專利名稱：具有offner型宏光具的印版制圖像裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于印版的制圖像裝置，具有一個光源陣列和一個安置在后面的微光具，該光具產(chǎn)生所述光源的虛像。
背景技術(shù)：
在印版曝光器中或者在直接成像印刷裝置中使用成列的或者呈矩陣形式的光源陣列在印版上制作圖像，對要使用的成像光具提出了很高要求。典型的是，光源陣列由一定數(shù)量的二極管激光器、最好是單模激光器組成，它們相互間隔一定間距在一個半導(dǎo)體基底上，典型的是基本上間隔相同間距安置，它們具有一個共同的、在晶體斷裂面上準(zhǔn)確定義的出射平面。這些光源或者說二極管激光器的發(fā)射光錐形在兩個相互基本正交的對稱平面內(nèi)張開不同寬度。因此，對于成像光具必須要求，一方面以優(yōu)選較少數(shù)量的組件減小這種不對稱，最好是將其最小化，另一方面能夠使發(fā)射體陣列的全局成像盡可能沒有成像誤差。
從現(xiàn)有技術(shù)中知道了一系列成像光具，它們專門為用于在圖像載體上制作圖像的成排二極管激光器成像而設(shè)置。例如從US 4,428,647中知道了一種半導(dǎo)體激光器陣列，分別在激光器陣列和物鏡之間為其各個激光器配置了一個位于附近的透鏡。這些透鏡的目的是，改變從激光器陣列表面射出的光束的發(fā)散角，使這些光盡可能高效地被物鏡收集和聚焦到圖像載體上。選擇這些透鏡的折光力，使得為每個激光器在發(fā)射表面后面產(chǎn)生一個中間虛像，其間距大致相當(dāng)于發(fā)射光束的間距，其中，該發(fā)射中間圖像是放大的。
例如在EP 0 694 408 B1中說明了，一個微光具可以如何借助于軸向?qū)ΨQ的光學(xué)元件降低出射光的發(fā)散。
這類光源陣列經(jīng)常側(cè)面線尺寸差別非常大，例如10×0.001mm2，因此要求特殊的微鏡成像裝置和宏觀鏡成像裝置。采用這樣尺寸的球面光具只能通過較大并且費事的光具設(shè)計解決。使用球面宏光具(Makrooptik)的缺點是，成像質(zhì)量作為到光軸的距離的函數(shù)變化。直到現(xiàn)在，即使使用柱面透鏡和柱面透鏡陣列也不能使特別是成排二極管激光器形式的光源陣列的成像達(dá)到所期望的恒定質(zhì)量。
從US 3,748,015中知道了一種具有單一放大率和高分辨率的用于物體圖像整形的光學(xué)系統(tǒng)，其中包括由一個凸形的和一個凹形的球面反射鏡的組成的安置，反射鏡的曲率中心點在一個點上重合。這種反射鏡裝置在系統(tǒng)內(nèi)產(chǎn)生至少三個反射點并在一個包含曲率中心點的平面內(nèi)產(chǎn)生兩個與光軸隔開間距、具有單一放大率的共軛區(qū)域，其中，在曲率中心點系統(tǒng)光軸與這個平面正交。這樣的反射鏡組合沒有球面像差、彗形差像和畸變，并且，如果所使用的反射鏡表面的強度或者折光力的代數(shù)總和為0，所產(chǎn)生的圖像沒有第三級像散現(xiàn)象和像場拱曲。這樣的光學(xué)系統(tǒng)也被稱為Offner型光學(xué)裝置。
與此相關(guān)要提到的是，例如在US 5,592,444中介紹了用于在光學(xué)存儲介質(zhì)上同時在多個跡道中寫讀數(shù)據(jù)的一種方法及其裝置。該文獻(xiàn)中介紹的用于多個可單個控制的二極管激光器的成像光具包括一個上面所述的Offner型球面反射鏡裝置，就是說由具有共同的曲率中心點的球面凹反射鏡和凸反射鏡形成的組合，但其可降低發(fā)散度的微光具不產(chǎn)生虛的、特別是放大的中間圖像。
然而，在印版曝光器或者印刷機的印刷裝置中使用印版制圖像裝置時要求采取附加措施。因為一方面在這樣的機器中結(jié)構(gòu)空間很有限，另一方面，印版曝光器或者印刷裝置的結(jié)構(gòu)或配置很少能夠為了實施制圖像裝置而稍作改動，所以要減小其要求的結(jié)構(gòu)空間。此外，印刷機或者印版曝光器上的成像光具承受震動或顫動，這樣，成像光具應(yīng)具有盡可能少的必須彼此相對校準(zhǔn)的構(gòu)件，所以在現(xiàn)有技術(shù)中已知的光學(xué)裝置不能夠簡單地使用于印版曝光器上或者用于印刷機的印刷裝置中。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的任務(wù)是，提供一種用于光源陣列的成像光具，使得可以簡單地降低發(fā)射光的發(fā)散并以小的像差成像。此外，應(yīng)該實現(xiàn)一種用于印版制圖像裝置中的成像光具，其具有盡可能小的結(jié)構(gòu)空間要求和盡可能少的構(gòu)件，因而具有盡可能少的校準(zhǔn)自由度。
