中間層或載體基底進(jìn)行處理時(shí)，在中間層或載體基底脫離之后，添加劑的殘留物可保留在功能層上。所述殘留物可通常用水溶液沖洗掉，水溶液的pH適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)，必要時(shí)，水溶液還包含表面活性劑。用溶劑沖洗也是可能的。在棘手的情況下，還可使用高壓噴嘴和/或機(jī)械支撐件(氈制品、刷子)，但是這通常是不需要的。小的添加劑殘留物還可以借助電暈處理而“燃燒掉”。在許多情況下，還可完全省略對(duì)添加劑殘留物的移除。適當(dāng)調(diào)制的保護(hù)漆還可充分地粘附在“裝載添加劑”的功能層上。
[0095]根據(jù)本發(fā)明的防偽元件可以以轉(zhuǎn)印材料的形式設(shè)置，即具有準(zhǔn)備用于轉(zhuǎn)印的大量成品防偽元件的箔或帶。在轉(zhuǎn)印材料的情況下，稍后防偽元件的層堆積以相反順序在載體材料上制備，其中，層堆積稍后要呈現(xiàn)在要受保護(hù)的有價(jià)對(duì)象上，由此，防偽元件的層堆積可以以無(wú)盡方式或以用作防偽元件的最終輪廓形狀制備在載體材料上。防偽元件到要受保護(hù)的有價(jià)對(duì)象的轉(zhuǎn)印使用粘合劑來(lái)實(shí)現(xiàn)，粘合劑通常設(shè)置在轉(zhuǎn)印材料上，但是還可設(shè)置在有價(jià)對(duì)象上。優(yōu)選地，熱熔粘合物可用于此目的。當(dāng)防偽元件以無(wú)盡形式制備時(shí)，粘合劑層可僅在要轉(zhuǎn)印的防偽元件區(qū)域中設(shè)置用于轉(zhuǎn)印，或者粘合劑可僅在要轉(zhuǎn)印的區(qū)域中激活。在防偽元件轉(zhuǎn)印到有價(jià)對(duì)象期間或之后，轉(zhuǎn)印元件的載體材料通常從防偽元件的層堆積剝離。為了便于剝除，分離層(釋放層)可設(shè)置在載體材料和要?jiǎng)兂姆纻卧考g。必要時(shí)，載體材料還可保留在轉(zhuǎn)印的防偽元件上。
[0096]根據(jù)本發(fā)明的防偽元件可用于維護(hù)任何種類(lèi)的財(cái)產(chǎn)的真實(shí)性。它們優(yōu)選地用于維護(hù)有價(jià)文件的真實(shí)性，例如鈔票、支票或身份證。如此，它們可布置在有價(jià)文件的表面上或完全或部分嵌入有價(jià)文件中。特別有利地，它們用于覆蓋具有孔的有價(jià)文件中的孔。為此，根據(jù)本發(fā)明的具有透明載體基底和從有價(jià)文件兩側(cè)觀看的謹(jǐn)慎配準(zhǔn)圖案的防偽元件的優(yōu)點(diǎn)尤其得以廣泛散布。具有十分精細(xì)結(jié)構(gòu)和子圖形的陰文字還可在透射光下明顯識(shí)別。它們實(shí)際上不可能由偽造者以根據(jù)本發(fā)明獲得的精度模擬。剝除防偽元件以將它們轉(zhuǎn)印到另一有價(jià)對(duì)象在實(shí)際上也是不可能的，因?yàn)楦鶕?jù)本發(fā)明的防偽元件總是包含至少兩個(gè)粘合劑層，即它們包含粘合抗蝕層，并與粘合劑層一起連接到要保護(hù)的有價(jià)對(duì)象。當(dāng)用于粘合防偽元件和有價(jià)對(duì)象的粘合劑在其化學(xué)和物理屬性方面與防偽元件的層堆積中的抗蝕漆類(lèi)似時(shí)，防偽元件的層堆積在剝除嘗試中總是被破壞。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種制造用于防偽紙或有價(jià)對(duì)象、尤其用于有價(jià)文件的防偽元件(1)的方法，所述防偽元件具有陰文字(3)，所述方法具有以下步驟: a)通過(guò)如下方式制造第一防偽元件局部元件(10)， al)提供第一透明或半透明載體基底(11)， a2)將第一功能層(12)施加到第一載體基底(11)或先前施加的中間層(15)，a3)將抗蝕層(30)以預(yù)定圖案(7)的形式施加到所述第一功能層(12)，所述預(yù)定圖案具有抗蝕區(qū)域(33)和位于抗蝕區(qū)域之間的間隙(34)， b)通過(guò)如下方式制造第二防偽元件局部元件(20)， bl)提供第二載體基底(21)， b2)將第二功能層(22)施加到所述第二載體基底(21)或先前施加的中間層(25)， c)將第一防偽元件局部元件(10)和第二防偽元件局部元件(20)組裝為復(fù)合物(5)，使得抗蝕層(30)和第二功能層(22)彼此面向，并優(yōu)選地在升高的壓力和升高的溫度下，粘結(jié)第一防偽元件局部元件(10)和第二防偽元件局部元件(20)， d)將所述第二載體基底(21)從粘結(jié)的復(fù)合物(5)脫離，所述第二功能層(22)保持粘附到所述抗蝕區(qū)域(33)，以構(gòu)造第二功能區(qū)域(23)，同時(shí)，所述第二功能層(22)的其它區(qū)域與所述第二載體基底(21) —起脫離，從而在所述第二功能層(22)中構(gòu)造出第二間隙(24)，以及 e)借助蝕刻移除所述第一功能層(12)的未被抗蝕區(qū)域(33)保護(hù)的區(qū)域，以形成第一功能區(qū)域(13)和其間的第一間隙(14)，所述第一間隙與所述抗蝕層(30)中的間隙(34)和由抗蝕材料構(gòu)成的所述第二功能層(22)中的第二間隙(24) —起形成陰文字(3)。