(fā)生壓力接觸。
附圖標記420代表柔性接線板,其被連接在振動器419上,并且向所述機電能量轉換元件傳遞信號。
在由滑塊418和振動器419形成的第一線性致動器(振動型線性致動器)中,在滑塊418與振動器419壓力接觸的同時,兩個處于不同相位的頻率信號(脈沖信號或者交變信號)通過柔性接線板420輸入所述機電能量轉換元件,以便在振動器419的壓力接觸面419a、419b中產(chǎn)生基本上橢圓形的運動,從而在滑塊418的壓力接觸面418a中產(chǎn)生沿著光軸方向的驅動力。
附圖標記421代表間隔件,振動器419被固定在該間隔件上,而附圖標記422代表片簧,間隔件421被固定在該片簧上。片簧422具有這樣一種形狀,即在平面內(nèi)方向上不易發(fā)生變形,但是在垂直于所述平面的方向上易于變形,并且在環(huán)繞所述平面中一條任意軸線的旋轉方向上易于變形。片簧422在平面內(nèi)方向上不易發(fā)生變形限制了振動器419沿著光軸方向(也就是驅動方向)的位移。
附圖標記423代表振動器框架,片簧422通過螺釘424和425固定于該振動器框架上。振動器框架423通過螺釘426和427固定在第一透鏡保持構件406上。
附圖標記428代表標尺,用于探測第二透鏡保持構件412的位置,并且通過粘結等方式固定在第二透鏡保持構件412上的方形孔412d內(nèi)。
附圖標記429代表光線發(fā)送/接收元件,其向標尺428發(fā)送光線并且接收由標尺428反射回來的光線,用以探測第二透鏡保持構件412的移動量。標尺428和光線發(fā)送/接收元件429構成了用作探測器的第一線性編碼器。
附圖標記430代表柔性接線板,其向光線發(fā)送/接收元件429發(fā)送信號和從光線發(fā)送/接收元件429接收信號,并且通過螺釘431固定在第一透鏡保持構件406上。
如圖3中所示,導桿410、由振動器419和滑塊418形成的第一線性致動器、以及由光線發(fā)送/接收元件429和標尺428形成的第一線性編碼器沿著或者接近光量調節(jié)裝置415的平整左側面(當從光軸方向進行觀看時是位于左側的長的線性側面)排列,所述左側面是當從光軸方向的前方進行觀看時光量調節(jié)裝置415的所有外表面中最為接近其光軸位置的外表面中的一個。在本實施例中,導桿410、第一線性編碼器、以及第一線性致動器從底部開始依次設置。
附圖標記433代表線圈,其被固定在第四透鏡保持構件414上。附圖標記434代表柔性接線板,用于向線圈433傳遞信號。柔性接線板434隨著第四透鏡保持構件414沿著光軸方向移動而發(fā)生變形。
附圖標記435和436分別代表磁體和磁軛。線圈433、磁體435以及磁軛436構成了一條磁路,線圈433在其中受到激勵,形成了第二線性致動器(音圈馬達),其是一個沿著光軸方向產(chǎn)生驅動力的電磁型線性致動器。附圖標記439代表磁軛保持構件,其保持著磁軛436,并且通過螺釘442和443固定在后側鏡筒405上。
如圖2中所示,第一線性致動器沿著光軸方向的設置范圍(滑塊418的設置范圍)和第二透鏡保持構件412沿著光軸方向的可移動范圍L2從光量調節(jié)裝置415的對象側(圖2中的左側)朝向成像面?zhèn)妊由?。第二線性致動器沿著光軸方向的設置范圍(磁體435的設置范圍)和第四透鏡保持構件414沿著光軸方向的可移動范圍L4從光量調節(jié)裝置415的成像面?zhèn)瘸驅ο髠妊由臁Q句話說,第一和第二線性致動器的設置范圍(第二透鏡保持構件412和第四透鏡保持構件414的可移動范圍)在光軸方向上相互重疊。
附圖標記448代表標尺,用于探測第四透鏡保持構件414的位置,并且通過粘結等方式固定在第四透鏡保持構件414上的方形孔414d內(nèi)。附圖標記449代表光線發(fā)送/接收元件,其向標尺448發(fā)送光線并且接收由標尺448反射回來的光線,用以探測第四透鏡保持構件414的移動量。附圖標記450代表柔性接線板,其被用來向光線發(fā)送/接收元件449發(fā)送信號和從光線發(fā)送/接收元件449接收信號,并且通過螺釘451固定在后側鏡筒405上。