該任務(wù)通過具有權(quán)利要求1所述特征的制圖像裝置解決。在從屬權(quán)利要求中描述了本發(fā)明制圖像裝置的有利實施形式和進(jìn)一步擴(kuò)展。
本發(fā)明印版制圖像裝置具有一個光源陣列和一個安置在其后的微光具，該微光具產(chǎn)生光源的虛像，其特點為，在該微光具后面安置一個光學(xué)裝置，該光學(xué)裝置至少包括具有共同的曲率中心點的一個凸面鏡區(qū)段和一個凹面鏡區(qū)段，其中，最好折光力強度的代數(shù)總和是0，換句話說，安置一個微光具或者Offner型的組合，它產(chǎn)生中間虛像的實像。在下面簡單地談到由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的光學(xué)裝置，雖然至少一個鏡面也可以只具有一個在最大為4π的確定部分空間角區(qū)域內(nèi)的區(qū)段，該區(qū)段既可以定義一個單一連貫(einfach zusammenhaengende)的面，也可以定義一個非單一連貫的面。在此，在實現(xiàn)一個確定的實施形式時，為了能夠?qū)ffner型光學(xué)裝置的所希望的特性以足夠的精確度應(yīng)用于本發(fā)明制圖像裝置中，凹面鏡和凸面鏡的曲率中心點不必完全精確地相互重疊。
在本發(fā)明制圖像裝置中，通過使用少量的光反射面，陣列的每個光源通過一個中間虛像適應(yīng)顯微鏡要求、特別是發(fā)散性。通過充分利用Offner型光學(xué)裝置、也就是說具有共同曲率中心點的至少一個凸面鏡區(qū)段和一個凹面鏡區(qū)段的組合的已知特性，允許對沿一條基本上呈圓形延伸的線上的點有利地成像。在此，本發(fā)明制圖像裝置中的作為宏光具安置在微光具后面的該光學(xué)裝置這樣實施，使得基本上安置在一列上的光源的中間虛像點相對于該圓形線有小的間距。換句話說本發(fā)明制圖像裝置能夠以少量的光學(xué)元件使多個光源、特別是二極管激光器的發(fā)射校正穩(wěn)定。通過組合柱面透鏡，在借助于每個光源的中間虛像放大的同時微光學(xué)對稱并且借助于安置在后面的由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的光學(xué)裝置將這些中間虛像盡可能無像差地成像為一個實像，建立一種具有特別有利的成像特性的印版制圖像裝置。
為了與光源發(fā)射光的發(fā)散適應(yīng)，該微光具最好呈非球面構(gòu)成。例如可以涉及柱面透鏡或者變形棱鏡的組合。安置在后面的由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的宏光學(xué)裝置至少具有一個旋轉(zhuǎn)對稱光具的一個圓弧段，相對于與它們對應(yīng)配置的物的圓形線，基本上直線延伸的中間虛像點列的投影具有小的距離，其中，物的圓形線位于由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的該光學(xué)裝置的兩個共軛區(qū)域中的一個內(nèi)。因此，可以借助于該Offner型光學(xué)裝置將基本上直線延伸的中間虛像點列以單一放大率成實像在第二個共軛區(qū)域內(nèi)。在此特別有利的是，由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的該光學(xué)裝置沒有像差。