2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，通過(guò)如下方式制造所述第一防偽元件局部元件(10): -提供所述第一載體基底(11); -將第一壓印漆層(15)作為中間層施加到所述第一載體基底(11); -將第一金屬化物⑵作為第一功能層施加到所述第一壓印漆層(15); -在施加所述第一金屬化物(15)之前或之后壓印所述第一壓印漆層(15);以及-將所述抗蝕層(30)施加到所述第一金屬化物(12)，所述抗蝕層具有抗蝕區(qū)域(33)和間隙(34)，或者抗蝕區(qū)域(33)和間隙(34)形成在抗蝕層中。3.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其中，通過(guò)如下方式制造所述第二防偽元件局部元件(20): -提供所述第二載體基底(21); -將第二壓印漆層(25)作為中間層施加到所述第二載體基底(21); -將第二金屬化物(22)作為第二功能層施加到所述第二壓印漆層(25); -在施加所述第二金屬化物(22)之前或之后壓印所述第二壓印漆層(25)。4.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述第二功能層(22)由鎳、鉻、銀或金形成或者由鎳合金、絡(luò)合金、銀合金、金合金或抗蝕招合金形成。5.如權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述第一功能層(12)由鋁形成。6.如權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述第二功能層(22)由具有磁屬性的金屬化物、尤其鎳形成。7.如權(quán)利要求6所述的方法，其中，所述第二功能層(22)是鎳的金屬化物，第二功能區(qū)域(23)適于提供磁編碼。8.如權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述第二功能區(qū)域(23)具有尤其通過(guò)壓印可獲得的結(jié)構(gòu)，所述結(jié)構(gòu)適于提供高分辨率磁編碼。9.一種具有陰文字(3)的防偽元件(1)，所述防偽元件用于附接或至少部分地結(jié)合進(jìn)防偽紙或有價(jià)對(duì)象、尤其是有價(jià)文件中，所述防偽元件通過(guò)如權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的方法可獲得。10.一種用于將防偽元件轉(zhuǎn)印到防偽紙或有價(jià)對(duì)象、比如有價(jià)文件的轉(zhuǎn)印材料，其中，所述轉(zhuǎn)印材料具有大量構(gòu)造為轉(zhuǎn)印元件的如權(quán)利要求9所述的防偽元件(1)。11.一種用于制造防偽紙或有價(jià)對(duì)象、比如有價(jià)文件的方法，其中，將如權(quán)利要求9所述的防偽元件(1)施加到防偽紙或有價(jià)對(duì)象基底或至少部分地結(jié)合到防偽紙或有價(jià)對(duì)象基底中。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及一種用于生產(chǎn)具有陰文字(3)的防偽元件(1)的方法，包括以下步驟：a)通過(guò)如下方式生產(chǎn)第一防偽元件子元件(10)：提供第一載體基底(11)；將第一功能層(12)施加到第一載體基底(11)；將抗蝕層(30)以預(yù)定圖案(7)的形式施加到所述第一功能層(12)，所述預(yù)定圖案具有抗蝕區(qū)域(33)和位于抗蝕區(qū)域之間的凹槽(34)；b)通過(guò)如下方式制造第二防偽元件子元件(20)：提供第二載體基底(21)；將第二功能層(22)施加到所述第二載體基底(21)；c)將第一防偽元件子元件(10)和第二防偽元件子元件(20)組裝為復(fù)合物(5)，使得抗蝕層(30)和第二功能層(22)彼此面向，并將第一防偽元件子元件(10)和第二防偽元件子元件(20)粘結(jié)在一起；d)將所述第二載體基底(21)從粘結(jié)的復(fù)合物(5)脫離，由于形成了第二功能層(23)，所以所述第二功能層(22)保持粘附到所述抗蝕區(qū)域(33)，同時(shí)，所述第二功能層(22)的其它區(qū)域與所述第二載體基底(21)一起脫離，在所述第二功能層(22)中形成第二凹槽(24)；以及e)借助蝕刻移除所述第一功能層(12)的未被抗蝕區(qū)域(33)保護(hù)的區(qū)域，以形成第一功能區(qū)域(13)和第一凹槽(14)，所述第一凹槽與所述抗蝕層(30)中的凹槽(34)和由抗蝕材料制成的第二功能層(22)中的第二凹槽(24)一起形成陰文字(3)。
【IPC分類(lèi)】B42D25/00
【公開(kāi)號(hào)】CN105263719
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480017065
【發(fā)明人】W.霍夫米勒, M.拉姆, A.勞赫, T.伯查德
【申請(qǐng)人】德國(guó)捷德有限公司
【公開(kāi)日】2016年1月20日
【申請(qǐng)日】2014年4月3日
【公告號(hào)】DE102013005937A1, EP2981419A1, WO2014161667A1