如圖4中所示,導桿411、由線圈433、磁體435以及磁軛436形成的第二線性致動器、以及由光線發(fā)送/接收元件449和標尺448形成的第二線性編碼器沿著或者接近光量調節(jié)裝置415的平整右側面(當從光軸方向進行觀看時是位于右側的長的線性側面)排列,所述右側面是當從光軸方向的前方進行觀看時光量調節(jié)裝置415的所有外表面中最為接近其光軸位置的外表面中的一個。在本實施例中,導桿411、第二線性致動器以及第二線性編碼器從頂部開始依次設置。
導桿410、第一線性致動器以及第一線性編碼器與導桿411、第二線性致動器以及第二線性編碼器相對于光軸基本上點對稱設置。為了在嚴格意義上點對稱,例如,導桿411、第二線性編碼器以及第二線性致動器應該從頂部開始在導桿411的側面上按這種順序設置,但是如果單獨觀看所述導桿、線性致動器以及線性編碼器,本實施例中的排布方式可以被認為基本上點對稱。與如同后面所描述的導桿411和第二線性致動器分開設置的情況相比,象本實施例中這樣依次設置的導桿411和第二線性致動器可以更為順暢地驅動第四透鏡保持構件414。但是,也可以使用嚴格的點對稱排布方式。
在圖6中,附圖標記471代表由CCD傳感器、CMOS傳感器等形成的圖像捕獲器件。附圖標記472代表包括滑塊418和振動器419的振動型線性致動器,其用作第二透鏡組402(第二透鏡保持構件412)的驅動源。附圖標記473代表由線圈433、磁體435以及磁軛436形成的電磁型線性致動器,其用作第四透鏡組404(第四透鏡保持構件414)的驅動源。
附圖標記474代表用作光量調節(jié)裝置415的驅動源的電機。附圖標記475代表作為第一線性編碼器的第二透鏡編碼器,其中第一線性編碼器包括標尺428和光線發(fā)送/接收元件429,而附圖標記476代表作為第二線性編碼器的第四透鏡編碼器,其中第二線性編碼器包括標尺448和光線發(fā)送/接收元件449。這些編碼器分別對第二透鏡組402和第四透鏡組404在光軸方向上的相對位置(從一個基準位置移動的量)進行探測。盡管本實施例采用了光學編碼器作為所述編碼器,但是也可以使用磁性編碼器或者通過利用電阻探測絕對位置的編碼器。
附圖標記477代表光圈編碼器,其例如屬于這樣一種類型,在其中一個霍爾元件被設置在作為光量調節(jié)裝置415的驅動源的電機474內(nèi)部,其用于探測電機474中的轉子與定子之間的旋轉位置關系。
附圖標記487代表CPU,用作負責對所述攝像設備的工作過程進行控制的控制器。附圖標記478代表照相機信號處理電路,其對圖像捕獲器件471的輸出而執(zhí)行放大、伽瑪校正等處理。在進行預定處理之后,視頻信號的對比信號通過AE門479和AF門480進行傳送。所述門479和480在整個畫面上設定一個最佳范圍,用于提取出用于進行曝光設定和聚焦的信號。這些門479和480可以具有可變尺寸,或者可以設置多個門479和480。
附圖標記484代表用于自動聚焦的AF(自動聚焦)信號處理電路,它提取視頻信號的高頻分量來產(chǎn)生AF評價值信號。附圖標記485代表用于進行變焦操作的變焦開關。附圖標記486代表變焦跟蹤存儲器,它存儲關于目標位置的信息,其中第四透鏡組404將按照照相機-對象距離和第二透鏡組402的位置被驅動至所述目標位置,以便在改變放大率的過程中保持焦點對準狀態(tài)。CPU 487中的存儲器可以被用作所述變焦跟蹤存儲器。
在前述結構中,當使用者操作變焦開關485時,CPU 487對用于驅動第二透鏡組402的振動型線性致動器472進行控制,并且基于變焦跟蹤存儲器486中的信息以及基于根據(jù)第二透鏡組編碼器475的探測結果確定的第二透鏡組402的當前位置,計算出第四透鏡組404的目標驅動位置,以便控制用于驅動第四透鏡組404到達所述目標驅動位置的電磁型線性致動器473。通過使得根據(jù)第四透鏡組編碼器476的探測結果獲得的第四透鏡組404的當前位置與所述目標驅動位置進行匹配,確定出第四透鏡組404是否已經(jīng)到達所述目標驅動位置。
在自動聚焦過程中,CPU 487控制電磁型線性致動器473來驅動第四透鏡組404,以便尋找出由AF信號處理電路484確定的AF評價值處于最高點的位置。