為了減小本發(fā)明制圖像裝置的結(jié)構(gòu)空間要求，有利的是，在由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的該光學(xué)裝置內(nèi)進(jìn)行至少一次光路折轉(zhuǎn)。因此，有利的是，在安置在微光具后面的該光學(xué)裝置中，在由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的該光學(xué)裝置的反射面前面和/或后面，安置至少一個光偏轉(zhuǎn)面。由此，通過本發(fā)明制圖像裝置中的成像光具，光路變得緊湊，這樣就可以減小結(jié)構(gòu)空間，以便實現(xiàn)裝在印版曝光器內(nèi)或印刷裝置內(nèi)。此外有利的是，由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的該光學(xué)裝置的至少一部分作為一個單個構(gòu)件構(gòu)成，也就是用具有與例如用玻璃或其它透明材料制成的周圍物體不同的折射率的合適材料制成的整塊。然后，該單個構(gòu)件或整塊可以部分地具有向內(nèi)反射的面，這些面實現(xiàn)了由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的該光學(xué)裝置的例如凹的及凸的反射面。這些內(nèi)表面也被稱為該整塊的激活的內(nèi)部面。在該整塊上為由至少一個光源發(fā)射的光設(shè)置了至少一個入射窗和一個出射窗，它們最好設(shè)置一個干涉濾光器形式的抗反射涂層。在一個有利的擴(kuò)展構(gòu)造中，可以為該整體結(jié)構(gòu)對應(yīng)配置其它的光學(xué)元件，如棱鏡或用于射線偏轉(zhuǎn)的光偏轉(zhuǎn)面。
本發(fā)明制圖像裝置可以特別有利地使用在印版曝光器中或者印刷裝置中。本發(fā)明印刷機包括一個給紙器、至少一個印刷裝置和一個收紙裝置，其特點是，該印刷機具有至少一個裝有本發(fā)明制圖像裝置的印刷裝置。


借助于附圖以及對它們的說明對本發(fā)明的其它優(yōu)點和有利實施形式及進(jìn)一步擴(kuò)展進(jìn)行描述。圖中示出圖1本發(fā)明印版制圖像裝置的一個實施形式中的光學(xué)元件配置示意圖，圖2本發(fā)明印版制圖像裝置的帶有附加的光束斷面輪廓過濾器的另一實施形式中的光學(xué)元件配置示意圖，圖3 用于解釋由凸面鏡和凹面組成的鏡光學(xué)裝置的焦線相對于光源陣列虛像點列的位置的示意圖，
圖4由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的整體結(jié)構(gòu)光學(xué)裝置的示意圖，圖5在充分利用兩次光束折轉(zhuǎn)的情況下，由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的另一種整體構(gòu)成光學(xué)裝置的示意圖，圖6由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的帶有棱鏡形式附加光束偏轉(zhuǎn)元件的另一種對稱整體構(gòu)成光學(xué)裝置的示意圖，圖7由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的帶有凸形球面鏡和用于輸入耦合待成像光的棱鏡的另一種整體構(gòu)成光學(xué)裝置的示意圖。
具體實施例方式
圖1示出本發(fā)明印版制圖像裝置的一種實施形式中的光學(xué)元件配置示意圖。本發(fā)明制圖像裝置具有一個光源12，其帶有一個對應(yīng)配置的微光具14和一個安置在后面的光學(xué)裝置10。由光源12發(fā)射出的發(fā)散的光16通過該微光具14成像在一個虛像18上。通過安置在后面的光學(xué)裝置10，從中間虛像18出發(fā)的光束20經(jīng)過不同的光學(xué)元件轉(zhuǎn)變成一個實的像點28。在本實施形式中，光學(xué)裝置10首先具有一個偏轉(zhuǎn)元件22和一對沿光軸23并且相對于光軸23旋轉(zhuǎn)對稱安置的鏡面，即具有沿光軸23的共同的曲率中心點25的凹面鏡24和凸面鏡26。由凹面鏡24和凸面鏡26形成的這一對鏡面將物區(qū)內(nèi)的點成像到像區(qū)內(nèi)的點上。這兩個區(qū)域是相互共軛的。由于該附加的偏轉(zhuǎn)元件22，通過光學(xué)裝置10的光路的對稱性被打破，這樣，與作為共軛點的像點28對應(yīng)的是中間虛像18，而不是在沒有偏轉(zhuǎn)元件情況下的印版平面29中的共軛點27。但是，中間虛像18與凹面鏡24之間的光程長度等于凹面鏡24與印版平面29中的像點28之間光學(xué)長度。