為了提供合適的曝光,CPU 487控制光量調節(jié)裝置415中的電機474來增大或者縮小光圈直徑,以便使得通過AE門479的亮度信號的平均值等于一個預定值,也就是說,使得光圈編碼器477的輸出具有一個對應于所述預定值的值。
在前述結構中,滑塊418由磁體制成,通過吸引振動器419來提供用于產(chǎn)生作為振動型線性致動器的驅動力所需的接觸壓力。由此,接觸壓力的任何反作用力均不會作用在第二透鏡保持構件412上。因此,第二透鏡保持構件412的與導桿410和411配合的配合部分412a和412b處產(chǎn)生的摩擦力不會增加,并且由于所述摩擦產(chǎn)生的驅動載荷不會增加。此外,片簧422會產(chǎn)生小的力,從而使得由片簧422作用在與導桿410和411配合的配合部分412a和412b上的力很小,并且?guī)缀醪粫黾釉谂浜喜糠?12a和412b處產(chǎn)生的摩擦力。這樣就使得能夠使用低功率的小的振動型線性致動器,使得鏡筒的尺寸縮小。
由于在第二透鏡保持構件412上不會作用大的接觸壓力,所以在第二透鏡保持構件412的與導桿410和411配合的配合部分412a和412b處產(chǎn)生的摩擦力不會增加。所述第一線性致動器的功率或者尺寸無需增加,并且可以減輕由于導桿410、411與配合部分412a、412b之間摩擦造成的磨損。還有,可以精確地實現(xiàn)對第二透鏡保持構件412(第二透鏡組402)的細微驅動。
即使當制造誤差或者類似因素改變了光軸方向上的、任一壓力接觸面相對于一條平行于光軸的軸線的位置或者環(huán)繞該軸線的傾斜度時,片簧422將發(fā)生變形來改變振動器419的位置或者傾斜度(方位),以便保持兩個壓力接觸面相互平行,由此保持這些表面之間的合適的接觸狀態(tài)。片簧422具有一個彈簧常數(shù),該彈簧常數(shù)被設定為使得其響應一個小于前述接觸壓力的力發(fā)生變形。即使當任一壓力接觸面的所述位置或者傾斜度發(fā)生改變時,所述接觸壓力也不會明顯改變。因此,能夠穩(wěn)定地提供與所述第一線性致動器的固有性能一致的輸出。
因為所述振動器一直與滑塊壓力接觸,所以即使當斷電時,所述振動型線性致動器也不會發(fā)生位移。特別是,第二透鏡組402僅在改變放大率過程中發(fā)生移動,并且通常保持靜止,從而使得與利用電磁力的線性致動器相比,使用所述振動型線性致動器來驅動第二透鏡組可以節(jié)省電能。
另一方面,在利用電磁力的線性致動器中,不存在任何接觸部分,并且因此不會產(chǎn)生任何磨損。由于僅在驅動方向上產(chǎn)生力,并且不會在受驅動構件(第四透鏡保持構件414)上作用任何側向壓力,所以不會在受驅動構件的與導桿410和411配合的配合部分414a和414b上作用任何側向壓力,并且配合部分414a和414b幾乎不磨損。特別是,第四透鏡組在改變放大率和聚焦的過程中發(fā)生移動,并且其移動量大于第二透鏡組由于AF操作而產(chǎn)生的移動量。因此,電磁型線性致動器比振動型線性致動器更有效地用來驅動第四透鏡組,以便提高耐用性。
如前所述,在本實施例中,導桿410、第一線性致動器和第一線性編碼器沿著(接近)左側面依次設置,其中所述左側面是當從光軸方向進行觀看時光量調節(jié)裝置415外表面中最為接近光軸位置的那個外表面。導桿411、第二線性致動器和第二線性編碼器沿著(接近)右側面依次設置,其中所述右側面是當從光軸方向進行觀看時光量調節(jié)裝置415外表面中最為接近光軸位置的那個外表面。因此,盡管所述光學設備具有光量調節(jié)裝置415、兩個用于驅動設置在光量調節(jié)裝置415的對象側和成像面?zhèn)鹊牡诙哥R保持構件412(第二透鏡組402)和第四透鏡保持構件414(第四透鏡組404)的線性致動器、兩根用于沿著光軸方向導引透鏡保持構件412和414的導桿410和411、以及兩個用于探測透鏡保持構件412和414的位置的線性編碼器,但是其尺寸可以被制成得非常緊湊。
由于緊靠導桿410設置第一線性編碼器中的標尺428,減少了由于第二透鏡保持構件412的與導桿410和411配合的配合部分412a和412b的間隙而導致的標尺428位移量,從而能夠精確地進行探測位置。