為了更好地理解本發(fā)明制圖像裝置，在附圖1中用圖示出一個光源12的成像過程，該光源12帶有一個微光具14和一個安置在后面的光學(xué)裝置10，也就是一個宏光具，而借助于本發(fā)明的一個相應(yīng)的優(yōu)選實施形式，多個典型地成排安置的光源12通過一個優(yōu)選針對每個光源12個別地壓制出的微光具14和一個作用在這多個中間圖像18上的宏光具成像，該宏光具相當(dāng)于由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的光學(xué)裝置10。
圖2示出本發(fā)明印版制圖像裝置的具有附加的光束斷面輪廓過濾器的另一個可選擇實施形式中的光學(xué)元件配置示意圖。在此，本發(fā)明制圖像裝置包括一個光源12、一個微光具14、一個盒33的一個入射窗32和一個帶有安置在后面的印版29的出射窗34，光學(xué)裝置10位于該盒33內(nèi)。在此，光學(xué)裝置10包括一個偏轉(zhuǎn)元件22、一個凹面鏡24、一個波前校正元件或光束整形元件30，即一個所謂的光束斷面輪廓過濾器，其最好用于傳輸光源12的基模，例如具有高斯射線輪廓，并包括一個凹面鏡26。因此，該光學(xué)裝置10同樣由具有共軛區(qū)域的一個凸面鏡和一個凹面鏡組成，其中，由光源12的發(fā)散光16借助于微光具14產(chǎn)生的中間虛像18在第一個共軛區(qū)域中，印版平面29內(nèi)的像點28在第二個共軛區(qū)域中。通過采用偏轉(zhuǎn)元件22使光路折轉(zhuǎn)，如在圖2中所示在凸面鏡26前面經(jīng)過、與凸面鏡26和凹面鏡24之間的光路交叉，或者與此不同地在該凸面鏡后面經(jīng)過。通過這樣折轉(zhuǎn)，可以達(dá)到更緊湊的結(jié)構(gòu)。
圖3用示意圖解釋焦線、也就是說在由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的光學(xué)裝置的第一共軛區(qū)域內(nèi)選擇出的一些點，相對于光源陣列虛像點列的位置。在圖3中示出沿光學(xué)裝置10的凹面鏡24和凸面鏡26的光軸23的投影?；旧铣蕡A形的焦線36代表了在這里舉例的對稱光路情況下共軛區(qū)域在凹面鏡24上的投影。換句話說，由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的該光學(xué)裝置的物點和像點基本上反相地位于一條圓形的焦線36上，就是說圍著光軸23成180度相反對置。焦線36基本上描述了具有極有利的變換特性的、也就是說具有最小像差的那些點。此時目的在于，使虛像點38的列盡可能接近焦線36。在此，與本發(fā)明關(guān)系不重要的是，選擇什么樣的精確節(jié)律或者什么計量單位來測量線38到圓弧段36的間距。例如，可以將在投影38中的光源相對于光軸23的平均間距、就是說是間距總和除以光源數(shù)量，用作一個計量單位。為了通過光學(xué)裝置10達(dá)到有利的像差最小的成像，虛像點38的列的投影與焦線36半徑的間距要保持較小或者相匹配。
此外清楚的是，由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的光學(xué)裝置10應(yīng)這樣設(shè)計，使得焦線36的投影具有一個盡可能大的曲率半徑。換句話說，局部來看，也就是說在光源38的投影中光源的彼此相距最遠(yuǎn)的像點的間距標(biāo)度上看，與光源38的列的投影相比較，焦線36應(yīng)盡可能平地延伸。因此，所使用的光學(xué)裝置10只需要具有由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的一個旋轉(zhuǎn)對稱光具的至少一個圓弧段。
圖4示出本發(fā)明制圖像裝置中的該光學(xué)裝置的一個整體結(jié)構(gòu)實施形式示意圖。通過整體結(jié)構(gòu)應(yīng)該達(dá)到由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的該光學(xué)裝置的進(jìn)一步減小。同時為了解釋這種整體結(jié)構(gòu)，在圖4中舉例示出一個對稱光路。光學(xué)裝置10相對于軸線41對稱。從光源的中間虛像18出發(fā)，該光源包括微光具在內(nèi)在此沒有示出，光束20穿過一個入射窗32進(jìn)入一個整塊40中，整塊40例如用一種強折射的玻璃或者一種所使用的波長可透過的聚合物制成。該整塊具有一個凹面42，它反射光束20，這樣，光束20射到與凹面42相對的基本平坦的一個鏡面46上。光束從鏡面46被投射到一個凸面44上，從那里出發(fā)，對稱地在對稱軸線41的另一側(cè)，光束又射到鏡面46上并接著射到凹面42上，直到光束通過一個出射窗34離開該整塊并且會聚在一個像點28上，其符合目的地位于這里沒有示出的印版平面內(nèi)。如在圖4中示出的那樣，這種整體結(jié)構(gòu)充分利用了這一點在由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的一個光學(xué)裝置中，主要利用凹面鏡的那些遠(yuǎn)離光軸或?qū)ΨQ軸線41的區(qū)域來將第一共軛區(qū)域反射到凸面鏡上并從凸面鏡反射到第二共軛區(qū)域內(nèi)。由此可以引入一個鏡面反射的面46，使得在光軸或者對稱軸線41附近的凹面42可以被一個凸面44代替。當(dāng)然，位置和曲率通過由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的光學(xué)裝置的條件確定。凸面44相當(dāng)于位置48上的一個凸面鏡，光束20沿著沒有反射鏡面46的光路50射到該凸面鏡上。通過合適的涂層、應(yīng)該通過一個金屬層或通過干涉濾光器，整塊40的應(yīng)反射光束20的側(cè)面被做得盡可能反射性強。為入射窗32和/或出射窗34設(shè)置了一個抗反射涂層，例如通過一個干涉濾光器，這樣，光可以盡可能強地輸入耦合到該整塊中或者從其中輸出耦合。
圖5示出另一個由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的整體構(gòu)成光學(xué)裝置的示意圖，其充分利用了兩次光束折轉(zhuǎn)。一個光源12借助于一個微光具14被轉(zhuǎn)變成一個中間虛像18。從該中間虛像18出發(fā)的光束20射入整塊40中，并且在一個第一偏轉(zhuǎn)面51上和一個第二偏轉(zhuǎn)面52上被投射到一個凹面42上。然后，光束20射到一個鏡面46上，射到一個凸面44上，重新射到鏡面46上并射到凹面42上，以便然后通過一個出射窗34離開整塊40并會聚到一個像點28上。
圖6示意性示出一個凸面鏡和一個凹面鏡的另一種對稱實施的光學(xué)成像過程，其中額外使用了棱鏡形式的偏轉(zhuǎn)元件。從光源12的中間虛線18出發(fā)，該光源在此沒有示出，光束20進(jìn)入一個棱柱形的偏轉(zhuǎn)元件54中，在其基底上反射，到達(dá)整塊40中。設(shè)置了一個對稱的光路，光束20首先射到一個凹面42上，一個鏡面46上，一個凸面上，重新射到鏡面46上并射到凹面42上。接著，同樣設(shè)置了一個棱柱形的偏轉(zhuǎn)元件54，光束20在其基底上全反射。這些光會聚在一個像點28上。
圖7示出了由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的另一個整體構(gòu)成光學(xué)裝置的示意圖，具有一個附加的凸球面和一個棱鏡，其用于輸入耦合待成像的光。從一個包括微光具在內(nèi)、在此沒有示出的光源的一個中間虛像18出發(fā)，光20進(jìn)入一個棱鏡58中并從那里進(jìn)入一個凸球面56中。在該凸球面的表面中設(shè)置了一個區(qū)域，光束20可以通過該區(qū)域盡可能無反射地進(jìn)入整塊40內(nèi)。光束20在該整塊的各種不同內(nèi)表面上被反射，這些內(nèi)表面包括棱面60、一個凹面42、一個鏡面46和一個凸面44。示出了光束20直到像點28的光路。這些光可以通過一個出射窗34離開整塊40。典型的是，凸面44被制成鏡面，這樣，光在整塊40內(nèi)被反射。