當所述線性致動器和線性編碼器與用于導引所述透鏡保持構件的導桿隔著光軸設置在相反側時,由于在所述透鏡保持構件的與導桿配合的配合部分處的配合間隙,在開始驅動時利用所述導桿作為支撐點,所述線性編碼器將會沿著與驅動方向相反的方向移動,其中所述透鏡保持構件受到驅動并且其位置由所述線性致動器、線性編碼器探測。這樣會降低位置探測的精確度。但是,在本實施例中,所述線性致動器和線性編碼器與用于導引所述透鏡保持構件的導桿位于同一側,從而使得這個問題不會出現(xiàn),并且可以精確地探測位置,其中所述透鏡保持構件受到驅動并且其位置由所述線性致動器、線性編碼器探測。
此外,由于所述第二線性致動器緊靠導桿411設置,所以第四透鏡保持構件414可以順暢地得到驅動。
在本實施例中,振動型線性致動器被用來驅動用于改變放大率的透鏡,用于改變放大率的透鏡通常比用于聚焦的透鏡受到驅動的頻率低。與使用電磁型線性致動器來驅動用于改變放大率的透鏡的情況相比,這樣能夠減小所述光學設備的尺寸。另一方面,其中線圈和磁體不相互接觸的電磁型線性致動器被用來驅動用于聚焦的透鏡,用于聚焦的透鏡通常比用于改變放大率的透鏡受到驅動的頻率高。與使用振動型線性致動器來驅動用于聚焦的透鏡的情況相比,這樣能夠提高所述光學設備的耐用性。因此,能夠獲得一種高耐用性的緊湊的光學設備。
至此已經(jīng)描述了本發(fā)明的優(yōu)選實施例。但是,本發(fā)明并不局限于本實施例中描述的結構,并且可以在本實施例中進行多種變型。
例如,盡管針對振動型線性致動器中的振動器被固定而滑塊與透鏡保持構件一同沿著光軸方向移動的情況進行了描述,但是本發(fā)明也包括這樣一種構造,即其中滑塊被固定而振動器與透鏡保持構件一同移動。
此外,盡管針對電磁型線性致動器中的線圈被固定而磁體與透鏡保持構件一同沿著光軸方向移動的情況進行了描述,但是本發(fā)明也包括這樣一種構造,即其中磁體被固定而線圈與透鏡保持構件一同移動。
盡管已經(jīng)結合與透鏡一體式的攝像設備對本實施例進行了描述,但是本發(fā)明也能夠應用于被可去除地安裝在攝像設備主體上的可更換透鏡(光學設備)。本發(fā)明不僅能夠應用于攝像設備,而且能夠應用于多種用于利用振動型線性致動器驅動透鏡的光學設備。
盡管已經(jīng)結合可以使振動器和滑塊的位置和傾斜度都可變的保持機構對本實施例進行了描述,但是也能夠提供一種容許位置和傾斜度中之一進行變化的保持機構。
權利要求
1.一種光學設備,包括沿著光軸方向移動用以改變放大率的第一透鏡;沿著光軸方向移動用以聚焦的第二透鏡;振動型線性致動器,其利用通過機電能量轉換作用所產(chǎn)生的振動驅動所述第一透鏡;以及電磁型線性致動器,其利用電磁能量驅動所述第二透鏡。
2.根據(jù)權利要求1所述的光學設備,其特征在于所述第二透鏡沿著光軸方向移動,用以校正隨著所述第一透鏡的運動的成像面的變動和用以進行聚焦。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的光學設備,其特征在于所述振動型線性致動器包括振動器,通過所述機電能量轉換作用在其上產(chǎn)生出振動;和與所述振動器接觸的接觸構件,所述電磁型線性致動器包括線圈和與面對著所述線圈但是不與其發(fā)生接觸的磁體。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種高耐用性的緊湊的光學設備。這種光學設備,包括沿著光軸方向移動用以改變放大率的第一透鏡,和沿著光軸方向移動用以聚焦的第二透鏡。這種設備還包括振動型線性致動器,其利用通過機電能量轉換作用所產(chǎn)生的振動驅動所述第一透鏡;和電磁型線性致動器,其利用電磁力驅動所述第二透鏡。
文檔編號G02B7/04GK1851518SQ20061007775
公開日2006年10月25日 申請日期2006年4月21日 優(yōu)先權日2005年4月22日
發(fā)明者佐藤武彥, 中島茂雄 申請人:佳能株式會社
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