參考標(biāo)號10光學(xué)裝置 12光源14微光具16發(fā)散的光18中間虛像 20光束22偏轉(zhuǎn)元件 23光軸24凹面鏡25曲率中心點26凸面鏡27無偏轉(zhuǎn)元件的共軛點28像點 29印版平面30射束整形元件 32入射窗33盒子 34入射窗36焦線投影 38光源投影40整塊 41對稱軸線42凹面 44凸面46鏡面 48凸面鏡的位置50無反射鏡面的光束 51第一偏轉(zhuǎn)面52第二偏轉(zhuǎn)面 54棱柱形偏轉(zhuǎn)元件56凸球面 58棱鏡60棱面
權(quán)利要求
1.用于印版(29)的制圖像裝置，具有一個光源(12)組成的陣列和一個安置在后面的微光具(14)，該微光具產(chǎn)生光源(12)的中間虛像(18)，其特征為，在該微光具后面安置一個光學(xué)裝置(10)，該光學(xué)裝置至少包括具有一個共同的曲率中心點的一個凸面鏡(26)區(qū)段和一個凹面鏡(24)區(qū)段，它產(chǎn)生一個實像(28)。
2.按照權(quán)利要求1所述的用于印版(29)的制圖像裝置，其特征為，該中間虛像(18)是光源(12)的一個放大的圖像。
3.按照權(quán)利要求1或者2所述的用于印版(29)的制圖像裝置，其特征為，為了適應(yīng)光源的發(fā)射光(16)的發(fā)散，該微光具(14)是非球面的。
4.按照前述權(quán)利要求之一所述的用于印版(29)的制圖像裝置，其特征為，由一個凸面鏡(26)和一個凹面鏡(24)組成的該光學(xué)裝置(10)至少具有一個旋轉(zhuǎn)對稱光具的一個圓弧段，中間虛像點(38)形成的列的基本上直線延伸的投影相對于與該圓弧段對應(yīng)的物的圓形線(36)具有選擇得小的間距。
5.按照前述權(quán)利要求之一所述的用于印版(29)的制圖像裝置，其特征為，在由一個凸面鏡(26)和一個凹面鏡(24)組成的該光學(xué)裝置(10)的反射面前面和/或后面安置至少一個光偏轉(zhuǎn)元件(22)和/或在由一個凸面鏡和一個凹面鏡組成的該光學(xué)裝置(10)的反射面之間安置一個射束整形元件(30)。
6.按照前述權(quán)利要求之一所述的用于印版(29)的制圖像裝置，其特征為，該光學(xué)裝置(10)至少部分地整體構(gòu)成。
7.按照權(quán)利要求6所述的用于印版(29)的制圖像裝置，其特征為，該整塊(40)的激活的內(nèi)部面被制成鏡面。
8.按照權(quán)利要求6或7所述的用于印版(29)的制圖像裝置，其特征為，至少一個入射窗(32)和一個出射窗(34)設(shè)置了抗反射涂層。
9.按照權(quán)利要求6至8之一所述的用于印版(29)的制圖像裝置，其特征為，為該整體結(jié)構(gòu)(40)配置了另外的光學(xué)元件(54，56，58)，它們用于光束偏轉(zhuǎn)和/或光束整形和/或波前校正。
10.按照權(quán)利要求6至9之一所述的用于印版(29)的制圖像裝置，其特征為，整塊(40)具有一塊與其周圍相比較具有高折射率的玻璃。
11.印版曝光器，其特征為，該印版曝光器包括至少一個按照前述權(quán)利要求之一所述的制圖像裝置。
12.印刷裝置，其特征為，該印刷裝置包括至少一個按照前述權(quán)利要求之一所述的制圖像裝置。
13.印刷機，具有一個給紙器，至少一個印刷裝置和一個收紙裝置，其特征為，該印刷機具有至少一個按照權(quán)利要求12所述的印刷裝置。
全文摘要
提出一種用于印版(29)的制圖像裝置,具有一個光源(12)陣列和一個安置在后面的微光具(14),該微光具產(chǎn)生光源(12)的中間虛像(18),其特點為,在微光具(14)后面安置一個光學(xué)裝置(10),該光學(xué)裝置至少包括具有一個共同曲率中心點的一個凸面鏡(26)和一個凹面鏡(24),它產(chǎn)生中間虛像(18)的實像(28)。通過由凸面鏡(26)和凹面鏡(24)組成的該光學(xué)裝置(10)的一種整體結(jié)構(gòu)(40)可以達(dá)到緊湊的、節(jié)省結(jié)構(gòu)空間的構(gòu)造。本發(fā)明用于印版(29)的制圖像裝置可以特別有利地用于印版曝光器或者印刷機印刷裝置中。
文檔編號G02B17/08GK1379287SQ0210847
公開日2002年11月13日 申請日期2002年3月29日 優(yōu)先權(quán)日2001年3月30日
發(fā)明者馬丁·福雷爾, 漢斯－約爾格·海姆貝克, ?？斯隆だ矢秃? 貝恩德·福斯勒, 貝爾納德·拜爾 申請人:海德堡印刷機械股份公司